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Beschichtungsmaschine für optische Elektronenkanonen
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Ringförmige Elektronenpistolen Elektronenstrahl Verdunstungsbeschichtung Maschine für Kundenbedürfnisse maßgeschneidert
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Ringförmige Elektronenpistolen Elektronenstrahl Verdunstungsbeschichtung Maschine für Kundenbedürfnisse maßgeschneidert
| Herkunftsort | Guangdong |
| Markenname | Lion King |
| Zertifizierung | CE |
Produktdetails
Beschichtungssubstrat:
Metall, Glas, Keramik, Kunststoff
Beschichtungsanwendung:
Dekorativ, funktional, schützend
Maschinengröße:
Anpassbar
Rotationsständer:
2 Sätze
Verdampfungsmaterial:
Metall, Legierung, organische Materialien
Kühlsystem:
Wasserkühlung
Beschichtungsmaterial:
Au, Ag, Al, Cu, SiO2 usw.
Beschichtungskammergröße:
Maßgeschneidert
Beschichtungseffizienz:
Hoch
Depositionsquote:
Schnell
Vakuumspiegel:
Hohes Vakuum
Beschichtungsgröße:
Anpassbar
Operation Way:
Touch-Screen
Beschichtungstemperatur:
≤200 ℃
Zeitraum garantieren:
1 Jahr
Betriebsmodus:
Handbuch/automatisch
Beschichtungsabscheidungsrate:
Einstellbar
Hervorheben:
Maschine zum Verdampfen von Elektronenstrahlen
,mit einer Breite von nicht mehr als 20 mm
,optical electron gun coating system
Zahlungs- und Versandbedingungen
Min Bestellmenge
1
Lieferzeit
45-60 Arbeitstage
Produktbeschreibung
I. Strukturelle Zusammensetzung
- Ringförmiges Elektronengewehrsystem:Ringglanz (Kathode), Anode, Fokussspule, Ablenkungsspule; Die Ringglanz katode emittiert heiße Elektronen, die durch das elektrische Feld beschleunigt und durch das Magnetfeld fokussiert und deflektiert werden,Sie bombardiert das Material innerhalb des Tiegelns.
- VakuumsystemDas ultimative Vakuum erreicht in der Regel 10−4 bis 10−6 Pa, wodurch die Kollisionen und Verunreinigungen zwischen Gasphasen verringert werden.
- Verdunstungsquelle und Schmelztiegel:Wassergekühlter Kupferguss, um Verdunstung und Reaktion von Gussmaterialien zu verhindern und die Reinheit der Filmschicht zu verbessern; Unterstützt mehrstationsweites Schalten und mehrschichtige Filmbestand.
- Substratstadium:Es kann mit Wasser erhitzt/gekühlt werden und kann sich um die Sonne/um seine eigene Achse drehen, um eine gleichmäßige Filmdicke sicherzustellen.
- Steuerungssystem:Hochspannungs-Stromversorgung, Strahlsteuerung, Überwachung der Filmdicke (Kristalloszillator), Vakuummessgerät und Automatisierungsprogramm, um die Parameter in geschlossenem Kreislauf zu steuern.
II. Arbeitsprinzip
- Erzeugung und Beschleunigung des Elektronenstrahls:Bei Elektrifizierung eines Toroidfilamentes emittiert es heiße Elektronen, die durch ein 5-10-kV-Hochspannungsfeld beschleunigt werden, um eine hohe Energie zu erzielen.
- Fokussierung und Ablenkung:Die elektromagnetische Spirale fokussiert und entleert den Elektronenstrahl auf die Oberfläche des Zielmaterials im Inneren des Tiegels, mit einer Energiedichte von 106 bis 107 W/cm2.
- Verdunstung und Ablagerung:Die kinetische Energie des Elektronenstrahls wird in thermische Energie umgewandelt, und das Zielmaterial erwärmt sich rasch bis zum Verdunstungspunkt und verdunstet.Gasphasenatome/Moleküle werden unter hohem Vakuum in gerader Linie zum Substrat transportiert und kondensieren, um einen einheitlichen Film zu bilden.
- Prozesssteuerung:Echtzeitüberwachung der Ablagerungsgeschwindigkeit und der Filmtiefe, dynamische Anpassung des Strahlstroms und der Leistung zur Gewährleistung der Prozessstabilität.
Iii. Kernmerkmale
- Hohe Energiedichte:Die lokale Temperatur kann 3000-6000°C erreichen und es kann Materialien mit hohem Schmelzpunkt wie Wolfram, Molybdän und SiO2 verdampfen.
- Extrem geringe Verschmutzung:Wassergekühlte Tiegel verringern die Verschmutzung der Tiegel und die Reinheit der Filmschicht kann über 99,99% erreichen.
- Effizienz und Rate:Hohe thermische Effizienz, Ablagerungsgeschwindigkeit 0,1-100 nm/s, Balanceeffizienz und Filmqualität.
- Flexibles Verfahren:Das Multi-Crucible-Schalten unterstützt mehrschichtige Filme.
IV. Vorteile
- Weite Materialanpassungsfähigkeit:Kompatibel mit Metallen, Legierungen, Oxiden, Halbleitern usw., besonders geeignet für feuerfeste Materialien.
- Die Filmqualität ist hervorragend:hohe Reinheit, gute Dichte und starke Haftung, die den Anforderungen hochpräziser optischer und elektronischer Geräte entsprechen.
- Kostenwirksamkeit:Hohe Materialnutzung, konzentrierter Energieverbrauch auf Zielmaterialien und geringere langfristige Betriebskosten.
- Hochgrad der Automatisierung:Die Parameter sind präzise steuerbar und gut wiederholbar, so dass sie sowohl für die wissenschaftliche Forschung als auch für die Massenproduktion geeignet sind.
V. Typische Anwendungen
- mit einer Breite von mehr als 20 mmAnti-Reflexionsfilme (AR), hochreflektierende Filme, Filter, Strahlsplitter, für Brillen, Kameras, Lasergeräte und Photovoltaikzellen verwendet.
- Halbleiter und Mikroelektronik:Metallelektroden (Al, Cu), dielektrische Schichten (SiO2, Si3N4), Sensorfolien.
- Funktionale Beschichtungen:Dekorationsfolien, leitfähige Folien (ITO), korrosions- und verschleißbeständige Beschichtungen für Luftfahrt, Werkzeuge und Unterhaltungselektronik.
- Wissenschaftliche Forschung und Kleinproduktion:Materialvorbereitung für Universitäten und Forschungsinstitute sowie maßgeschneiderte Filme für MEMS, biomedizinische Geräte usw.
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