Guangdong Zhongda Vacuum Equipment Co., Ltd.
+8613751829733

Ringförmige Elektronenstrahl-Verdampferbeschichtungsmaschine, angepasst an Kundenbedürfnisse

Ringförmige Elektronenstrahl-Verdampferbeschichtungsmaschine, angepasst an Kundenbedürfnisse
Herkunftsort:Zhaoqing, Guangdong
Markenname:Zhongda
Zertifizierung:CE
Mindestbestellmenge:1
Lieferzeit:45-60 Arbeitstage
Produktdetails
Hervorheben:

Maschine zum Verdampfen von Elektronenstrahlen

,

Ringförmige Elektronenstrahlbeschichtungsanlage

,

Optisches Elektronenstrahlbeschichtungssystem

Coating Substrate: Metall, Glas, Keramik, Kunststoff
Coating Application: Dekorativ, funktional, schützend
Machine Size: Anpassbar
Rotation Stand: 2 Sätze
Evaporation Material: Metall, Legierung, organische Materialien
Cooling System: Wasserkühlung
Coating Film Material: Au, Ag, Al, Cu, SiO2 usw.
Coating Chamber Size: Maßgeschneidert
Coating Efficiency: Hoch
Deposition Rate: Schnell
Vacuum Level: Hohes Vakuum
Coating Size: Anpassbar
Operation Way: Touch-Screen
Coating Temperature: ≤200 ℃
Guarantee Period: 1 Jahr
Operation Mode: Handbuch/automatisch
Coating Deposition Rate: Einstellbar
Produktbeschreibung
Detaillierte Spezifikationen & Funktionen
I. Strukturelle Zusammensetzung
  • Ringförmiges Elektronengewehrsystem:Ringglanz (Kathode), Anode, Fokussspule, Ablenkungsspule; Die Ringglanz katode emittiert heiße Elektronen, die durch das elektrische Feld beschleunigt und durch das Magnetfeld fokussiert und deflektiert werden,Sie bombardiert das Material innerhalb des Tiegelns.
  • VakuumsystemDas ultimative Vakuum erreicht in der Regel 10−4 bis 10−6 Pa, wodurch die Kollisionen und Verunreinigungen zwischen Gasphasen verringert werden.
  • Verdunstungsquelle und Schmelztiegel:Wassergekühlter Kupferguss, um Verdunstung und Reaktion von Gussmaterialien zu verhindern und die Reinheit der Filmschicht zu verbessern; Unterstützt mehrstationsweites Schalten und mehrschichtige Filmbestand.
  • Substratstadium:Es kann mit Wasser erhitzt/gekühlt werden und kann sich um die Sonne/um seine eigene Achse drehen, um eine gleichmäßige Filmdicke sicherzustellen.
  • Steuerungssystem:Hochspannungs-Stromversorgung, Strahlsteuerung, Überwachung der Filmdicke (Kristalloszillator), Vakuummessgerät und Automatisierungsprogramm, um die Parameter in geschlossenem Kreislauf zu steuern.
II. Arbeitsprinzip
  • Erzeugung und Beschleunigung des Elektronenstrahls:Bei Elektrifizierung eines Toroidfilamentes emittiert es heiße Elektronen, die durch ein 5-10-kV-Hochspannungsfeld beschleunigt werden, um eine hohe Energie zu erzielen.
  • Fokussierung und Ablenkung:Die elektromagnetische Spirale fokussiert und entleert den Elektronenstrahl auf die Oberfläche des Zielmaterials im Inneren des Tiegels, mit einer Energiedichte von 106 bis 107 W/cm2.
  • Verdunstung und Ablagerung:Die kinetische Energie des Elektronenstrahls wird in thermische Energie umgewandelt, und das Zielmaterial erwärmt sich rasch bis zum Verdunstungspunkt und verdunstet.Gasphasenatome/Moleküle werden unter hohem Vakuum in gerader Linie zum Substrat transportiert und kondensieren, um einen einheitlichen Film zu bilden.
  • Prozesssteuerung:Echtzeitüberwachung der Ablagerungsgeschwindigkeit und der Filmtiefe, dynamische Anpassung des Strahlstroms und der Leistung zur Gewährleistung der Prozessstabilität.
Iii. Kernmerkmale
  • Hohe Energiedichte:Die lokale Temperatur kann 3000-6000°C erreichen und es kann Materialien mit hohem Schmelzpunkt wie Wolfram, Molybdän und SiO2 verdampfen.
  • Extrem geringe Verschmutzung:Wassergekühlte Tiegel verringern die Verschmutzung der Tiegel und die Reinheit der Filmschicht kann über 99,99% erreichen.
  • Effizienz und Rate:Hohe thermische Effizienz, Ablagerungsgeschwindigkeit 0,1-100 nm/s, Balanceeffizienz und Filmqualität.
  • Flexibles Verfahren:Das Multi-Crucible-Schalten unterstützt mehrschichtige Filme.
IV. Vorteile
  • Weite Materialanpassungsfähigkeit:Kompatibel mit Metallen, Legierungen, Oxiden, Halbleitern usw., besonders geeignet für feuerfeste Materialien.
  • Die Filmqualität ist hervorragend:hohe Reinheit, gute Dichte und starke Haftung, die den Anforderungen hochpräziser optischer und elektronischer Geräte entsprechen.
  • Kostenwirksamkeit:Hohe Materialnutzung, konzentrierter Energieverbrauch auf Zielmaterialien und geringere langfristige Betriebskosten.
  • Hochgrad der Automatisierung:Die Parameter sind präzise steuerbar und gut wiederholbar, so dass sie sowohl für die wissenschaftliche Forschung als auch für die Massenproduktion geeignet sind.
V. Typische Anwendungen
  • mit einer Breite von mehr als 20 mmAnti-Reflexionsfilme (AR), hochreflektierende Filme, Filter, Strahlsplitter, für Brillen, Kameras, Lasergeräte und Photovoltaikzellen verwendet.
  • Halbleiter und Mikroelektronik:Metallelektroden (Al, Cu), dielektrische Schichten (SiO2, Si3N4), Sensorfolien.
  • Funktionale Beschichtungen:Dekorationsfolien, leitfähige Folien (ITO), korrosions- und verschleißbeständige Beschichtungen für Luftfahrt, Werkzeuge und Unterhaltungselektronik.
  • Wissenschaftliche Forschung und Kleinproduktion:Materialvorbereitung für Universitäten und Forschungsinstitute sowie maßgeschneiderte Filme für MEMS, biomedizinische Geräte usw.
Nachricht zur schnellen Antwort
Verwandte Produkte