安定回転とイオン源を備えた高精度光学フィルム用蒸着真空成膜装置
高精度光学フィルム蒸着真空成膜装置
,安定回転真空熱蒸着装置
,イオン源Eビーム蒸着装置
- ガラス、PC、PMMA基板への高精度光学多層膜の精密真空コーティング
- 優れた膜質を実現するための、お客様固有の要件に対応するカスタマイズ可能なコンポーネント
- 中心回転モード（レボリューション）基板傘フレームにより、振動と粒子発生を最小限に抑えます
- 電極板のない電子ビーム加熱方式により、安定した多層膜形成を実現
- 精密光学薄膜のための、マルチポイントオンラインモニタリングによる独自の比率制御方法
- 操作性の良いリフト機構を備えた取り外し可能な基板傘フレーム
- 均一に分布した高イオン電流密度とデュアル電子銃を備えたイオン源
- マルチポイントおよびリング状るつぼで100層以上の処理が可能
- 自動蒸着制御システムによる完全自動蒸着プロセス
- ベルジャー型またはプラネタリ型ワークラック構成の選択肢
| コンポーネント | 仕様 |
|---|---|
| 固定システム | 中心、シングルまたはスプリット構成の回転傘フレーム |
| 加熱システム | ハロゲンランプ/装甲ヒーター、最大350℃ |
| 排気システム | 低真空ポンプセット+高真空ポンプセット+クライオポンプ/ポリコールド |
| 真空制御 | 真空コントローラー、パニングおよびピラニ真空ゲージ |
| コーティングシステム | 電子銃、無酸素銅るつぼ、インピーダンス蒸着源、RF/Kaufman/Hall型イオン源 |
| インフレーションシステム | MFCまたはAPC自動圧力コントローラー |
| 膜厚制御 | 水晶制御または光制御 |
| 制御システム | PC + PLC統合 |
- 420-680nm帯域：片側の平均透過率 > 95%、反射率 < 0.5% (平均)
- 両側の平均透過率 > 98%、反射率 < 0.5% (平均)
- より高い生産量のための蒸着速度の向上
- 半導体、光電子工学、フォトニクス用途向けの高精度処理能力
- メンテナンスが容易な耐久性のある構造
ダブルドア熱蒸着真空コーティング装置（コーティング均一性≥95%、チャンバーサイズカスタマイズ可能）
Thermal Evaporation PVD Vacuum Coating Machine Double doors plastic metallized thermal evaporation PVD vacuum plating coating machine for coating aluminum film, compatible with UV spray lines. Thermal Evaporation Technology Thermal evaporation is a physical vapor deposition (PVD) technique for ...
物理蒸着蒸発真空コーティング機 380V 大容量
warranty 1 Year type Coating Production Line voltage 380Vb or customizable coating Vacuum Coating core components PLC, motor, Gear, Pump, vacuum machine chamber video outgoing-inspection Provided machinery test report Provided key selling points Free training/easy to operate substrate stainless ...
1. Core Definition and Function Through the "vacuum evaporation" technology in Physical Vapor Deposition (PVD), this equipment heats aluminum material to evaporate it into an atomic/molecular state. In a vacuum environment, these aluminum particles are uniformly deposited on the surface of plastic ...
PLCシステム pvdコーティング機器を備えた直接銃電子ビームコーティングマシン
I. Core Structure Vacuum system Core components: Vacuum chamber, molecular pump, mechanical pump, vacuum gauge (ionization type/resistance type). Function: It provides a high vacuum environment of 10⁻³ to 10⁻⁶ Pa, reducing electron beam scattering, target material oxidation and film contamination, ...
