Máquina de recubrimiento por evaporación al vacío para películas ópticas de alta precisión con rotación estable y fuente de iones
Máquina de recubrimiento por evaporación al vacío para películas ópticas de alta precisión
,Máquina de evaporación térmica al vacío con rotación estable
,Recubridor por evaporación con haz de electrones y fuente de iones
- Recubrimiento al vacío de precisión para películas multicapa ópticas de alta precisión sobre sustratos de vidrio, PC y PMMA
- Componentes personalizables para satisfacer los requisitos específicos del cliente para una calidad de película superior
- El marco de sombrilla del sustrato con modo de rotación central (revolución) minimiza la vibración y la generación de partículas
- El método de calentamiento por haz de electrones sin placas de electrodos asegura la formación estable de películas multicapa
- Método de control de proporción patentado con monitoreo en línea multipunto para películas ópticas de precisión
- Marco de sombrilla de sustrato extraíble con mecanismo de elevación bien operado
- Fuente de iones con alta densidad de corriente de iones distribuida uniformemente y dos cañones de electrones
- Capaz de procesar más de 100 capas con crisoles multipunto y en forma de anillo
- Proceso de evaporación totalmente automatizado a través del sistema de control de evaporación automático
- Elección de configuraciones de bastidor de pieza de trabajo tipo campana o tipo planetario
| Componente | Especificaciones |
|---|---|
| Sistema de Fijación | Marcos de sombrilla giratorios en el centro, configuración simple o dividida |
| Sistema de Calentamiento | Lámpara halógena/calentador blindado, hasta 350℃ |
| Sistema de Escape | Juego de bomba de bajo vacío + juego de bomba de alto vacío + bomba criogénica/Polycold |
| Control de Vacío | Controlador de vacío, medidores de vacío Panning y Pirani |
| Sistema de Recubrimiento | Cañón de electrones, crisol de cobre libre de oxígeno, fuente de evaporación de impedancia, fuente de iones tipo RF/Kaufman/Hall |
| Sistema de Inflado | Controlador de presión automático MFC o APC |
| Control del Grosor de la Película | Controlado por cristal o controlado por luz |
| Sistema de Control | Integración PC + PLC |
- Banda de 420-680nm: Transmitancia promedio en un lado > 95%, reflectancia < 0.5% (promedio)
- Transmitancia promedio en ambos lados > 98%, reflectancia < 0.5% (promedio)
- Mayor velocidad de deposición para una mayor producción
- Capacidades de procesamiento de alta precisión para aplicaciones de semiconductores, optoelectrónica y fotónica
- Construcción duradera con requisitos de mantenimiento sencillos
Máquina de recubrimiento de vacío por evaporación térmica de doble puerta con uniformidad de recubrimiento ≥ 95% y tamaño de cámara personalizable
Thermal Evaporation PVD Vacuum Coating Machine Double doors plastic metallized thermal evaporation PVD vacuum plating coating machine for coating aluminum film, compatible with UV spray lines. Thermal Evaporation Technology Thermal evaporation is a physical vapor deposition (PVD) technique for ...
Máquina de recubrimiento al vacío por evaporación por deposición física de vapor 380V de gran capacidad
warranty 1 Year type Coating Production Line voltage 380Vb or customizable coating Vacuum Coating core components PLC, motor, Gear, Pump, vacuum machine chamber video outgoing-inspection Provided machinery test report Provided key selling points Free training/easy to operate substrate stainless ...
1. Core Definition and Function Through the "vacuum evaporation" technology in Physical Vapor Deposition (PVD), this equipment heats aluminum material to evaporate it into an atomic/molecular state. In a vacuum environment, these aluminum particles are uniformly deposited on the surface of plastic ...
Máquina de recubrimiento de haz de electrones con sistema PLC
I. Core Structure Vacuum system Core components: Vacuum chamber, molecular pump, mechanical pump, vacuum gauge (ionization type/resistance type). Function: It provides a high vacuum environment of 10⁻³ to 10⁻⁶ Pa, reducing electron beam scattering, target material oxidation and film contamination, ...
