Equipaggiamento per rivestimenti ottici
Applicazioni:
AR/AF
Film ad alta riflessione
Film spettroscopico
Altre pellicole ottiche
Caratteristiche:
Equipped with 6-point crystal oscillator sensor+film thickness controller
Fonte di ioni
Equipped with double electron guns,multi-point and ring crucible
Automatic evaporation control system is used to realize automatic evaporation process Sistema di controllo dell'evaporazione automatica è usato per realizzare il processo di evaporazione automatica
Workholder can be optionally equipped with umbrella type or planetary type
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Specificità
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Camera a vuoto |
SUS 304, φ1550mmx1800mm ((H) |
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Workholder size |
φ1400 mm |
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Velocità del lavoratore |
0-60rpm (variabile) |
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Film thickness detection device (dispositivo di rilevamento dello spessore della pellicola) |
Sensore oscillatore a cristallo a 6 punti + film thickness controller |
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Evaporazione |
2 set di pistole elettroniche |
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fonte |
23cm RF ion source |
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Sistema di scarico |
Pompa meccanica+pompa di diffusione ((o pompa molecolare) + pompa di cattura criogenica |
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Prestazioni
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Pressione massima |
Below 7.0x10- 4Papà! |
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Tempo di esaurimento |
15 min ((atmosfera pressione~1.3x10- Tre.Pa) |
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Temperatura del substrato |
Massimo:350°C |
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Condizioni di lavoro |
Dimensioni dell'apparecchiatura |
circa 5500 mm ((W) x 7200 mm ((D) x 3700 mm ((H) |
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Fonte di alimentazione |
Fornitore di energia a 3 fasi, 380v, 50Hz, circa 100kVA |
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Acqua di raffreddamento |
Il flusso d'acqua è di 11 m3/h, la temperatura è di 20°C-25°C. |
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Pressione dell'aria |
Above 0.6-0.7MPa |
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Peso |
Circa 11000 kg |
1.Equipped with quartz crystal or optical film thickness control instrument, can realize automatic and precise film thickness control. È equipaggiato con cristallo di quarzo o strumento ottico per il controllo dello spessore del film, può realizzare un controllo automatico e preciso dello spessore del film.
2.Equipped with ion bombardment device purifies the substrate surface to make better adhesion between the film layer and the substrate surface and improve the quality of the film layer. Dispositivo equipaggiato con bombardamento ionico purifica la superficie del substrato per rendere migliore l'adesione tra lo strato di film e la superficie del substrato e migliorare la qualità dello strato di film.
3.Equipped with large crucible electron gun, the film material surface is smooth and the film layer is evenly distributed in the whole evaporation process Equipped with large crucible electron gun, the film material surface is smooth and the film layer is evenly distributed in the whole evaporation process
Adotta controller programmabile (PLC), touch screen (HMI) man-machine control interface, easy to operate, manual/full automatic control freely switch.
Optics Vacuum Coating Machine
Introduzione:This machine is mainly used for plating various films such as transparency enhanced film, spectroscopic film, band pass film/cutoff film, and high reflection film.Può piantare un sistema di film super grande con 100 strati di film, and a transparency enhanced film with various colors, a reflection film with a red, yellow, blue, green or rainbow color, e una pellicola di riflessione con diversi colori
Caratteristiche principali:
1In the entire evaporation process the film surface is flat and evaporation distribution is even.
2Questa macchina è equipaggiata con un strumento di controllo dello spessore del film a cristallo di quarzo per controllare automaticamente la velocità di formazione del film e il processo di metallizzazione.
3Questa macchina è equipaggiata con una fonte di ioni ad alta potenza per produrre una pellicola spessa con buona qualità.
4La struttura complessiva è razionalizzata per soddisfare meglio i requisiti di processo.
5Il sistema operativo è protetto con un interlock.
6. touch screen and PLC automatic control are used to set parameters of main components of the entire machine, to monitor the running of this machine at real time, per monitorare il funzionamento di questa macchina in tempo reale, per monitorare il funzionamento di questa macchina in tempo realee di diagnosticare i difetti in modo intelligente.
Configurazione principale:
1La camera di vuoto è una struttura a scatola di tipo verticale con una porta anteriore; la scatola è completamente fatta di acciaio inossidabile; le dimensioni della cavità interna sono Φ800mm1200mm.
2. Vacuum System Configuration: with molecular pump ((or diffusion pump), Roots pump, mechanical pumps.
3. Sistema di raffreddamento profondo con una Fast Cycle Water Vapor Cryopump
4. Work Piece Rack is an integrated arched shape work piece, can be customized according to the customer.
5. Coating system is equipped with one or two sets of high power e-type 270°magnetic deflection electronic gun scanning in XY directions.Il sistema di metallizzazione ausiliare è equipaggiato con un fonte di ioni Holl.
6. Baking: Digitally displayed and automatically controlled with a temperature control precision of ±1.5.
7Il sistema di monitoraggio dello spessore del film può controllare il tasso di evaporazione del cannone elettronico.in which the wave length is controlled within the range of 200-900nm .
8Control System: The vacuum is controlled by a 10.4 inch color touch screen coupled with a programmable logic controller. Il processo di vuoto e rivestimento sono controllati completamente automaticamente.
Specificazione dei parametri
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Modello |
ZDGX-700 |
ZDGX-1000 |
ZDGX-1100 |
ZDGX-1300 |
ZDGX-1350 |
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Dimensione della camera |
750 × 800 mm |
1000 x 1100 |
1100×1300 |
1300×1350 |
1350×1500 |
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Tipo di film di rivestimento |
Film antireflesso ottico, AR, film antireflesso a banda larga, film antireflesso a singolo punto, filtro ottico e film decorativo |
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Fabbricazione |
4 pieces of arc-shaped fixtures, single arc-shaped plate revolution, 3 pieces of plates planet rotation and revolution, 12 shafts rotation and revolution (orizzontale) |
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Struttura della camera a vuoto |
Verticale / orizzontale (304 stainless steel), vacuum system post positioned |
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Sistema a vuoto |
slide valve pump ((rotary pump), roots pump, diffusion pump, maintaining pump (optional: pump molecolare, deep cold pump, deep cold system) |
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Sistema di riscaldamento |
heated by heating tube, PID control, the max temperature: 350 degrees |
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Sistema di inflazione |
di potenza superiore a 50 kVA |
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Fuoco elettrico |
Electric beam 4 round shaped crucibles and a U shaped crucible, high voltage 4KV-8KV adjustable. Triangle wave, sine-wave and rectangle wave scanning are optional. |
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Resistenza Evaporazione Source |
2 gruppi di resistenza evaporazione source |
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Fonte ionica |
potenza 2KW, max anode current 6A. double filaments which increase the attaching force, density and reflective index of film layer (Kerr) |
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Controller di spessore del film cristallino |
controller di spessore di film di cristallo SQC-310 ((America) e PLC make up the fully automatic pumping and E-beam evaporation system. |
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Il vuoto finale |
8×104paclean e unloaded |
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Pump Time |
Da atmosfera a 5×103pa meno di 15 minuti |
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Controlling Method |
manuale, semi-automatico, completamente automatico / touch screen & PLC |
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Commento |
Can be designed according to customers request (Può essere progettato in base alle richieste dei clienti) |
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