Macchina per rivestimento a fascio elettronico di tipo E, rivestimento di componenti ottici e semiconduttori, componenti ottici a fascio elettronico

pistola elettronica di tipo E:La fonte di evaporazione del nucleo è composta da un catodo, un elettrodo di messa a fuoco e un anodo di accelerazione..Può bombardare con precisione i materiali di rivestimento ed è adatto per l'evaporazione di vari materiali ad alto punto di fusione.È anche un componente chiave che lo distingue da altri tipi di macchine di rivestimento a fascio elettronico.

Sistema a vuoto:Comprende una camera a vuoto, una pompa molecolare composita, una pompa meccanica, una valvola di cancello, ecc. La camera a vuoto adotta spesso un design a scatola a forma di U, che può garantire un ambiente di rivestimento pulito.Il sistema di aspirazione può raggiungere un grado di vuoto ≤ 6.67×10−5Pa (dopo disgasamento da cottura), riducendo l'interferenza dell'aria sulla purezza del film.

Componenti di evaporazione e di trasporto:Crematori multicellulari per lo più raffreddati ad acqua (comunemente progettati con quattro o sei celle), che impediscono al crematorio di sciogliersi e di contaminare il materiale di rivestimento,e può contenere diversi materiali contemporaneamenteQuando associato a uno stadio di riscaldamento del substrato rotante, la temperatura massima di riscaldamento del substrato può raggiungere 800°C±1°C.Può anche regolare la distanza tra il substrato e la fonte di evaporazione per garantire l'uniformità dello strato di film.

Misurazione e controllo e sistema di controllo elettrico:dotato di un regolatore di spessore della pellicola oscillatore a cristallo di quarzo, la gamma di visualizzazione dello spessore della pellicola è compresa tra 0 e 99,9999 μm,e alcuni possono essere opzionalmente equipaggiati con controllo ottico automatico dello spessore della pellicolaL'intero processo di vuoto, cottura, evaporazione, ecc. è controllato automaticamente tramite PLC e computer di controllo industriale.e comprende anche moduli di controllo ausiliari quali misurazione del vuoto e percorso del gas di lavoro.

Dopo aver avviato l'apparecchiatura, il sistema di pompaggio evacua la camera a vuoto in uno stato di vuoto elevato per ridurre la dispersione e la contaminazione delle particelle evaporate da molecole di gas.

1. Il catodo della pistola elettronica di tipo E viene riscaldato ed emette elettroni, che vengono focalizzati dall'elettrodo di messa a fuoco e accelerati all'anodo per formare un fascio di elettroni ad alta energia.che bombardano con precisione il materiale di rivestimento all'interno del crogiolo con l'aiuto di un campo magnetico.
2. Dopo aver assorbito l'elevata energia del raggio di elettroni, il materiale si riscalda rapidamente fino alla temperatura di evaporazione o di sublimazione, formando particelle gassose.
3. Le particelle gassose si muovono verso l'alto verso il substrato in un ambiente a vuoto.
4. Durante il processo di rivestimento, il regolatore dello spessore della pellicola monitora in tempo reale lo spessore dello strato di pellicola.e il sistema di controllo elettrico regola parametri come la potenza del fascio di elettroni per garantire che lo spessore dello strato di pellicola soddisfi i requisiti prestabilitiUna volta completato il rivestimento, il crogiolo può essere commutato per ottenere una deposizione di film a più strati senza distruggere l'ambiente di vuoto.

Durante il processo di rivestimento, il regolatore dello spessore della pellicola monitora in tempo reale lo spessore dello strato di pellicola.e il sistema di controllo elettrico regola parametri come la potenza del fascio di elettroni per garantire che lo spessore dello strato di pellicola soddisfi i requisiti prestabilitiUna volta completato il rivestimento, il crogiolo può essere commutato per ottenere una deposizione di film a più strati senza distruggere l'ambiente di vuoto.

• Energia concentrata e controllabile:Il fascio di elettroni ha un'elevata densità energetica e può agire direttamente sui materiali.può non solo evaporare materiali con punti di fusione superiori a 3000°C come il tungsteno e il molibdenoInoltre, la velocità di evaporazione può essere controllata regolando la corrente del fascio elettronico.
• Forte adattabilità dello strato di pellicola:Supporta l'evaporazione a sorgente singola, doppia o tripla.possono essere preparati diversi tipi di pellicole quali pellicole in lega e pellicole composite, e la stabilità dell'indice di rifrazione dello strato di pellicola è elevata (δn≤0,005).
• Combina professionalità e flessibilità:È adatto per esperimenti di piccoli lotti nella ricerca universitaria e può anche soddisfare i requisiti della produzione di piccoli lotti di livello industriale come i wafer da 6 pollici.Può essere azionato manualmente o semiautomaticamenteAlcuni modelli supportano il controllo del programma per soddisfare le esigenze di diversi scenari.

La purezza e la qualità dello strato di pellicola sono elevate:L'ambiente vuoto combinato con i crogioli raffreddati ad acqua riduce la contaminazione e la purezza dello strato di pellicola può raggiungere il 99,99% (4N).la densità dello strato di pellicola è superiore del 30% a quella del metodo ordinario di evaporazione, con una forte adesione e eccellenti prestazioni antideliquescenza.

Buona efficienza di evaporazione e ripetibilità:L'intervallo di velocità di deposizione è ampio (0,1 μm/min - 100 μm/min), in grado sia di preparare strati sottili che di deporre pellicole spesse.e un strato di pellicola consistente può essere prodotto in modo stabile con gli stessi parametri.

Alto tasso di utilizzo dei materiali:Rispetto a tecnologie come lo sputtering magnetronico, l'evaporazione del raggio di elettroni ha un tasso di utilizzo del materiale più elevato, riducendo le perdite di materiale.i crogioli multicellulari possono evitare la sostituzione frequente del materiale, migliorando così l'efficienza del rivestimento.

Nel campo dell'ottica,è l'attrezzatura principale per il rivestimento di componenti ottici come lenti laser, lenti per occhiali e vetri architettonici.miglioramento della trasmissione della luce, le prestazioni di riflessione o filtrazione dei componenti.

Nel settore dei semiconduttori ed elettronica:È utilizzato per la preparazione di pellicole sottili per componenti ottici semiconduttori, dispositivi MEMS, fotodiodi, ecc., nonché per la produzione di vetro conduttivo e pellicole sottili semiconduttori,e è compatibile con processi industriali quali le wafer da 6 pollici.

Nel settore delle nuove energie e dei sensori:Le pellicole antiriflesso per dispositivi fotovoltaici e le pellicole funzionali per sensori di precisione (come i sensori di ossido metallico,i sensori ultravioletti/infrarossi) sono preparati per garantire l'efficienza di conversione fotoelettrica e la sensibilità di rilevamento dei dispositivi.

Nei settori della ricerca scientifica e dell'insegnamento:È diventato un importante strumento per i college e le università, nonché per gli istituti di ricerca, per studiare film sottili ferroelettrici, materiali piezoelettrici, ecc.Può effettuare esperimenti di preparazione di film mono stratificati, film multicapa e film dopati, e assiste nella ricerca e nello sviluppo di nuovi materiali.