Machine de revêtement par évaporation de faisceau électronique de type E pour revêtement de composants optiques

Pistolet électronique de type E:La source d'évaporation du noyau est composée d'une cathode, d'une électrode de mise au point et d'une anode d'accélération..Il est capable de bombarder avec précision les matériaux de revêtement et convient à l'évaporation de divers matériaux à point de fusion élevé.C'est aussi un composant clé qui le distingue des autres types de machines de revêtement par faisceau d'électrons.

Système sous vide:Il comprend une chambre à vide, une pompe moléculaire composite, une pompe mécanique, une vanne de sortie, etc. La chambre à vide adopte souvent une conception de boîte en forme de U, ce qui peut assurer un environnement de revêtement propre.Le système d'aspiration peut atteindre un degré de vide ≤ 6.67×10−5Pa (après dégassage par cuisson), réduisant l'interférence de l'air sur la pureté du film.

Composants d'évaporation et de transport:des creusets multicellulaires principalement refroidis à l'eau (généralement conçus avec quatre ou six cellules), qui empêchent le creuset de se fondre et de contaminer le matériau de revêtement,et peut contenir plusieurs matériaux différents simultanémentLorsqu'il est associé à une étape de chauffage du substrat en rotation, la température maximale de chauffage du substrat peut atteindre 800 °C ± 1 °C.Il peut également régler la distance entre le substrat et la source d'évaporation pour assurer l'uniformité de la couche de film.

Système de mesure et de commande ainsi que système de commande électrique:Équipé d'un contrôleur d'épaisseur de film d'oscillateur à cristaux de quartz, la plage d'affichage de l'épaisseur de film est de 0 à 99,9999 μm,et certains peuvent être optionnellement équipés d'un contrôle automatique de l'épaisseur de la pellicule optique. L'ensemble du processus de vide, de cuisson, d'évaporation, etc. est contrôlé automatiquement par PLC et ordinateur de contrôle industriel,et comprend également des modules de commande auxiliaires tels que la mesure du vide et le chemin du gaz de travail.

Après le démarrage de l'équipement, le système de pompage évacue d'abord la chambre à vide vers un état de vide élevé afin de réduire la dispersion et la contamination des particules évaporées par les molécules de gaz.

1. La cathode du pistolet électronique de type E est chauffée et émet des électrons. Ces électrons sont focalisés par l'électrode de focalisation et accélérés à l'anode pour former un faisceau d'électrons à haute énergie,qui bombarde précisément le matériau de revêtement à l'intérieur du creuset à l'aide d'un champ magnétique.
2. Après avoir absorbé l'énergie élevée du faisceau d'électrons, le matériau chauffe rapidement jusqu'à la température d'évaporation ou de sublimation, formant des particules gazeuses.
3. Les particules gazeuses se déplacent vers le substrat dans un environnement sous vide.
4. Pendant le processus de revêtement, le contrôleur d'épaisseur de film surveille l'épaisseur de la couche de film en temps réel,et le système de commande électrique ajuste des paramètres tels que la puissance du faisceau d'électrons pour s'assurer que l'épaisseur de la couche de film répond aux exigences prédéfiniesUne fois le revêtement terminé, le creuset peut être commuté pour obtenir un dépôt de film multicouche sans détruire l'environnement sous vide.

Pendant le processus de revêtement, le contrôleur d'épaisseur de film surveille l'épaisseur de la couche de film en temps réel,et le système de commande électrique ajuste des paramètres tels que la puissance du faisceau d'électrons pour s'assurer que l'épaisseur de la couche de film répond aux exigences prédéfiniesUne fois le revêtement terminé, le creuset peut être commuté pour obtenir un dépôt de film multicouche sans détruire l'environnement sous vide.

• Énergie concentrée et contrôlable:Le faisceau d'électrons a une forte densité d'énergie et peut agir directement sur les matériaux.Il peut non seulement évaporer des matériaux dont le point de fusion est supérieur à 3000°C, tels que le tungstène et le molybdène.En outre, le taux d'évaporation peut être contrôlé en ajustant le courant du faisceau d'électrons.
• Forte adaptabilité de la couche de film:Il prend en charge l'évaporation à source unique, double ou triple.différents types de films tels que les films en alliage et les films composites peuvent être préparés, et la stabilité de l'indice de réfraction de la couche de film est élevée (δn≤0,005).
• Il combine professionnalisme et souplesse:Il convient aux expériences de petits lots dans la recherche universitaire et peut également répondre aux exigences de la production de petits lots de qualité industrielle tels que des plaquettes de 6 pouces.Il peut être utilisé manuellement ou semi-automatiquement.Certains modèles prennent en charge le contrôle du programme pour répondre aux besoins de différents scénarios.

La pureté et la qualité de la couche de film sont élevées:L'environnement sous vide combiné à des creusets refroidis à l'eau réduit la contamination et la pureté de la couche de film peut atteindre 99,99% (4N).la densité de la couche de film est supérieure de 30% à celle de la méthode d'évaporation ordinaire, avec une forte adhérence et une excellente performance anti-délicescence.

Bon rendement d'évaporation et répétabilité:La plage de vitesse de dépôt est large (0,1 μm/min - 100 μm/min), capable à la fois de préparer des couches minces et de déposer des films épais.et une couche de film cohérente peut être produite de manière stable dans les mêmes paramètres.

Taux élevé d'utilisation des matériaux:Comparé à des technologies telles que la pulvérisation par magnétron, l'évaporation par faisceau d'électrons a un taux d'utilisation du matériau plus élevé, réduisant les pertes de matériau.les creusets multicellulaires permettent d'éviter le remplacement fréquent des matériaux, améliorant ainsi l'efficacité du revêtement.

Dans le domaine de l'optiqueIl est le principal équipement pour le revêtement de composants optiques tels que les lentilles laser, les lentilles de lunettes et le verre architectural. Il peut préparer des films optiques tels que SiO2 et TiO2,amélioration de la transmission de la lumière, les performances de réflexion ou de filtrage des composants.

Dans le domaine des semi-conducteurs et de l'électronique:Il est utilisé pour la préparation de films minces pour les composants optiques semi-conducteurs, les dispositifs MEMS, les photodiodes, etc., ainsi que pour la production de verre conducteur et de films minces semi-conducteurs,et est compatible avec les procédés de qualité industrielle tels que les plaquettes de 6 pouces.

Dans le domaine des nouvelles énergies et de la détection:Les films antireflet pour les appareils photovoltaïques et les films fonctionnels pour les capteurs de précision (tels que les capteurs d'oxyde de métal,les capteurs ultraviolets/infrarouges) sont préparés pour assurer l'efficacité de conversion photoélectrique et la sensibilité de détection des dispositifs.

Dans les domaines de la recherche scientifique et de l'enseignement:Il est devenu un outil important pour les collèges et les universités ainsi que pour les instituts de recherche pour étudier les films minces ferroélectriques, les matériaux piézoélectriques, etc.Il peut réaliser des expériences de préparation de films monocouches, des films multicouches et des films dopés, et aider à la recherche et au développement de nouveaux matériaux.