เครื่องเคลือบด้วยลำอิเล็กตรอนแบบ E-type สำหรับเคลือบชิ้นส่วนออปติคัลและชิ้นส่วนออปติคัลเซมิคอนดักเตอร์

ปืนอิเล็กตรอนประเภท E:แหล่งระเหยแกนประกอบด้วยคาโทด, อิเล็กทรอนที่ตั้งเป้าหมาย, และแอโนดเร่ง. แหล่งอิเล็กทรอนมีจุดเกือบกลมและมีฟังก์ชันสแกนเร็ว.มันสามารถระเบิดวัสดุเคลือบอย่างแม่นยํา และเหมาะสําหรับการปั๊มน้ําของวัสดุต่างๆที่มีจุดละลายสูงมันยังเป็นส่วนประกอบหลักที่แยกมันจากชนิดอื่น ๆ ของเครื่องเคลือบแสงอิเล็กตรอน.

ระบบสูบ:มันประกอบด้วยห้องว่าง, ปั๊มโมเลกุลประกอบ, ปั๊มกลไก, วาล์วประตู, ฯลฯ ห้องว่างมักใช้การออกแบบกล่องทรง U, ซึ่งสามารถรับประกันสภาพแวดล้อมเคลือบที่สะอาดระบบดูดฝุ่นสามารถบรรลุระดับความว่าง ≤6.67×10−5Pa (หลังการถอนแก๊สจากการอบ) ลดการแทรกแซงของอากาศต่อความบริสุทธิ์ของฟิล์ม

ส่วนประกอบการระเหยและพกพา:หมึกหลายเซลล์ที่ทําความเย็นด้วยน้ําส่วนใหญ่ (มักถูกออกแบบด้วยเซลล์ 4 หรือ 6 ตัว) ที่ป้องกันหมึกจากการละลายตัวเองและมลพิษวัสดุเคลือบและสามารถเก็บวัสดุที่แตกต่างกันได้หลายอย่างพร้อมกันเมื่อคู่กับระดับการทําความร้อน substrate ที่หมุนเวียน, อุณหภูมิการทําความร้อน substrate ที่สูงสุดสามารถถึง 800 °C ± 1 °Cมันยังสามารถปรับระยะห่างระหว่างพื้นฐานและแหล่งระเหยเพื่อให้แน่ใจว่าความเหมือนกันของชั้นหนัง.

ระบบวัดและควบคุม และระบบควบคุมไฟฟ้า:อุปกรณ์พร้อมกับเครื่องควบคุมความหนาของฟิล์มออสซิลเลาเตอร์คริสตัลควอตซ์ ระยะการแสดงความหนาของฟิล์มคือ 0-99.9999 μmและบางส่วนสามารถติดตั้งด้วยการเลือก ด้วยการควบคุมความหนาของฟิล์มออทคอมทางออทคอมกระบวนการทั้งหมดของความว่าง, การอบ, การเหยื่อปรุง, เป็นต้นถูกควบคุมโดยอัตโนมัติโดย PLC และคอมพิวเตอร์ควบคุมอุตสาหกรรมและยังมีโมดูลควบคุมช่วย เช่น การวัดระยะว่างและเส้นทางก๊าซทํางาน.

หลังจากที่อุปกรณ์เริ่มทํางาน ระบบปั๊มก่อนจะถอนห้องว่างไปสู่ภาวะว่างสูง เพื่อลดการกระจายและปนเปื้อนของอนุภาคที่ระเหยโดยโมเลกุลก๊าซ

1. คาโทดของปืนอิเล็กตรอนประเภท E ถูกทําความร้อนและปล่อยอิเล็กตรอน อิเล็กตรอนเหล่านี้ถูกโฟกัสโดยอิเล็กตรอนโฟกัสและเร่งที่แอโนดเพื่อสร้างรังอิเล็กตรอนพลังงานสูงซึ่งบุกระเบิดวัสดุเคลือบภายในกระบอกด้วยความแม่นยํา ด้วยความช่วยเหลือของสนามแม่เหล็ก.
2. หลังจากที่ดูดซึมพลังงานสูงของรังไฟฟ้าอิเล็กตรอน วัสดุจะร้อนขึ้นอย่างรวดเร็วถึงอุณหภูมิการเหยื่อ หรืออุณหภูมิการย่อยขึ้น
3. ส่วนละเอียดเป็นก๊าซเคลื่อนย้ายขึ้นไปยังพื้นฐานในสภาพแวดล้อมว่าง เนื่องจากความต้านทานเล็กต่อการเคลื่อนไหวของอนุภาคภายใต้แวกว่าง พวกเขาสามารถปรับความหนาแน่นได้อย่างเท่าเทียมกันบนพื้นผิวของพื้นฐาน
4. ระหว่างกระบวนการเคลือบ, เครื่องควบคุมความหนาของฟิล์มติดตามความหนาของชั้นฟิล์มในเวลาจริง,และระบบควบคุมไฟฟ้าปรับปริมาตร เช่น พลังการขั้วอิเล็กตรอน เพื่อให้แน่ใจว่าความหนาของชั้นหนังตอบสนองความต้องการที่กําหนดไว้หลังจากที่การเคลือบเสร็จสิ้น, หมึกสามารถเปลี่ยนเพื่อบรรลุการฝากหนังหลายชั้นโดยไม่ทําลายสภาพแวดล้อมว่าง.

ระหว่างกระบวนการเคลือบ, เครื่องควบคุมความหนาของฟิล์มติดตามความหนาของชั้นฟิล์มในเวลาจริง,และระบบควบคุมไฟฟ้าปรับปริมาตร เช่น พลังการขั้วอิเล็กตรอน เพื่อให้แน่ใจว่าความหนาของชั้นหนังตอบสนองความต้องการที่กําหนดไว้หลังจากที่การเคลือบเสร็จสิ้น, หมึกสามารถเปลี่ยนเพื่อบรรลุการฝากหนังหลายชั้นโดยไม่ทําลายสภาพแวดล้อมว่าง.

• พลังงานมุ่งเน้นและควบคุมได้:กระแสอิเล็กตรอนมีความหนาแน่นของพลังงานสูง และสามารถทํางานโดยตรงกับวัสดุมันสามารถระเหยวัสดุที่มีจุดละลายมากกว่า 3000 °C เช่น วอลฟ์สเทนและโมลิบเดนม, แต่ยังป้องกันการอุ่นเกินในท้องถิ่นและความเสียหายของวัสดุที่มีความสามารถในการนําไฟที่ต่ํา. นอกจากนี้, อัตราการเหยื่อออกสามารถควบคุมโดยการปรับกระแสกระแสอิเล็กตรอน.
• ความสามารถในการปรับปรุงชั้นหนังที่แข็งแรง:มันสนับสนุนการระเหยจากแหล่งเดียว, แหล่งสองหรือแหล่งสาม โดยการวางวัสดุที่แตกต่างกันสามารถเตรียมฟิล์มหลายชนิด เช่น ฟิล์มเหล็กเหล็ก และฟิล์มประกอบและความมั่นคงของดัชนีการหดของชั้นหนังสูง (δn≤0.005)
• มันรวมความเชี่ยวชาญและความยืดหยุ่นมันเหมาะสําหรับการทดลองชุดเล็กในงานวิจัยมหาวิทยาลัย และยังสามารถตอบสนองความต้องการของการผลิตชุดขนาดเล็กในระดับอุตสาหกรรม เช่น วอฟเฟอร์ 6 นิ้วสามารถทํางานด้วยมือหรือครึ่งอัตโนมัติบางรุ่นรองรับการควบคุมโปรแกรมเพื่อตอบสนองความต้องการของกรณีที่แตกต่างกัน

ความบริสุทธิ์และคุณภาพของชั้นหนังสูง:สภาพแวดล้อมระบายความว่างรวมกับตู้เย็นด้วยน้ํา ลดการปนเปื้อน และความบริสุทธิ์ของชั้นหนังสามารถถึง 99.99% (เกรด 4N)ความหนาแน่นของชั้นหนังสูงกว่า 30% ของวิธีการระเหยทั่วไป, ด้วยความแน่นแข็งแรงและการทํางานที่ดี antideliquescence.

ประสิทธิภาพการระเหยที่ดีและสามารถซ้ําได้ระยะความเร็วการฝากที่กว้าง (0.1μm/min - 100μm/min) สามารถเตรียมชั้นบางและฝากหนังหนาได้ ความสามารถในการซ้ํากระบวนการของกระบวนการเคลือบมีความสูง (CPK≥1.67),และชั้นหนังที่คงที่สามารถผลิตได้อย่างมั่นคง ภายใต้ปารามิเตอร์เดียวกัน.

อัตราการใช้งานวัสดุสูงเมื่อเปรียบเทียบกับเทคโนโลยี เช่น การกระจายแม็กเนตรอน การระเหยรังไฟอิเล็กตรอน มีอัตราการใช้งานวัสดุที่สูงขึ้น ลดการสูญเสียวัสดุเครื่องปั่นหลายเซลล์สามารถหลีกเลี่ยงการเปลี่ยนวัสดุบ่อย, ส่งผลต่อประสิทธิภาพการเคลือบ

ในสาขาของแสงสว่างมันคืออุปกรณ์หลักสําหรับการเคลือบส่วนประกอบทางออทติก เช่น เลเซอร์เลนส์, เลนส์แว่นตา, และกระจกสถาปัตยกรรมเพิ่มการส่งแสงความสามารถในการสะท้อนหรือกรองขององค์ประกอบ

ในสาขาของครึ่งประสาทและอิเล็กทรอนิกส์:ใช้สําหรับการเตรียมฟิล์มบางสําหรับองค์ประกอบออฟติกครึ่งตัวนํา, อุปกรณ์ MEMS, โฟโตดีโอเดส, ฯลฯ,และเข้ากันได้กับกระบวนการประเภทอุตสาหกรรม เช่น วอฟเฟอร์ 6 นิ้ว.

ในด้านพลังงานใหม่และการตรวจจับฟิล์มป้องกันการสะท้อนแสงสําหรับอุปกรณ์ไฟฟ้าไฟฟ้า และฟิล์มทํางานสําหรับเซ็นเซอร์ความแม่นยํา (เช่นเซ็นเซอร์โอกไซด์โลหะเครื่องตรวจจับอัลตราไวโอเล็ต / อินฟราเรด) ได้เตรียมไว้เพื่อรับรองประสิทธิภาพการแปลงไฟฟ้าแสงและความรู้สึกในการตรวจจับของอุปกรณ์.

ในสาขาวิจัยวิทยาศาสตร์และการสอนมันกลายเป็นอุปกรณ์สําคัญสําหรับวิทยาลัยและมหาวิทยาลัย รวมถึงสถาบันวิจัยในการศึกษาฟิล์มบางไฟฟ้าไฟฟ้า, วัสดุไฟฟ้าไฟฟ้าปิเซโอ, ฯลฯมันสามารถดําเนินการทดลองการเตรียมของหนังชั้นเดียว, ฟิล์มหลายชั้นและฟิล์มที่มียาเสพติด และช่วยในการวิจัยและพัฒนาวัสดุใหม่