PVD Magnetron-Sputter-Vakuum-Beschichtungsmaschine für die Beschichtung von Metallteilen der Telefonrückseite
PVD Magnetron-Sputter-Vakuum-Beschichtungsmaschine für die Beschichtung von Metallteilen der Telefonrückseite
Herkunftsort
Guangdong
Markenname
Lion King
Zertifizierung
CE
Produktdetails
Anwendung:
Optisch, dekorativ, funktional
Beschichtungsprodukt:
Glas, Metall, Kunststoff, Keramik usw.
Beschichtungsfarbe:
Gold, Silber, Schwarz, Blau, Grün usw.
Zielgröße:
Anpassbar
Zielmaterial:
Ti, Al, Cr, Au, Ag, Cu
Beschichtungstechnologie:
Magnetronsputter
Beschichtungen:
Zinn, Tic, Ticn, Tialn, Crn, Cu, Au, DLC
Beschichtungsfarben:
Schwarz/Blau/Rot/Gold/Roségold/Blau/Silber usw.
Maschinengröße:
Anpassen
Beschichtungsdicke:
0,01–10 Mikrometer
Vakuumsystem:
Hohes Vakuum
Schicht Gleichmäßigkeit:
≤ ± 5%
Beschichtungsprozess:
Magnetronsputter
Stromversorgung:
DC/RF/AC
Substratmaterial:
Glas, Metall, Keramik, Kunststoff
Substratgröße:
Anpassbar
Beschichtungsstruktur:
Einzelschicht, Mehrschicht, Gradient usw.
Kontrollsystem:
SPS, Touchscreen, automatisch
Größe der Beschichtungsausrüstung:
Anpassbar
Beschichtungsmaterial:
Metall, Legierung, Keramik, Verbundmaterial
Beschichtungsmethode:
Magnetronsputter
Hervorheben:
PVD-Magnetron-Sputter-Beschichtungsmaschine
,
Vakuum-Beschichtungsmaschine für Metallteile
,
Beschichtungsmaschine für die Telefonrückseite
Zahlungs- und Versandbedingungen
Min Bestellmenge
1
Lieferzeit
45 bis 60 Tage
Produktbeschreibung
Magnetron-Sputtern
Technologieübersicht
Das Magnetron-Sputtern ist eine vielseitige Physical Vapor Deposition (PVD)Technik, die weit verbreitet ist, um hochwertige Dünnschichten auf verschiedenen Substraten abzuscheiden. Es funktioniert durch Ionisierung eines Edelgases (z. B. Argon) in einer Hochvakuumkammer (Druck < 10⁻³ Torr), wodurch Plasma erzeugt wird. Energetische Ionen aus dem Plasma bombardieren ein Targetmaterial und schleudern Atome aus, die sich dann als gleichmäßige, haftende Schicht auf dem Substrat ablagern. Diese Methode eignet sich besonders für Metalle, Legierungen, Keramiken und Verbundwerkstoffe und bietet eine präzise Kontrolle über die Schichtzusammensetzung und -dicke.
Funktionsprinzip
Plasmaerzeugung: Ein Hochspannungs-Elektrofeld ionisiert Argongas und erzeugt Ar⁺-Ionen und Elektronen.
Magnetische Einschluss: Ein Magnetfeld (senkrecht zum elektrischen Feld) fängt Elektronen in der Nähe der Targetoberfläche ein, wodurch die Ionisierungseffizienz und die Plasmadichte erhöht werden.
Sputterprozess: Beschleunigte Ar⁺-Ionen treffen auf das Target, lösen Atome, die zum Substrat wandern und eine dünne Schicht bilden. Das Magnetfeld minimiert den Elektronenbeschuss des Substrats und reduziert Hitzeschäden.
Hauptvorteile
Gleichmäßigkeit & Haftung: Erzeugt Schichten mit außergewöhnlicher Gleichmäßigkeit der Dicke (±5 %) und starker Substrathaftung aufgrund des hochenergetischen Ionenbeschusses.
Materialvielfalt: Kompatibel mit Metallen (z. B. Ti, Cu), Keramiken (z. B. SiO₂, Al₂O₃) und Halbleitern.
Niedertemperaturabscheidung: Geeignet für wärmeempfindliche Materialien wie Kunststoffe und Polymere.
Prozesskontrolle: Ermöglicht eine präzise Abstimmung der Schichteigenschaften (z. B. Leitfähigkeit, Härte) über Plasmaparameter.
Mehrkomponentenbeschichtungen: Unterstützt das Co-Sputtern mehrerer Targets zur Herstellung von Legierungen oder Gradientenschichten.
Angewandte Industrien
Elektronik: IC-Gehäuse, Display-Panels und Photovoltaikzellen.
Optik: Entspiegelungsbeschichtungen, Spiegel und optische Filter.
Werkzeugbau: Verschleißfeste Beschichtungen für Schneidwerkzeuge und Formen.
Automobil: Dekorative und korrosionsbeständige Oberflächen auf Zierteilen und Komponenten.
Medizin: Biokompatible Beschichtungen für Implantate und Instrumente.
Beschichtungseffekte & Farben
Oberflächenausführungen: Metallischer Glanz, matte Texturen oder strukturierte Muster.
Farbbereich: Silber, Gold, Schwarz, Blau und kundenspezifische Farbtöne durch reaktives Sputtern (z. B. TiN für goldähnliche Oberflächen).
Strukturtypen
Planarmagnetron: Ideal für großflächige Abscheidung (z. B. Glas oder Paneele).
Rotationsmagnetron: Erhöht die Targetausnutzung und die Abscheidungsrate für zylindrische oder gekrümmte Substrate.
Unbalanciertes Magnetron: Erzeugt Plasma mit hoher Ionendichte für dichte, haftende Schichten.
Substratmaterialien
Kunststoffe (ABS, PET, PC), Glas, Keramik, Metalle und Verbundwerkstoffe.
Beschichtungsmaterialien
Metalle: Ti, Cr, Ag, Al, Cu, Au.
Keramiken: SiO₂, Al₂O₃, TiO₂, Si₃N₄.
Legierungen: NiCr, TiAl und Superlegierungen.
Unterstützende Produktionslinien
Integriert mit Nachbeschichtungsprozessen wie UV-Härtung oder Plasmabehandlung für verbesserte Funktionalität.
Verbrauchsmaterialien
Targetmaterialien (metallisch/keramisch), Argongas und Sputter-Netzteile.
Anwendungen
Optik: Hochreflektierende Spiegel und Blendschutzbeschichtungen.
Elektronik: Transparente leitfähige Oxide (ITO) für Touchscreens.
Luft- und Raumfahrt: Wärmedämmschichten auf Turbinenschaufeln.
Architekturglas: Beschichtungen mit niedrigem Emissionsgrad (Low-E) für Energieeffizienz.
Anpassung
Unsere Systeme bieten modulare Designs mit konfigurierbaren Magnetron-Arrays, Vakuumpumpsystemen und Prozesssteuerungssoftware, um spezifische Abscheidungsanforderungen zu erfüllen.
Magnetron-Beschichtungsanlagenmodell (Höhe ≤ 1,3 m)
Mehrachsige Planetenbewegung mit Frequenzregelung (kann gesteuert und angepasst werden)
Backen
Temperatur
Normaltemperatur~300℃ bis 450℃~600℃ kann gesteuert und angepasst werden (PID-Temperaturregelung)
Gas
3 oder 4 Wege Arbeitsgasflussregelung und Anzeigesystem passend zum automatischen Gaszugabesystem
Ar, N2, O2, C2H2,etc.
Kühlung
Methode
Wasserkühlkreislauf, ausgestattet mit Industriekühlturm oder industriellem Wasserkühler (Kältemaschine) oder Kryogensystem (Kunden stellen bereit)
Steuerung
Manuell, halbautomatisch, automatisch, Touchscreen-Bedienung, SPS- oder computergesteuert
Luftdruck
0,5-0,8 MPa
Wasser
≤25℃ ≥0,2 MPa
Warnung
Das Alarmsystem funktioniert bei Wassermangel, Überspannung, Stromkreisunterbrechung und anderen anormalen Situationen und führt entsprechende Schutzmaßnahmen durch
Gesamtleistung
25~65KW
45~85KW
65~105KW
85~115KW
95~125KW
100~130KW
Ausgang
Spannung 380V, Frequenz 50Hz (entsprechend dem nationalen Stromstandard der Kunden)
Besetzung
15~50m²
15~50m²
25~55m²
25~55m²
35~55m²
35~55m²
Bemerkung
Entwurf und Herstellung von Sondermaschinen nach Kundenwunsch, kann Magnetron-Sputter-Target, MF-Zwillings-Target usw. hinzufügen.