品質 PVDマグネトロンスパッタ真空コーティング機、携帯電話背面カバー金属部品用工場

PVDマグネトロンスパッタ真空コーティング機、携帯電話背面カバー金属部品用

原産地:広東省肇慶市

ブランド名:Zhongda

認証:CE

最低注文数量:1

納期:45~60 日

タグ:

PVD マグネトロンスプッティングコーティングマシン

金属部品用真空コーティング機

携帯電話背面カバーコーティング機

Application: 光学的、装飾的、機能的

Coating Product: ガラス、金属、プラスチック、セラミックなど

Coating Color: 金、銀、黒、青、緑など。

Target Size: カスタマイズ可能

Target Material: Ti、Al、Cr、Au、Ag、Cu

Coating Technology: マグネトロンスパッタリング

Coatings: Tin、Tic、Ticn、Tialn、Crn、Cu、Au、DLC

Coating Colors: ブラック/ブルー/レッド/ゴールド//ローズゴールド/ブルー/シルバーなど。

Machine Size: カスタマイズ

Coating Thickness: 0.01～10ミクロン

Vacuum System: 高い真空

Coating Uniformity: ≤±5％

Coating Process: マグネトロンスパッタリング

Power Supply: DC/RF/AC

Substrate Material: ガラス、金属、セラミック、プラスチック

Substrate Size: カスタマイズ可能

Coating Structure: 単層、多層、勾配など。

Control System: PLC、タッチスクリーン、自動

Coating Equipment Size: カスタマイズ可能

Coating Material: 金属、合金、セラミック、複合材料

Coating Method: マグネトロンスパッタリング

製品説明

詳細な仕様と特徴

マグネトロンスパッタリング

技術概要

マグネトロンスパッタリングは、物理蒸着（PVD）であり、様々な基板上に高品質な薄膜を堆積させるために広く使用されている汎用的な技術です。これは、高真空チャンバー（圧力< 10⁻³ Torr）内で希ガス（例：アルゴン）をイオン化し、プラズマを生成することによって動作します。プラズマからの高エネルギーイオンがターゲット材料を衝撃し、原子を放出させ、それが基板上に均一で密着性の高い膜として堆積します。この方法は、金属、合金、セラミックス、複合材料に特に適しており、膜の組成と厚さを精密に制御できます。

動作原理

プラズマ生成: 高電圧電界がアルゴンガスをイオン化し、Ar⁺イオンと電子を生成します。
磁気閉じ込め: 磁場（電界と直交）がターゲット表面付近で電子を閉じ込め、イオン化効率とプラズマ密度を高めます。
スパッタリングプロセス: 加速されたAr⁺イオンがターゲットを叩き、原子をはじき出し、それが基板に移動して薄膜を形成します。磁場は、基板への電子の衝撃を最小限に抑え、熱による損傷を軽減します。

主な利点

均一性と密着性: 高エネルギーイオン衝撃により、優れた膜厚均一性（±5％）と強力な基板密着性を実現します。
材料の多様性: 金属（例：Ti、Cu）、セラミックス（例：SiO₂、Al₂O₃）、半導体に対応しています。
低温堆積: プラスチックやポリマーなどの熱に弱い材料に適しています。
プロセス制御: プラズマパラメータを介して、膜特性（例：導電性、硬度）の精密な調整を可能にします。
多成分コーティング: 合金またはグラデーション層の生成のために、複数のターゲットの共スパッタリングをサポートします。

適用産業

エレクトロニクス: ICパッケージング、ディスプレイパネル、太陽電池。
光学: 反射防止コーティング、ミラー、光学フィルター。
工具: 切削工具や金型の耐摩耗性コーティング。
自動車: トリムやコンポーネントの装飾および耐食性仕上げ。
医療: インプラントや器具の生体適合性コーティング。

コーティング効果と色

表面仕上げ: 金属光沢、マットテクスチャ、またはテクスチャパターン。
色の範囲: 銀、金、黒、青、および反応性スパッタリングによるカスタム色相（例：金のような仕上がりのTiN）。

構造タイプ

平面マグネトロン: 大面積堆積（例：ガラスまたはパネル）に最適です。
回転マグネトロン: 円筒形または湾曲した基板のターゲット利用率と堆積速度を向上させます。
アンバランスマグネトロン: 高イオン密度のプラズマを生成し、高密度で密着性の高い膜を実現します。

基板材料

プラスチック（ABS、PET、PC）、ガラス、セラミックス、金属、複合材料。

コーティング材料

金属：Ti、Cr、Ag、Al、Cu、Au。
セラミックス：SiO₂、Al₂O₃、TiO₂、Si₃N₄。
合金：NiCr、TiAl、および超合金。

サポートする生産ライン

UV硬化やプラズマ処理などの後処理プロセスと統合して、機能性を向上させます。

消耗品

ターゲット材料（金属/セラミック）、アルゴンガス、およびスパッタリング電源。

用途

光学: 高反射ミラーと反射防止コーティング。
エレクトロニクス: タッチスクリーン用の透明導電性酸化物（ITO）。
航空宇宙: タービンブレードの熱障壁コーティング。
建築用ガラス: 省エネのための低放射率（low-E）コーティング。

カスタマイズ

当社のシステムは、特定の堆積要件を満たすために、構成可能なマグネトロンアレイ、真空ポンプシステム、およびプロセス制御ソフトウェアを備えたモジュール設計を提供しています。

マグネトロンコーティング装置モデル（高さ≤1.3m）
モデル	Lion-0710	Lion-1012	Lion-1212	Lion-1412	Lion-1612	Lion-1813
真空チャンバー	Φ700×H1000mm	Φ1000×H1200mm	Φ1200×H1200mm	Φ1400×H1200mm	Φ1600×H1200mm	Φ1800×H1300mm
用途	時計業界、3C業界、衛生器具業界、ジュエリー業界
用途	時計アクセサリー、携帯電話アクセサリー、メガネフレーム、衣類、装飾照明、衛生陶器、ハードウェアスーツケース、ガラス、セラミック、プラスチックなど。
コーティング膜	Ti-Gold、ローズゴールド、シャンパンゴールド、ジャパニーズゴールド、ブライトシルバー、レインボー、ジュエリーブルー、ローズレッド、ブラックなど。
真空	垂直ドア構造、空気圧ポンプシステムと水冷システムを装備
真空システム	サステイニングポンプ+メカニカルポンプ+ルーツポンプ+拡散ポンプまたは分子ポンプ（お客様の要件に応じた特定のモデル）
真空	1セットピラニ、1セット冷陰極、1セットダイヤフラムゲージ
供給タイプ	DC電源、MF電源、パルス電源（バイアス電源、アーク電源）
究極	1.0〜6.0×10⁻⁴Pa、無負荷冷却

バイアス電源	20KW/1セット	20KW/1セット	20KW/1セット	30KW/1セット	40KW/1セット	60KW/1セット
マグネトロン電源	1〜2セット	1〜2セット	2〜3セット	2〜3セット	3〜4セット	3〜4セット
回転	周波数制御付き多軸プラネタリ（制御および調整可能）
ベーキング温度	常温〜300℃から450℃ 〜600℃制御および調整可能（PID温度制御）
ガス	3または4方向の作動ガス流量制御および表示システム、自動ガス添加システムと一致
ガス	Ar、N2、O2、C2H2など。
冷却方法	水冷循環、工業用冷却塔または工業用チラー（冷凍機）を装備、または極低温システム。（お客様が提供）
制御	手動、半自動、自動、タッチスクリーン操作、PLCまたはコンピュータ制御
空気圧	0.5〜0.8MPa
水	≤25℃≥0.2MPa
警告	水不足、過電圧、回路の断線などの異常事態が発生した場合、アラームシステムが作動し、関連する保護を実行します。
総電力	25〜65KW	45〜85KW	65〜105KW	85〜115KW	95〜125KW	100〜130KW
出力	電圧380V、周波数50Hz（お客様の国の電気規格に準拠）
占有面積	15〜50m²	15〜50m²	25〜55m²	25〜55m²	35〜55m²	35〜55m²
備考	お客様の要件に応じて特殊な機械を設計および製造し、マグネトロンのスパッタリングターゲット、MFツインターゲットなどを追加できます。

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