Η εξάχνωση με μαγνήτριο είναι μια ευέλικτη Φυσική Εναπόθεση Ατμών (PVD) τεχνική που χρησιμοποιείται ευρέως για την εναπόθεση λεπτών φιλμ υψηλής ποιότητας σε διάφορα υποστρώματα. Λειτουργεί με την ιονισμό ενός ευγενούς αερίου (π.χ., αργού) σε ένα θάλαμο υψηλού κενού (πίεση < 10⁻³ Torr), δημιουργώντας πλάσμα. Τα ενεργητικά ιόντα από το πλάσμα βομβαρδίζουν ένα υλικό στόχου, εκτοξεύοντας άτομα που στη συνέχεια εναποτίθενται στο υπόστρωμα ως ένα ομοιόμορφο, προσκολλημένο φιλμ. Αυτή η μέθοδος είναι ιδιαίτερα κατάλληλη για μέταλλα, κράματα, κεραμικά και σύνθετα υλικά, προσφέροντας ακριβή έλεγχο στη σύνθεση και το πάχος του φιλμ.
Αρχή Λειτουργίας
Δημιουργία Πλάσματος: Ένα ηλεκτρικό πεδίο υψηλής τάσης ιονίζει το αέριο αργού, παράγοντας ιόντα Ar⁺ και ηλεκτρόνια.
Μαγνητική Περιορισμός: Ένα μαγνητικό πεδίο (ορθογώνιο προς το ηλεκτρικό πεδίο) παγιδεύει τα ηλεκτρόνια κοντά στην επιφάνεια του στόχου, ενισχύοντας την απόδοση ιονισμού και την πυκνότητα του πλάσματος.
Διαδικασία Εξάχνωσης: Τα επιταχυνόμενα ιόντα Ar⁺ χτυπούν τον στόχο, αποκολλώντας άτομα που ταξιδεύουν στο υπόστρωμα και σχηματίζουν ένα λεπτό φιλμ. Το μαγνητικό πεδίο ελαχιστοποιεί τον βομβαρδισμό των ηλεκτρονίων στο υπόστρωμα, μειώνοντας τη θερμική ζημιά.
Βασικά Πλεονεκτήματα
Ομοιομορφία & Πρόσφυση: Παράγει φιλμ με εξαιρετική ομοιομορφία πάχους (±5%) και ισχυρή πρόσφυση στο υπόστρωμα λόγω του βομβαρδισμού ιόντων υψηλής ενέργειας.
Ευελιξία Υλικών: Συμβατό με μέταλλα (π.χ., Ti, Cu), κεραμικά (π.χ., SiO₂, Al₂O₃) και ημιαγωγούς.
Εναπόθεση σε Χαμηλή Θερμοκρασία: Κατάλληλο για ευαίσθητα στη θερμότητα υλικά όπως πλαστικά και πολυμερή.
Έλεγχος Διαδικασίας: Επιτρέπει τον ακριβή συντονισμό των ιδιοτήτων του φιλμ (π.χ., αγωγιμότητα, σκληρότητα) μέσω των παραμέτρων του πλάσματος.
Επιστρώσεις Πολλαπλών Συστατικών: Υποστηρίζει την συν-εξάχνωση πολλαπλών στόχων για την παραγωγή κράματος ή στρώσεων διαβάθμισης.
Εφαρμοσμένες Βιομηχανίες
Ηλεκτρονικά: Συσκευασία IC, οθόνες και φωτοβολταϊκά κύτταρα.
Οπτική: Αντιανακλαστικές επιστρώσεις, καθρέφτες και οπτικά φίλτρα.
Εργαλεία: Ανθεκτικές στην φθορά επιστρώσεις για εργαλεία κοπής και καλούπια.
Αυτοκίνητα: Διακοσμητικά και ανθεκτικά στη διάβρωση φινιρίσματα σε διακοσμητικά στοιχεία και εξαρτήματα.
Ιατρική: Βιοσυμβατές επιστρώσεις για εμφυτεύματα και όργανα.
Επιδράσεις & Χρώματα Επίστρωσης
Φινιρίσματα Επιφανειών: Μεταλλική λάμψη, ματ υφές ή υφές με σχέδια.
Εύρος Χρωμάτων: Ασημί, χρυσό, μαύρο, μπλε και προσαρμοσμένες αποχρώσεις μέσω αντιδραστικής εξάχνωσης (π.χ., TiN για χρυσοειδή φινιρίσματα).
Τύποι Δομών
Επίπεδο Μαγνήτριο: Ιδανικό για εναπόθεση μεγάλης επιφάνειας (π.χ., γυαλί ή πάνελ).
Περιστροφικό Μαγνήτριο: Ενισχύει την εκμετάλλευση του στόχου και τον ρυθμό εναπόθεσης για κυλινδρικά ή καμπύλα υποστρώματα.
Μη Ισορροπημένο Μαγνήτριο: Δημιουργεί πλάσμα με υψηλή πυκνότητα ιόντων για πυκνά, προσκολλημένα φιλμ.
Υλικά Υποστρώματος
Πλαστικά (ABS, PET, PC), γυαλί, κεραμικά, μέταλλα και σύνθετα υλικά.
Υλικά Επίστρωσης
Μέταλλα: Ti, Cr, Ag, Al, Cu, Au.
Κεραμικά: SiO₂, Al₂O₃, TiO₂, Si₃N₄.
Κράματα: NiCr, TiAl και υπερκράματα.
Υποστηρικτικές Γραμμές Παραγωγής
Ενσωματώνεται με μετα-επικαλυπτικές διεργασίες όπως η σκλήρυνση UV ή η επεξεργασία πλάσματος για βελτιωμένη λειτουργικότητα.
Αναλώσιμα
Υλικά στόχου (μεταλλικά/κεραμικά), αέριο αργού και τροφοδοτικά εξάχνωσης.
Εφαρμογές
Οπτική: Καθρέφτες υψηλής ανακλαστικότητας και αντιανακλαστικές επιστρώσεις.
Ηλεκτρονικά: Διαφανή αγώγιμα οξείδια (ITO) για οθόνες αφής.
Αεροδιαστημική: Επιστρώσεις θερμικού φραγμού σε πτερύγια στροβίλων.
Αρχιτεκτονικό Γυαλί: Επιστρώσεις χαμηλής εκπομπής (low-E) για ενεργειακή απόδοση.
Προσαρμογή
Τα συστήματά μας προσφέρουν αρθρωτά σχέδια με διαμορφώσιμους πίνακες μαγνητρονίων, συστήματα άντλησης κενού και λογισμικό ελέγχου διεργασιών για την κάλυψη συγκεκριμένων απαιτήσεων εναπόθεσης.
Πολυαξονική πλανητική με έλεγχο συχνότητας (μπορεί να ελεγχθεί και να ρυθμιστεί)
Ψήσιμο
Θερμοκρασία
Κανονική θερμοκρασία~300℃ έως 450℃~600℃ μπορεί να ελεγχθεί και να ρυθμιστεί (έλεγχος θερμοκρασίας PID)
Αέριο
3 ή 4 τρόποι ελέγχου ροής αερίου εργασίας και σύστημα εμφάνισης που ταιριάζει με το αυτόματο σύστημα προσθήκης αερίου
Ar, N2, O2, C2H2, κ.λπ.
Ψύξη
Μέθοδος
Κυκλοφορία ψύξης νερού, εξοπλισμένο με βιομηχανικό πύργο ψύξης ή βιομηχανικό ψύκτη νερού (μηχανή ψύξης), ή κρυογονικό σύστημα. (παρέχεται από τους πελάτες)
Έλεγχος
Χειροκίνητο, ημιαυτόματο, αυτόματο, λειτουργία οθόνης αφής, έλεγχος PLC ή υπολογιστή
Πίεση Αέρα
0.5-0.8MPa
Νερό
≤25℃ ≥0.2MPa
Προειδοποίηση
Το σύστημα συναγερμού θα λειτουργήσει όταν συμβεί υδροπενία, υπέρταση, διακοπή κυκλώματος, όπως μη φυσιολογική κατάσταση και θα πραγματοποιήσει σχετική προστασία
Συνολική Ισχύς
25~65KW
45~85KW
65~105KW
85~115KW
95~125KW
100~130KW
Έξοδος
Τάση 380V, Συχνότητα 50Hz (εξοπλισμός σύμφωνα με το εθνικό πρότυπο ηλεκτρικής ενέργειας των πελατών)
Κατοχή
15~50m²
15~50m²
25~55m²
25~55m²
35~55m²
35~55m²
Σημείωση
Σχεδιάστε και παράγετε ειδική μηχανή σύμφωνα με τις απαιτήσεις των πελατών, μπορείτε να προσθέσετε στόχο εξάχνωσης μαγνητρονίου, στόχο MF twins, κ.λπ.