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Macchina per rivestimento sottovuoto a sputtering magnetron PVD per rivestimento di oggetti metallici per la cover posteriore del telefono

Macchina per rivestimento sottovuoto a sputtering magnetron PVD per rivestimento di oggetti metallici per la cover posteriore del telefono
Luogo d'origine:Zhaoqing, Guangdong
Marchio:Zhongda
Certificazione:CE
Quantità minima di ordine:1
Tempi di consegna:45~60 giorni
Dettagli del prodotto
Evidenziare:

Macchina per rivestimento con sputtering a magnetron PVD

,

Macchina per rivestimento sottovuoto per oggetti metallici

,

Macchina per rivestimento della cover posteriore del telefono

Application: Ottico, decorativo, funzionale
Coating Product: Vetro, metallo, plastica, ceramica, ecc
Coating Color: Oro, argento, nero, blu, verde, ecc.
Target Size: Personalizzabile
Target Material: Ti, Al, Cr, Au, Ag, Cu
Coating Technology: Magnetron Sputtering
Coatings: Tin, Tic, Ticn, Tialn, CRN, Cu, Au, DLC
Coating Colors: Nero/Blu/Rosso/oro//oro rosa/blu/argento ecc.
Machine Size: Personalizza
Coating Thickness: 0,01-10 micron
Vacuum System: Vuoto alto
Coating Uniformity: ≤ ± 5%
Coating Process: Magnetron Sputtering
Power Supply: DC/RF/AC
Substrate Material: Vetro, metallo, ceramica, plastica
Substrate Size: Personalizzabile
Coating Structure: Single strato, multistrato, gradiente, ecc.
Control System: PLC, touch screen, automatico
Coating Equipment Size: Personalizzabile
Coating Material: Materiale in metallo, lega, ceramica, composito
Coating Method: Magnetron Sputtering
Descrizione del prodotto
Specifiche e Caratteristiche Dettagliate

Sputtering a magnetron

Panoramica della tecnologia

Lo sputtering a magnetron è un metodo versatile Deposizione fisica da vapore (PVD) tecnica ampiamente utilizzata per depositare film sottili di alta qualità su vari substrati. Funziona ionizzando un gas nobile (ad esempio, argon) in una camera ad alto vuoto (pressione < 10⁻³ Torr), creando plasma. Gli ioni energetici del plasma bombardano un materiale bersaglio, espellendo atomi che poi si depositano sul substrato come un film uniforme e aderente. Questo metodo è particolarmente adatto per metalli, leghe, ceramiche e materiali compositi, offrendo un controllo preciso sulla composizione e sullo spessore del film.

Principio di funzionamento

  • Generazione di plasma: Un campo elettrico ad alta tensione ionizza il gas argon, producendo ioni Ar⁺ ed elettroni.
  • Confinamento magnetico: Un campo magnetico (ortogonale al campo elettrico) intrappola gli elettroni vicino alla superficie del bersaglio, migliorando l'efficienza di ionizzazione e la densità del plasma.
  • Processo di sputtering: Gli ioni Ar⁺ accelerati colpiscono il bersaglio, staccando atomi che viaggiano verso il substrato e formano un film sottile. Il campo magnetico riduce al minimo il bombardamento di elettroni del substrato, riducendo i danni da calore.

Vantaggi principali

  1. Uniformità e adesione: Produce film con eccezionale uniformità di spessore (±5%) e forte adesione al substrato grazie al bombardamento ionico ad alta energia.
  2. Versatilità dei materiali: Compatibile con metalli (ad es. Ti, Cu), ceramiche (ad es. SiO₂, Al₂O₃) e semiconduttori.
  3. Deposizione a bassa temperatura: Adatto per materiali sensibili al calore come plastica e polimeri.
  4. Controllo del processo: Consente la regolazione precisa delle proprietà del film (ad es. conduttività, durezza) tramite i parametri del plasma.
  5. Rivestimenti multi-componente: Supporta il co-sputtering di più bersagli per la produzione di leghe o strati sfumati.

Settori applicativi

  • Elettronica: Packaging IC, pannelli di visualizzazione e celle fotovoltaiche.
  • Ottica: Rivestimenti antiriflesso, specchi e filtri ottici.
  • Utensili: Rivestimenti resistenti all'usura per utensili da taglio e stampi.
  • Automotive: Finiture decorative e resistenti alla corrosione su finiture e componenti.
  • Medicina: Rivestimenti biocompatibili per impianti e strumenti.

Effetti e colori del rivestimento

  • Finiture superficiali: Lucentezza metallica, trame opache o motivi strutturati.
  • Gamma di colori: Argento, oro, nero, blu e tonalità personalizzate tramite sputtering reattivo (ad es. TiN per finiture simili all'oro).

Tipi di struttura

  • Magnetron planare: Ideale per la deposizione su aree estese (ad es. vetro o pannelli).
  • Magnetron rotante: Migliora l'utilizzo del bersaglio e la velocità di deposizione per substrati cilindrici o curvi.
  • Magnetron sbilanciato: Genera plasma con alta densità ionica per film densi e aderenti.

Materiali del substrato

  • Plastica (ABS, PET, PC), vetro, ceramica, metalli e compositi.

Materiali di rivestimento

  • Metalli: Ti, Cr, Ag, Al, Cu, Au.
  • Ceramiche: SiO₂, Al₂O₃, TiO₂, Si₃N₄.
  • Leghe: NiCr, TiAl e superleghe.

Linee di produzione di supporto

  • Si integra con processi post-rivestimento come polimerizzazione UV o trattamento al plasma per una maggiore funzionalità.

Materiali di consumo

  • Materiali bersaglio (metallici/ceramici), gas argon e alimentatori di sputtering.

Applicazioni

  • Ottica: Specchi ad alta riflettività e rivestimenti antiriflesso.
  • Elettronica: Ossidi conduttivi trasparenti (ITO) per touchscreen.
  • Aerospaziale: Rivestimenti a barriera termica su pale di turbine.
  • Vetro architettonico: Rivestimenti a bassa emissività (bassa E) per l'efficienza energetica.

Personalizzazione

I nostri sistemi offrono design modulari con array magnetron configurabili, sistemi di pompaggio sottovuoto e software di controllo del processo per soddisfare specifici requisiti di deposizione.

 

 

Modello di apparecchiatura di rivestimento a magnetron (altezza ≤ 1,3 m)
Modello
Lion-0710
Lion-1012
Lion-1212
Lion-1412
Lion-1612
Lion-1813
Camera a vuoto
Ф700×H1000mm
Ф1000×H1200mm
Ф1200×H1200mm
Ф1400×H1200mm
Ф1600×H1200mm
Ф1800×H1300mm
Applicazione
industria orologiera, industria 3C, industria degli apparecchi sanitari, industria della gioielleria
accessori per orologi, accessori per telefoni cellulari, montature per occhiali, vestiti, illuminazione decorativa, sanitari, valigie hardware, vetro, ceramica e plastica, ecc.
Pellicola di rivestimento
Ti-Oro, Oro rosa, Oro champagne, Oro giapponese, Argento brillante, Arcobaleno, Blu gioiello, Rosso rosa, Nero, ecc.
Vuoto
Struttura a porta verticale, dotata di sistema di pompaggio dell'aria e sistema di raffreddamento ad acqua
Sistema a vuoto
Pompa di mantenimento + Pompa meccanica + Pompa Roots + Pompa a diffusione
o Pompa a molecola (modello specifico in base alle esigenze dei clienti)
Vuoto
1 set pirani, 1 set catodo freddo, 1 set manometro a diaframma
Tipo di alimentazione
Alimentazione CC, alimentazione MF, alimentazione a impulsi (alimentazione di polarizzazione, alimentazione ad arco)
Ultimo
1.0- 6.0×10-4Pa, Raffreddamento senza carico
           
Alimentazione di polarizzazione
20KW/1 set
20KW/1 set
20KW/1 set
30KW/1 set
40KW/1 set
60KW/1 set
Alimentatore magnetron
1-2 set
1-2 set
2-3 set
2-3 set
3-4 set
3-4 set
Rotazione
Planetario multi-asse con controllo della frequenza (può essere controllato e regolato)
Cottura
Temperatura
Temperatura normale~300℃ a 450℃ ~600℃ può essere controllato e regolato (controllo della temperatura PID)
Gas
Sistema di controllo e visualizzazione del flusso di gas di lavoro a 3 o 4 vie abbinato al sistema di aggiunta automatica del gas
Ar, N2, O2, C2H2,ecc.
Raffreddamento
Metodo
Circolazione di raffreddamento ad acqua, dotata di torre di raffreddamento industriale o refrigeratore d'acqua industriale (refrigeratore), o sistema criogenico. (i clienti forniscono)
Controllo
Manuale, semi-automatico, automatico, funzionamento touch screen, PLC o controllo computerizzato
Pressione dell'aria
0,5-0,8 MPa
Acqua
≤25℃ ≥0,2 MPa
Avviso
Il sistema di allarme funzionerà in caso di idropenia, sovratensione, interruzione del circuito e altre situazioni anomale e attuerà la relativa protezione
Potenza totale
25~65KW
45~85KW
65~105KW
85~115KW
95~125KW
100~130KW
Uscita
Tensione 380 V, frequenza 50 Hz (equipaggiamento secondo lo standard elettrico nazionale dei clienti)
Occupazione
15~50m²
15~50m²
25~55m²
25~55m²
35~55m²
35~55m²
Osservazione
Progettare e produrre macchine speciali in base alle esigenze dei clienti, è possibile aggiungere un bersaglio di sputtering a magnetron, un bersaglio gemello MF, ecc.
Messaggio per risposta rapida
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