Máy Phủ Phun Magnetron PVD cho Phủ Lớp Phủ Chân Không trên Các Vật Dụng Kim Loại Mặt Sau Điện Thoại

Phun rải Magnetron

Tổng quan về công nghệ

Nguyên tắc hoạt động

• Tạo plasma: Một điện trường điện áp cao ion hóa khí argon, tạo ra các ion Ar⁺ và electron.
• Giam giữ từ tính: Một từ trường (vuông góc với điện trường) bẫy các electron gần bề mặt đích, tăng cường hiệu quả ion hóa và mật độ plasma.
• Quá trình phun rải: Các ion Ar⁺ được gia tốc va vào đích, làm bật các nguyên tử di chuyển đến chất nền và tạo thành một lớp màng mỏng. Từ trường giảm thiểu sự bắn phá electron của chất nền, giảm thiểu hư hỏng do nhiệt.

Ưu điểm chính

1. Tính đồng đều & Độ bám dính: Tạo ra các lớp màng có độ đồng đều về độ dày đặc biệt (±5%) và độ bám dính mạnh vào chất nền do sự bắn phá ion năng lượng cao.
2. Tính linh hoạt của vật liệu: Tương thích với kim loại (ví dụ: Ti, Cu), gốm (ví dụ: SiO₂, Al₂O₃) và chất bán dẫn.
3. Lắng đọng ở nhiệt độ thấp: Thích hợp cho các vật liệu nhạy cảm với nhiệt như nhựa và polyme.
4. Kiểm soát quy trình: Cho phép điều chỉnh chính xác các đặc tính của màng (ví dụ: độ dẫn điện, độ cứng) thông qua các thông số plasma.
5. Lớp phủ đa thành phần: Hỗ trợ phun rải đồng thời nhiều đích để sản xuất hợp kim hoặc lớp gradient.

Các ngành công nghiệp ứng dụng

• Điện tử: Đóng gói IC, bảng hiển thị và tế bào quang điện.
• Quang học: Lớp phủ chống phản xạ, gương và bộ lọc quang học.
• Dụng cụ: Lớp phủ chống mài mòn cho dụng cụ cắt và khuôn.
• Ô tô: Lớp hoàn thiện trang trí và chống ăn mòn trên các chi tiết trang trí và bộ phận.
• Y tế: Lớp phủ tương thích sinh học cho cấy ghép và dụng cụ.

Hiệu ứng & Màu sắc lớp phủ

• Bề mặt hoàn thiện: Ánh kim loại, kết cấu mờ hoặc hoa văn có kết cấu.
• Dải màu: Bạc, vàng, đen, xanh lam và các màu sắc tùy chỉnh thông qua phun rải phản ứng (ví dụ: TiN cho lớp hoàn thiện giống vàng).

Các loại cấu trúc

• Magnetron phẳng: Lý tưởng để lắng đọng diện tích lớn (ví dụ: kính hoặc tấm).
• Magnetron quay: Tăng cường khả năng sử dụng đích và tốc độ lắng đọng cho các chất nền hình trụ hoặc cong.
• Magnetron không cân bằng: Tạo ra plasma có mật độ ion cao cho các lớp màng đặc, bám dính.

Vật liệu chất nền

• Nhựa (ABS, PET, PC), kính, gốm, kim loại và vật liệu composite.

Vật liệu lớp phủ

• Kim loại: Ti, Cr, Ag, Al, Cu, Au.
• Gốm: SiO₂, Al₂O₃, TiO₂, Si₃N₄.
• Hợp kim: NiCr, TiAl và siêu hợp kim.

Hỗ trợ dây chuyền sản xuất

• Tích hợp với các quy trình sau khi phủ như xử lý bằng tia UV hoặc plasma để tăng cường chức năng.

Vật tư tiêu hao

• Vật liệu đích (kim loại/gốm), khí argon và nguồn điện phun rải.

Ứng dụng

• Quang học: Gương có độ phản xạ cao và lớp phủ chống chói.
• Điện tử: Ôxít dẫn điện trong suốt (ITO) cho màn hình cảm ứng.
• Hàng không vũ trụ: Lớp phủ rào cản nhiệt trên cánh tuabin.
• Kính kiến trúc: Lớp phủ phát xạ thấp (low-E) để tiết kiệm năng lượng.

Tùy chỉnh