Chất lượng Máy Phủ Phun Magnetron PVD cho Phủ Lớp Phủ Chân Không trên Các Vật Dụng Kim Loại Mặt Sau Điện Thoại Nhà máy

Máy Phủ Phun Magnetron PVD cho Phủ Lớp Phủ Chân Không trên Các Vật Dụng Kim Loại Mặt Sau Điện Thoại

Nơi xuất xứ:Triệu Khánh, Quảng Đông

Tên thương hiệu:Zhongda

Chứng nhận:CE

Số lượng đặt hàng tối thiểu:1

Thời gian giao hàng:45~60 ngày

Tags:

Máy phún xạ Magnetron

Hệ thống lớp phủ chân không phun magnetron

Máy phủ chân không phun magnetron

Chi tiết sản phẩm

Làm nổi bật:

Máy sơn phơi phơi từ PVD

Máy phủ chân không cho các vật dụng kim loại

Máy phủ lớp phủ mặt sau điện thoại

Application: Quang học, trang trí, chức năng

Coating Product: Thủy tinh, kim loại, nhựa, gốm, vv

Coating Color: Vàng, bạc, đen, xanh dương, xanh lá cây, v.v.

Target Size: Có thể tùy chỉnh

Target Material: Ti,Al, Cr, Au,Ag,Cu

Coating Technology: Magnetron Sputtering

Coatings: TIN, TIC, TICN, TIALN, CRN, CU, AU, DLC

Coating Colors: Đen / Xanh / Đỏ / vàng // vàng hồng / xanh / bạc, v.v.

Machine Size: Tùy chỉnh

Coating Thickness: 0,01-10 micron

Vacuum System: Độ chân không cao

Coating Uniformity: ≤ ± 5%

Coating Process: Magnetron Sputtering

Power Supply: DC/RF/AC

Substrate Material: Thủy tinh, kim loại, gốm, nhựa

Substrate Size: Có thể tùy chỉnh

Coating Structure: Lớp đơn, nhiều lớp, gradient, v.v.

Control System: PLC, Màn hình cảm ứng, Tự động

Coating Equipment Size: Có thể tùy chỉnh

Coating Material: Kim loại, hợp kim, gốm, vật liệu composite

Coating Method: Magnetron Sputtering

Mô tả sản phẩm

Thông số kỹ thuật chi tiết và đặc điểm

Phun rải Magnetron

Tổng quan về công nghệ

Phun rải magnetron là một phương pháp Tạo lắng đọng hơi vật lý (PVD) đa năng được sử dụng rộng rãi để lắng đọng các màng mỏng chất lượng cao trên nhiều loại chất nền khác nhau. Nó hoạt động bằng cách ion hóa một loại khí trơ (ví dụ: argon) trong buồng chân không cao (áp suất < 10⁻³ Torr), tạo ra plasma. Các ion năng lượng từ plasma bắn phá vật liệu đích, đẩy các nguyên tử sau đó lắng đọng lên chất nền dưới dạng một lớp màng đồng đều, bám dính. Phương pháp này đặc biệt phù hợp với kim loại, hợp kim, gốm và vật liệu hợp chất, cung cấp khả năng kiểm soát chính xác thành phần và độ dày của màng.

Nguyên tắc hoạt động

Tạo plasma: Một điện trường điện áp cao ion hóa khí argon, tạo ra các ion Ar⁺ và electron.
Giam giữ từ tính: Một từ trường (vuông góc với điện trường) bẫy các electron gần bề mặt đích, tăng cường hiệu quả ion hóa và mật độ plasma.
Quá trình phun rải: Các ion Ar⁺ được gia tốc va vào đích, làm bật các nguyên tử di chuyển đến chất nền và tạo thành một lớp màng mỏng. Từ trường giảm thiểu sự bắn phá electron của chất nền, giảm thiểu hư hỏng do nhiệt.

Ưu điểm chính

Tính đồng đều & Độ bám dính: Tạo ra các lớp màng có độ đồng đều về độ dày đặc biệt (±5%) và độ bám dính mạnh vào chất nền do sự bắn phá ion năng lượng cao.
Tính linh hoạt của vật liệu: Tương thích với kim loại (ví dụ: Ti, Cu), gốm (ví dụ: SiO₂, Al₂O₃) và chất bán dẫn.
Lắng đọng ở nhiệt độ thấp: Thích hợp cho các vật liệu nhạy cảm với nhiệt như nhựa và polyme.
Kiểm soát quy trình: Cho phép điều chỉnh chính xác các đặc tính của màng (ví dụ: độ dẫn điện, độ cứng) thông qua các thông số plasma.
Lớp phủ đa thành phần: Hỗ trợ phun rải đồng thời nhiều đích để sản xuất hợp kim hoặc lớp gradient.

Các ngành công nghiệp ứng dụng

Điện tử: Đóng gói IC, bảng hiển thị và tế bào quang điện.
Quang học: Lớp phủ chống phản xạ, gương và bộ lọc quang học.
Dụng cụ: Lớp phủ chống mài mòn cho dụng cụ cắt và khuôn.
Ô tô: Lớp hoàn thiện trang trí và chống ăn mòn trên các chi tiết trang trí và bộ phận.
Y tế: Lớp phủ tương thích sinh học cho cấy ghép và dụng cụ.

Hiệu ứng & Màu sắc lớp phủ

Bề mặt hoàn thiện: Ánh kim loại, kết cấu mờ hoặc hoa văn có kết cấu.
Dải màu: Bạc, vàng, đen, xanh lam và các màu sắc tùy chỉnh thông qua phun rải phản ứng (ví dụ: TiN cho lớp hoàn thiện giống vàng).

Các loại cấu trúc

Magnetron phẳng: Lý tưởng để lắng đọng diện tích lớn (ví dụ: kính hoặc tấm).
Magnetron quay: Tăng cường khả năng sử dụng đích và tốc độ lắng đọng cho các chất nền hình trụ hoặc cong.
Magnetron không cân bằng: Tạo ra plasma có mật độ ion cao cho các lớp màng đặc, bám dính.

Vật liệu chất nền

Nhựa (ABS, PET, PC), kính, gốm, kim loại và vật liệu composite.

Vật liệu lớp phủ

Kim loại: Ti, Cr, Ag, Al, Cu, Au.
Gốm: SiO₂, Al₂O₃, TiO₂, Si₃N₄.
Hợp kim: NiCr, TiAl và siêu hợp kim.

Hỗ trợ dây chuyền sản xuất

Tích hợp với các quy trình sau khi phủ như xử lý bằng tia UV hoặc plasma để tăng cường chức năng.

Vật tư tiêu hao

Vật liệu đích (kim loại/gốm), khí argon và nguồn điện phun rải.

Ứng dụng

Quang học: Gương có độ phản xạ cao và lớp phủ chống chói.
Điện tử: Ôxít dẫn điện trong suốt (ITO) cho màn hình cảm ứng.
Hàng không vũ trụ: Lớp phủ rào cản nhiệt trên cánh tuabin.
Kính kiến trúc: Lớp phủ phát xạ thấp (low-E) để tiết kiệm năng lượng.

Tùy chỉnh

Hệ thống của chúng tôi cung cấp các thiết kế mô-đun với các mảng magnetron có thể cấu hình, hệ thống bơm chân không và phần mềm điều khiển quy trình để đáp ứng các yêu cầu lắng đọng cụ thể.

Mô hình thiết bị phủ Magnetron (Chiều cao ≤ 1,3m)
Mô hình	Lion-0710	Lion-1012	Lion-1212	Lion-1412	Lion-1612	Lion-1813
Buồng chân không	Ф700×H1000mm	Ф1000×H1200mm	Ф1200×H1200mm	Ф1400×H1200mm	Ф1600×H1200mm	Ф1800×H1300mm
Ứng dụng	ngành công nghiệp đồng hồ, ngành công nghiệp 3C, ngành công nghiệp thiết bị vệ sinh, ngành công nghiệp trang sức
Ứng dụng	phụ kiện đồng hồ, phụ kiện điện thoại di động, gọng kính, quần áo, đèn trang trí, đồ dùng vệ sinh, vali phần cứng, kính, gốm và nhựa, v.v.
Màng phủ	Ti-Vàng, Vàng hồng, Vàng champagne, Vàng Nhật Bản, Bạc sáng, Cầu vồng, Xanh ngọc, Đỏ hồng, Đen, v.v.
Chân không	Cấu trúc cửa dọc, trang bị hệ thống bơm không khí và hệ thống làm mát bằng nước
Hệ thống chân không	Bơm duy trì + Bơm cơ học + Bơm gốc + Bơm khuếch tán hoặc Bơm phân tử (mô hình cụ thể theo yêu cầu của khách hàng)
Chân không	1 bộ pirani, 1 bộ cathode lạnh, 1 bộ đồng hồ đo màng
Loại cung cấp	Nguồn DC, nguồn MF, nguồn xung (nguồn thiên áp, nguồn hồ quang)
Cực hạn	1.0- 6.0×10-4Pa, Không tải làm mát

Nguồn thiên áp	20KW/1 bộ	20KW/1 bộ	20KW/1 bộ	30KW/1 bộ	40KW/1 bộ	60KW/1 bộ
Nguồn điện Magnetron	1-2 bộ	1-2 bộ	2-3 bộ	2-3 bộ	3-4 bộ	3-4 bộ
Xoay	Hành tinh đa trục với điều khiển tần số (có thể được điều khiển và điều chỉnh)
Nướng Nhiệt độ	Nhiệt độ bình thường～300℃ đến 450℃ ～600℃ có thể được điều khiển và điều chỉnh (điều khiển nhiệt độ PID)
Khí	Hệ thống điều khiển và hiển thị lưu lượng khí làm việc 3 hoặc 4 chiều phù hợp với hệ thống thêm khí tự động
Khí	Ar, N2, O2, C2H2, v.v.
Làm mát Phương pháp	Tuần hoàn làm mát bằng nước, trang bị tháp giải nhiệt công nghiệp hoặc máy làm lạnh nước công nghiệp (máy lạnh), hoặc hệ thống đông lạnh.(khách hàng cung cấp)
Kiểm soát	Thủ công, bán tự động, tự động, vận hành màn hình cảm ứng, điều khiển PLC hoặc máy tính
Áp suất không khí	0.5-0.8MPa
Nước	≤25℃ ≥0.2MPa
Cảnh báo	Hệ thống báo động sẽ hoạt động khi xảy ra tình trạng bất thường như thiếu nước, quá áp, đứt mạch và thực hiện các biện pháp bảo vệ liên quan
Tổng công suất	25~65KW	45~85KW	65~105KW	85~115KW	95~125KW	100~130KW
Đầu ra	Điện áp 380V, Tần số 50Hz (trang bị theo tiêu chuẩn điện quốc gia của khách hàng)
Chiếm dụng	15~50m²	15~50m²	25~55m²	25~55m²	35~55m²	35~55m²
Ghi chú	Thiết kế và sản xuất máy đặc biệt theo yêu cầu của khách hàng, có thể thêm đích phun rải magnetron, đích đôi MF, v.v.

Tin nhắn trả lời nhanh

Sản phẩm liên quan

Thiết bị phủ phun magnetron cho các bộ phận phần cứng điện thoại di động được tùy chỉnh theo nhu cầu của khách hàng, máy phủ PVD

I. Core Structure The magnetron sputtering coating equipment for mobile phone hardware parts is a dedicated device designed for small hardware parts such as mobile phone frames, keys, and camera decorative rings. Its core structure is divided into five major modules: vacuum system, sputtering system...

Máy phun Magnetron DC chính xác cao với kích thước tùy chỉnh và lớp phủ đa lớp cho kim loại và thủy tinh

DC Magnetron Sputtering Machine - Vacuum PVD Coating System This high-precision DC Magnetron Sputtering Machine is designed for superior vacuum PVD coating applications on metal and glass substrates. The equipment features rational structure design, uniform coating distribution, excellent quality ...

Chất lượng Máy Phủ Màng Chân Không Phun Sputtering Magnetron với Công Nghệ Ion Đa Vòm, Kích Thước Buồng Tùy Chỉnh và Mật Độ Phủ Cao ≥99.9% cho Ứng Dụng Trang Trí và Chức Năng Nhà máy

Máy Phủ Màng Chân Không Phun Sputtering Magnetron với Công Nghệ Ion Đa Vòm, Kích Thước Buồng Tùy Chỉnh và Mật Độ Phủ Cao ≥99.9% cho Ứng Dụng Trang Trí và Chức Năng

Magnetron Sputtering Vacuum Coating Machine Professional PVD vacuum coating magnetron sputtering machine specifically designed for cutlery and tableware applications, including knives. Working Principle Vacuum magnetron sputtering coating utilizes an orthogonal electromagnetic field where charged ...

Chất lượng Máy Phủ Màng Chân Không Phun Sputter Magnetron Cấp Công Nghiệp với Tốc Độ Bồi Đắp Cao và Chất Lượng Màng Vượt Trội cho Khả Năng Tương Thích Vật Liệu Rộng Rãi Nhà máy

Máy Phủ Màng Chân Không Phun Sputter Magnetron Cấp Công Nghiệp với Tốc Độ Bồi Đắp Cao và Chất Lượng Màng Vượt Trội cho Khả Năng Tương Thích Vật Liệu Rộng Rãi

Industrial Grade Reaction Magnetron Sputtering Vacuum Coater Machine Professional PVD vacuum coating system designed for high-end hardware and stainless steel parts with advanced magnetron sputtering technology. Product Specifications Product Type PVD Vacuum Coating Machine Primary Applications High...