PVD 마그네트론 스퍼터링 진공 코팅 기계 - 휴대폰 뒷면 커버 금속 품목 코팅용

마그네트론 스퍼터링

기술 개요

작동 원리

• 플라즈마 생성: 고전압 전기장이 아르곤 가스를 이온화하여 Ar⁺ 이온과 전자를 생성합니다.
• 자기 가둠: 자기장(전기장에 수직)이 타겟 표면 근처에서 전자를 가두어 이온화 효율과 플라즈마 밀도를 향상시킵니다.
• 스퍼터링 공정: 가속된 Ar⁺ 이온이 타겟을 때려 원자를 떨어뜨리고, 이 원자가 기판으로 이동하여 박막을 형성합니다. 자기장은 기판에 대한 전자의 충격을 최소화하여 열 손상을 줄입니다.

주요 장점

1. 균일성 및 접착력: 고에너지 이온 충돌로 인해 뛰어난 두께 균일성(±5%)과 강한 기판 접착력을 가진 막을 생성합니다.
2. 재료 다양성: 금속(예: Ti, Cu), 세라믹(예: SiO₂, Al₂O₃) 및 반도체와 호환됩니다.
3. 저온 증착: 플라스틱 및 폴리머와 같이 열에 민감한 재료에 적합합니다.
4. 공정 제어: 플라즈마 매개변수를 통해 막 특성(예: 전도성, 경도)을 정밀하게 조정할 수 있습니다.
5. 다성분 코팅: 합금 또는 기울기 층 생산을 위해 여러 타겟을 동시 스퍼터링을 지원합니다.

적용 산업

• 전자: IC 패키징, 디스플레이 패널 및 태양 전지.
• 광학: 반사 방지 코팅, 거울 및 광학 필터.
• 공구: 절삭 공구 및 금형에 대한 내마모성 코팅.
• 자동차: 트림 및 부품에 대한 장식 및 내식성 마감.
• 의료: 임플란트 및 기기에 대한 생체 적합성 코팅.

코팅 효과 및 색상

• 표면 마감: 금속 광택, 무광택 질감 또는 질감 패턴.
• 색상 범위: 반응성 스퍼터링을 통한 은색, 금색, 검은색, 파란색 및 맞춤형 색상(예: 금색 마감의 TiN).

구조 유형

• 평면 마그네트론: 넓은 영역 증착에 이상적(예: 유리 또는 패널).
• 로터리 마그네트론: 원통형 또는 곡선 기판의 타겟 활용률 및 증착 속도를 향상시킵니다.
• 불균형 마그네트론: 조밀하고 부착력이 강한 막을 위해 높은 이온 밀도를 가진 플라즈마를 생성합니다.

기판 재료

• 플라스틱(ABS, PET, PC), 유리, 세라믹, 금속 및 복합 재료.

코팅 재료

• 금속: Ti, Cr, Ag, Al, Cu, Au.
• 세라믹: SiO₂, Al₂O₃, TiO₂, Si₃N₄.
• 합금: NiCr, TiAl 및 초합금.

지원 생산 라인

• UV 경화 또는 플라즈마 처리와 같은 코팅 후 공정과 통합되어 기능성을 향상시킵니다.

소모품

• 타겟 재료(금속/세라믹), 아르곤 가스 및 스퍼터링 전원 공급 장치.

응용 분야

• 광학: 고반사 거울 및 눈부심 방지 코팅.
• 전자: 터치스크린용 투명 전도성 산화물(ITO).
• 항공 우주: 터빈 블레이드에 대한 열 차단 코팅.
• 건축 유리: 에너지 효율을 위한 저방사율(low-E) 코팅.

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