은 거울 마그네트론 스프터링 코팅 유리 생산 라인

• 전처리 장치: 유리 적재 테이블, 다단계 세척기(브러시 + 초음파), 감광 처리 탱크, 열풍 건조기, 엣지 필름 부착기, CCD 비전 위치 시스템.
• 진공 코팅 장치: 진공 챔버(적재 챔버, 전환 챔버, 스퍼터링 챔버, 언로딩 챔버 포함, 여러 챔버 직렬 연결), 마그네트론 타겟 소스(은 타겟 + 보조 타겟), 진공 시스템(분자 펌프 + 루츠 펌프 조합), 가스 제어 시스템, 유리 이송 롤러 컨베이어.
• 후처리 장치: 엣지 제거기, 2차 세척기, 보호 코팅 부착 장비(스프레이 코팅/롤러 코팅), 경화 오븐, 냉각 롤러 컨베이어.
• 감지 및 제어 시스템: 온라인 막 두께 모니터(광 간섭 방식), 반사율 측정기, 표면 결함 감지기(CCD 카메라), PLC 제어 시스템(터치 스크린 포함), 상위 컴퓨터 데이터 관리 시스템.
• 완제품 처리 장치: 유리 언로딩 테이블, 엣지 트리밍기, 라미네이팅기, 스태커, 포장 라인.

고진공 환경에서 은 타겟 원자가 마그네트론 스퍼터링 기술을 통해 유리 표면에 충돌 및 증착되어 조밀한 은 반사층을 형성합니다. 보호 코팅 처리 후 고성능 은 거울이 준비됩니다.

1. 진공 환경에서의 물리적 증착: 전체 공정이 고진공 챔버에서 이루어지므로 무전해 은 도금의 폐액이나 잔류물에 의한 오염이 없습니다. 또한 은층 증착 과정에서 산화 반응이 없으며, 막층의 순도가 높습니다(은 함량 ≥99.9%)보다 훨씬 높습니다.
2. 연속 자동 생산: 다중 챔버 직렬 설계를 통해 "전처리 - 코팅 - 후처리"의 전체 공정을 유리 이송을 중단하지 않고 완료할 수 있습니다. 단일 생산 라인의 일일 생산 능력은 3,000~5,000제곱미터 (유리 크기에 따라 조정)에 달할 수 있어 대규모 대량 생산에 적합합니다.
3. 정밀하고 제어 가능한 막층 매개변수: PLC 제어 시스템을 통해 스퍼터링 전력, 이송 속도 및 가스 유량을 조정하여 은층의 두께(오차 ≤±1nm) 및 반사율(오차 ≤±0.5%)을 정밀하게 제어할 수 있으며, 막 두께의 균일성은 ≤±2% (대면적 유리의 전체적 일관성)입니다.
4. 복합 막층 구조 설계: "은층 + 보조층 + 보호 코팅"의 복합 구조를 지원하여 내식성 및 내마모성을 크게 향상시키고 복잡한 사용 환경에 적응할 수 있습니다.
5. 높은 타겟 재료 활용률: 회전 타겟 구조를 채택하여 은 재료 손실을 크게 줄여 장기적인 운영 비용을 절감합니다.

1. 제품 성능이 기존 공정을 훨씬 능가하여 반사율, 내식성 및 표면 평탄도에 대한 고급 시나리오의 엄격한 요구 사항을 충족합니다.
2. 기존 무전해 은 도금의 환경 보호 문제점을 완전히 해결하여 다량의 은 함유 폐수 처리의 필요성을 없애고 현대 산업 환경 보호 기준을 충족합니다.
3. 자동화 수준이 높고 대량 생산에서 안정성이 뛰어나며 제품 합격률이 ≥99%로 기존 공정(≤90%)보다 훨씬 높습니다.
4. 은 재료의 활용률이 높습니다. 장기적인 운영은 초기 장비 투자 격차를 상쇄하여 대규모 적용에 경제적 타당성을 제공합니다.