Mesin pelapis evaporasi sinar elektron kecil untuk peralatan pelapis pvd pelapis optik

Fungsi inti dari mesin pelapis penguapan sinar elektron kecil berputar di sekitar deposisi film dengan kemurnian tinggi dan sangat terkontrol,yang dapat diklasifikasikan secara khusus ke dalam kategori berikut::

• Sinar elektron bertenaga tinggi digunakan untuk membombardir permukaan bahan target, memanaskannya ke keadaan cair atau menguap, dan atom/molekul bahan target melarikan diri dalam bentuk gas.Dibandingkan dengan pemanasan resistansi, pemanasan sinar elektron memiliki energi terkonsentrasi dan efisiensi termal yang tinggi, memungkinkan penguapan bahan tahan api seperti tungsten, molibdenum, titanium, SiO2, dan TiO2,dan menghindari kontaminasi bahan target oleh sumber pemanas.
• Mendukung multi-target material switching (biasanya dilengkapi dengan 2 sampai 6 posisi crucible), memungkinkan deposit terus-menerus dari film satu lapisan dan multi-lapisan,dan memenuhi persyaratan persiapan lapisan film komposit.

• Ini dilengkapi dengan built-in quartz kristal film ketebalan monitor, yang dapat memantau tingkat deposisi dan ketebalan lapisan film secara real time.Keakuratan kontrol dapat mencapai tingkat nanometer (biasanya ± 0.1nm), dan dapat menyiapkan film fungsional ultra-tipis (seperti film anti-refleksi optik dan film konduktif logam puluhan nanometer).
• Dilengkapi dengan sistem kontrol yang dapat diprogram, dapat mengatur parameter deposisi (kekuatan sinar elektron, derajat vakum, laju deposisi),mencapai lapisan otomatis dan memastikan konsistensi lapisan film batch.

• Dilengkapi dengan pompa mekanik + unit vakum pompa molekul, derajat vakum rongga dapat dikurangi menjadi lingkungan vakum tinggi 10−4 ~ 10−6 Pa,mengurangi penyebaran dan kontaminasi molekul gas pada partikel yang menguap, dan memastikan bahwa lapisan film memiliki kemurnian tinggi, kepadatan yang baik dan adhesi yang kuat.

• Dirancang untuk benda kerja kecil, meja benda kerja sebagian besar berputar (untuk meningkatkan keseragaman lapisan pelapis),cocok untuk substrat dengan ukuran biasanya berkisar dari beberapa milimeter hingga puluhan milimeter (seperti wafer), lensa optik, chip, komponen sensor), dan mendukung lapisan permukaan, lembaran, dan bagian kecil.

Mesin pelapis penguapan sinar elektron kecil, karena ukurannya yang kompak, operasi yang fleksibel dan presisi tinggi,terutama digunakan dalam eksperimen penelitian ilmiah dan produksi seri kecil produk presisi tinggi dan canggihSkenario spesifik adalah sebagai berikut:

• Penelitian dan pengembangan bahan baru: Hal ini digunakan untuk mempersiapkan film logam (Au, Ag, Cu), film dielektrik (SiO2, TiO2, Al2O3), film semikonduktor (Si, Ge), dll, dan untuk mempelajari struktur,kinerja dan potensi aplikasi lapisan film.
• Eksperimen fisika/kimia film tipis: Melakukan penelitian dasar tentang mekanisme pertumbuhan film tipis, reaksi antarmuka, modifikasi doping, dll.ini adalah perangkat eksperimental yang umum digunakan dalam disiplin ilmu seperti ilmu material, optik, dan elektronik.

• Pembuatan chip dan sensor: Film elektroda logam deposit atau film dielektrik isolasi untuk sensor mikro (seperti sensor tekanan,sensor gas) dan komponen mikroelektronik (seperti elektroda sirkuit terintegrasi, resistor film tipis).
• Lapisan tingkat wafer: Lapisan lokal wafer berukuran kecil untuk pengembangan prototipe chip tingkat laboratorium.

• Lapisan lensa optik kecil: Siapkan film anti-refleksi, film reflektif, dan film pemisah sinar untuk komponen optik kecil seperti objek mikroskop, lensa laser,dan permukaan ujung serat optik untuk meningkatkan kinerja optik.
• Penelitian dan pengembangan film optik khusus: Mengembangkan filter pita sempit,cermin reflektivitas tinggi dan lapisan film khusus lainnya untuk produksi prototipe eksperimen peralatan laser dan instrumen optik.

• Penelitian bahan baterai:Pengendapan lapisan pelindung atau film konduktif untuk bahan elektroda baterai lithium-ion dan baterai solid-state untuk mengoptimalkan umur siklus dan keselamatan baterai.
• Penelitian dan pengembangan sel surya: Siapkan film anti-refleksi dan film elektroda untuk sel surya, yang digunakan untuk pengujian kinerja sel berukuran kecil di laboratorium.

• Lapisan perangkat medis mikro: Deposit film biokompatibel (seperti TiN, film karbon mirip berlian) untuk perangkat mikro yang dapat ditanam (seperti elektroda pacemaker,mikro-sond) untuk meningkatkan ketahanan korosi dan keamanan biologis.
• Alat presisi/lapisan cetakan: Deposit film keras dan tahan aus pada alat presisi kecil dan cetakan mikro untuk memperpanjang umur layanan mereka (untuk produksi khusus batch kecil).

• Depositing structural films and functional films for MEMS devices (such as micro-motors and micro gyroscopes) to achieve miniaturization and high performance of the devices is a key equipment in the research and development of MEMS prototypes.