Mesin Pelapisan Optik Sinar Elektron adalah peralatan inti di bidang manufaktur optik presisi. Ia menggunakan sinar elektron berenergi tinggi untuk melelehkan, menguapkan, dan mengionisasi bahan optik titik leleh tinggi, kemudian mengendapkan bahan yang diuapkan ke permukaan substrat untuk membentuk film optik ultra-tipis, seragam, dan berkinerja tinggi. Film-film ini banyak digunakan dalam komponen optik seperti film anti-refleksi, film refleksi tinggi, film filter, dan film polarisasi, yang penting untuk perangkat di industri seperti optik, elektronik, dirgantara, dan semikonduktor.
Penciptaan Lingkungan Vakum
Seluruh proses pelapisan dilakukan dalam ruang hampa tinggi. Lingkungan ini melayani dua tujuan penting:
Mencegah bahan yang diuapkan bereaksi dengan udara atau tersebar oleh molekul gas, memastikan kemurnian film.
Mengurangi tumbukan antara atom/molekul yang diuapkan dan molekul gas, memungkinkan uap mencapai substrat dengan lancar dan membentuk film yang padat.
Pembangkitan & Percepatan Sinar Elektron
Senapan elektron menghasilkan elektron melalui emisi termionik. Elektron kemudian dipercepat oleh medan listrik tegangan tinggi untuk mendapatkan energi kinetik yang tinggi.
Pemanasan & Penguapan Material Target
Sinar elektron berenergi tinggi difokuskan oleh lensa magnetik dan diarahkan ke permukaan material target. Energi kinetik elektron diubah menjadi energi termal saat bertumbukan dengan target, dengan cepat memanaskan material ke suhu penguapannya (bahkan untuk material dengan titik leleh di atas 2000°C, seperti alumina. Material kemudian menguap menjadi uap berdensitas tinggi yang terdiri dari atom, molekul, atau ion.
Deposisi Uap & Pembentukan Film
Partikel material yang diuapkan bergerak dalam garis lurus di ruang vakum dan diendapkan ke permukaan substrat yang berputar. Saat partikel menumpuk, mereka membentuk film tipis dengan struktur dan sifat optik tertentu.
Pemantauan & Kontrol In-Situ
Selama proses pelapisan, sistem penyeimbang mikro kristal kuarsa atau sistem pemantauan optik digunakan untuk melacak ketebalan film dan indeks bias secara real-time. Sistem memberikan umpan balik data ke unit kontrol, yang menyesuaikan parameter seperti daya sinar elektron, suhu substrat, dan laju deposisi untuk memastikan film memenuhi persyaratan desain.
Efisiensi Penguapan Tinggi untuk Material Titik Leleh Tinggi
Sinar elektron langsung memanaskan target, memungkinkan penguapan material dengan titik leleh > 3000°C.
Kemurnian Film Tinggi
Lingkungan vakum dan pemanasan non-kontak meminimalkan kotoran dalam film.
Kontrol Ketebalan Presisi
Sistem pemantauan in-situ dan daya sinar elektron yang dapat disesuaikan memungkinkan akurasi kontrol ketebalan film hingga ±0,1 nm, memenuhi persyaratan film optik multi-lapis.
Kompatibilitas Material yang Luas
Kompatibel dengan oksida, fluorida logam, dan bahkan keramik, memperluas rentang aplikasi.
Laju Deposisi Tinggi
Laju deposisi dapat mencapai 1–10 nm/s, meningkatkan efisiensi produksi untuk komponen optik dalam jumlah besar.
Komunikasi Optik
Pelapisan film tipis untuk serat optik dan penggabung optik, memastikan hilangnya sinyal yang rendah selama transmisi cahaya.
Elektronik Konsumen
Film anti-refleksi (AR) untuk layar ponsel pintar/laptop. Filter pemotongan inframerah (IR) untuk modul kamera.
Dirgantara & Pertahanan
Film refleksi tinggi untuk teleskop optik satelit. Film optik anti-pembentukan es dan anti-kabut untuk kaca depan pesawat.
Semikonduktor & Optoelektronik
Film dielektrik untuk mikrochip. Lapisan film tipis untuk dioda pemancar cahaya.
Hubungi kami kapan saja