Η μηχανή επίστρωσης οπτικού δέσμης ηλεκτρονίων είναι ένας βασικός εξοπλισμός στον τομέα της κατασκευής οπτικών ακριβείας. Χρησιμοποιεί δέσμες ηλεκτρονίων υψηλής ενέργειας για να λιώσει, να εξατμίσει και να ιονίσει οπτικά υλικά υψηλής θερμοκρασίας τήξης, στη συνέχεια εναποθέτει τα εξατμισμένα υλικά στην επιφάνεια των υποστρωμάτων για να σχηματίσει εξαιρετικά λεπτά, ομοιόμορφα και υψηλής απόδοσης οπτικά φιλμ. Αυτά τα φιλμ χρησιμοποιούνται ευρέως σε οπτικά εξαρτήματα όπως φιλμ κατά της αντανάκλασης, φιλμ υψηλής ανάκλασης, φιλμ φίλτρων και φιλμ πόλωσης, τα οποία είναι απαραίτητα για συσκευές σε βιομηχανίες όπως η οπτική, τα ηλεκτρονικά, η αεροδιαστημική και οι ημιαγωγοί.
Δημιουργία περιβάλλοντος κενού
Ολόκληρη η διαδικασία επίστρωσης πραγματοποιείται σε θάλαμο υψηλού κενού. Αυτό το περιβάλλον εξυπηρετεί δύο κρίσιμους σκοπούς:
Αποτρέπει την αντίδραση του εξατμισμένου υλικού με τον αέρα ή τη διασπορά του από μόρια αερίου, εξασφαλίζοντας την καθαρότητα του φιλμ.
Μειώνει τη σύγκρουση μεταξύ εξατμισμένων ατόμων/μορίων και μορίων αερίου, επιτρέποντας στον ατμό να φτάσει ομαλά στο υπόστρωμα και να σχηματίσει ένα πυκνό φιλμ.
Δημιουργία & επιτάχυνση δέσμης ηλεκτρονίων
Ένα ηλεκτρονικό πιστόλι δημιουργεί ηλεκτρόνια μέσω θερμιονικής εκπομπής. Τα ηλεκτρόνια επιταχύνονται στη συνέχεια από ένα ηλεκτρικό πεδίο υψηλής τάσης για να αποκτήσουν υψηλή κινητική ενέργεια.
Θέρμανση & εξάτμιση υλικού στόχου
Η δέσμη ηλεκτρονίων υψηλής ενέργειας εστιάζεται από έναν μαγνητικό φακό και κατευθύνεται στην επιφάνεια του υλικού στόχου. Η κινητική ενέργεια των ηλεκτρονίων μετατρέπεται σε θερμική ενέργεια κατά την πρόσκρουση με τον στόχο, θερμαίνοντας γρήγορα το υλικό στη θερμοκρασία εξάτμισής του (ακόμη και για υλικά με σημεία τήξης άνω των 2000°C, όπως η αλουμίνα. Το υλικό στη συνέχεια εξατμίζεται σε έναν ατμό υψηλής πυκνότητας που αποτελείται από άτομα, μόρια ή ιόντα.
Εναπόθεση ατμού & σχηματισμός φιλμ
Τα σωματίδια του εξατμισμένου υλικού κινούνται σε ευθεία γραμμή στον θάλαμο κενού και εναποτίθενται στην επιφάνεια του περιστρεφόμενου υποστρώματος. Καθώς τα σωματίδια συσσωρεύονται, σχηματίζουν ένα λεπτό φιλμ με συγκεκριμένη δομή και οπτικές ιδιότητες.
Παρακολούθηση & έλεγχος in-Situ
Κατά τη διάρκεια της διαδικασίας επίστρωσης, χρησιμοποιείται ένα μικροζυγό κρυστάλλου χαλαζία ή ένα οπτικό σύστημα παρακολούθησης για την παρακολούθηση σε πραγματικό χρόνο του πάχους του φιλμ και του δείκτη διάθλασης. Το σύστημα τροφοδοτεί δεδομένα στη μονάδα ελέγχου, η οποία προσαρμόζει παραμέτρους όπως η ισχύς της δέσμης ηλεκτρονίων, η θερμοκρασία του υποστρώματος και ο ρυθμός εναπόθεσης για να διασφαλίσει ότι το φιλμ πληροί τις απαιτήσεις σχεδιασμού.
Υψηλή απόδοση εξάτμισης για υλικά υψηλής θερμοκρασίας τήξης
Οι δέσμες ηλεκτρονίων θερμαίνουν άμεσα τον στόχο, επιτρέποντας την εξάτμιση υλικών με σημεία τήξης > 3000°C.
Υψηλή καθαρότητα φιλμ
Το περιβάλλον κενού και η θέρμανση χωρίς επαφή ελαχιστοποιούν τις ακαθαρσίες στο φιλμ.
Ακριβής έλεγχος πάχους
Τα συστήματα παρακολούθησης in-situ και η ρυθμιζόμενη ισχύς δέσμης ηλεκτρονίων επιτρέπουν την ακρίβεια ελέγχου πάχους φιλμ έως και ±0,1 nm, καλύπτοντας τις απαιτήσεις των οπτικών φιλμ πολλαπλών στρώσεων.
Ευρεία συμβατότητα υλικών
Συμβατό με οξείδια, φθορίδια μέταλλα, ακόμη και κεραμικά, επεκτείνοντας τα εύρη εφαρμογής.
Υψηλός ρυθμός εναπόθεσης
Οι ρυθμοί εναπόθεσης μπορούν να φτάσουν τα 1–10 nm/s, βελτιώνοντας την αποδοτικότητα της παραγωγής για οπτικά εξαρτήματα μεγάλης παρτίδας.
Οπτική επικοινωνία
Επίστρωση λεπτών φιλμ για οπτικές ίνες και οπτικούς συζεύκτες, εξασφαλίζοντας χαμηλή απώλεια σήματος κατά τη μετάδοση φωτός.
Ηλεκτρονικά καταναλωτών
Φιλμ κατά της αντανάκλασης (AR) για οθόνες smartphone/laptop. Φίλτρα αποκοπής υπέρυθρων (IR) για μονάδες κάμερας.
Αεροδιαστημική & Άμυνα
Φιλμ υψηλής ανάκλασης για οπτικά τηλεσκόπια δορυφόρων. Οπτικά φιλμ κατά της πάγωσης και κατά της ομίχλης για παρμπρίζ αεροσκαφών.
Ημιαγωγοί & Οπτοηλεκτρονική
Διηλεκτρικά φιλμ για μικροτσίπ. Επιστρώσεις λεπτού φιλμ για δίοδοι εκπομπής φωτός.
ΕΠΙΚΟΙΝΩΝΗΣΤΕ ΜΑΖΙ ΜΑΣ ΟΠΟΙΑΔΗΠΟΤΕ ΣΤΙΓΜΗ