Машина для нанесения оптических покрытий электронным лучом является основным оборудованием в области прецизионного оптического производства. Она использует высокоэнергетические электронные лучи для плавления, испарения и ионизации оптических материалов с высокой температурой плавления, а затем осаждает испаренные материалы на поверхность подложек для формирования ультратонких, однородных и высокопроизводительных оптических пленок. Эти пленки широко используются в оптических компонентах, таких как антиотражающие пленки, высокоотражающие пленки, фильтрующие пленки и поляризационные пленки, которые необходимы для устройств в таких отраслях, как оптика, электроника, аэрокосмическая промышленность и полупроводники.
Создание вакуумной среды
Весь процесс нанесения покрытия выполняется в вакуумной камере высокого вакуума. Эта среда служит двум критическим целям:
Предотвращает реакцию испаренного материала с воздухом или рассеивание молекулами газа, обеспечивая чистоту пленки.
Уменьшает столкновение между испаренными атомами/молекулами и молекулами газа, позволяя пару плавно достигать подложки и формировать плотную пленку.
Генерация и ускорение электронного луча
Электронная пушка генерирует электроны посредством термоэлектронной эмиссии. Затем электроны ускоряются высоковольтным электрическим полем для получения высокой кинетической энергии.
Нагрев и испарение целевого материала
Высокоэнергетический электронный луч фокусируется магнитной линзой и направляется на поверхность целевого материала. Кинетическая энергия электронов преобразуется в тепловую энергию при столкновении с мишенью, быстро нагревая материал до температуры его испарения (даже для материалов с температурой плавления выше 2000°C, таких как оксид алюминия. Затем материал испаряется в пар высокой плотности, состоящий из атомов, молекул или ионов.
Осаждение пара и образование пленки
Частицы испаренного материала движутся по прямой линии в вакуумной камере и осаждаются на поверхность вращающейся подложки. По мере накопления частиц они образуют тонкую пленку с определенной структурой и оптическими свойствами.
Мониторинг и контроль in-situ
Во время процесса нанесения покрытия для отслеживания толщины пленки и показателя преломления в реальном времени используется кварцевый кристаллический микробаланс или система оптического мониторинга. Система передает данные в блок управления, который регулирует такие параметры, как мощность электронного луча, температура подложки и скорость осаждения, чтобы гарантировать соответствие пленки проектным требованиям.
Высокая эффективность испарения для материалов с высокой температурой плавления
Электронные лучи непосредственно нагревают мишень, обеспечивая испарение материалов с температурой плавления > 3000°C.
Высокая чистота пленки
Вакуумная среда и бесконтактный нагрев минимизируют примеси в пленке.
Точный контроль толщины
Системы мониторинга in-situ и регулируемая мощность электронного луча позволяют контролировать толщину пленки с точностью до ±0,1 нм, что соответствует требованиям многослойных оптических пленок.
Широкая совместимость материалов
Совместимость с оксидами, фторидами, металлами и даже керамикой, расширяющая области применения.
Высокая скорость осаждения
Скорость осаждения может достигать 1–10 нм/с, повышая эффективность производства для оптических компонентов больших партий.
Оптическая связь
Нанесение тонких пленок для оптических волокон и оптических разветвителей, обеспечивающее низкие потери сигнала при передаче света.
Бытовая электроника
Антиотражающие (AR) пленки для экранов смартфонов/ноутбуков. Инфракрасные (IR) фильтры для модулей камер.
Аэрокосмическая и оборонная промышленность
Высокоотражающие пленки для оптических телескопов спутников. Антиобледенительные и противотуманные оптические пленки для лобовых стекол самолетов.
Полупроводники и оптоэлектроника
Диэлектрические пленки для микрочипов. Тонкопленочные покрытия для светоизлучающих диодов.
СОТРАНИВАЙСЯ С НАМИ в любое время