Electron Beam Optical Coating Machine is een kernapparatuur op het gebied van precisie optische fabricage. Het gebruikt hoogenergetische elektronenstralen om optische materialen met een hoog smeltpunt te smelten, te verdampen en te ioniseren, en deponeert vervolgens de verdampte materialen op het oppervlak van substraten om ultradunne, uniforme en hoogwaardige optische films te vormen. Deze films worden veel gebruikt in optische componenten zoals anti-reflectie films, hoogreflectie films, filterfilms en polarisatiefilms, die essentieel zijn voor apparaten in industrieën zoals optica, elektronica, lucht- en ruimtevaart en halfgeleiders.
Creëren van een vacuümomgeving
Het gehele coatingproces wordt uitgevoerd in een hoogvacuümkamer. Deze omgeving dient twee cruciale doelen:
Voorkomt dat het verdampte materiaal reageert met lucht of wordt verstrooid door gasmoleculen, waardoor de zuiverheid van de film wordt gewaarborgd.
Vermindert de botsing tussen verdampte atomen/moleculen en gasmoleculen, waardoor de damp soepel het substraat kan bereiken en een dichte film kan vormen.
Generatie en versnelling van elektronenstralen
Een elektronenkanon genereert elektronen door middel van thermische emissie. De elektronen worden vervolgens versneld door een hoogspannings elektrisch veld om een hoge kinetische energie te verkrijgen.
Verhitting en verdamping van doelmateriaal
De hoogenergetische elektronenstraal wordt gefocust door een magnetische lens en gericht op het oppervlak van het doelmateriaal. De kinetische energie van de elektronen wordt omgezet in thermische energie bij botsing met het doel, waardoor het materiaal snel wordt verwarmd tot zijn verdampingstemperatuur (zelfs voor materialen met smeltpunten boven 2000°C, zoals alumina. Het materiaal verdampt vervolgens in een damp met hoge dichtheid, bestaande uit atomen, moleculen of ionen.
Dampdepositie en filmvorming
De verdampte materiaal deeltjes bewegen in een rechte lijn in de vacuümkamer en worden afgezet op het oppervlak van het roterende substraat. Naarmate de deeltjes zich ophopen, vormen ze een dunne film met een specifieke structuur en optische eigenschappen.
In-situ monitoring en controle
Tijdens het coatingproces wordt een kwartskristalmicrobalans of optisch monitoringsysteem gebruikt om de filmdikte en brekingsindex in realtime te volgen. Het systeem geeft gegevens terug aan de besturingseenheid, die parameters zoals elektronenstraalvermogen, substraattemperatuur en depositie snelheid aanpast om ervoor te zorgen dat de film aan de ontwerpvereisten voldoet.
Hoge verdampingsefficiëntie voor materialen met een hoog smeltpunt
Elektronenstralen verwarmen het doel direct, waardoor verdamping van materialen met smeltpunten > 3000°C mogelijk is.
Hoge filmzuiverheid
De vacuümomgeving en niet-contactverwarming minimaliseren onzuiverheden in de film.
Nauwkeurige diktecontrole
In-situ monitoringsystemen en instelbaar elektronenstraalvermogen maken een nauwkeurigheid van de filmdiktecontrole tot ±0,1 nm mogelijk, wat voldoet aan de eisen van meerlaagse optische films.
Brede materiaalcompatibiliteit
Compatibel met oxiden, fluoriden, metalen en zelfs keramiek, waardoor de toepassingsgebieden worden uitgebreid.
Hoge depositie snelheid
Depositie snelheden kunnen 1–10 nm/s bereiken, waardoor de productie-efficiëntie voor optische componenten in grote batches wordt verbeterd.
Optische communicatie
Coating van dunne films voor optische vezels en optische koppelingen, waardoor een laag signaalverlies tijdens lichttransmissie wordt gewaarborgd.
Consumentenelektronica
Anti-reflectie (AR) films voor smartphone/laptop schermen. Infrarood (IR) afsnijfilters voor cameramodules.
Lucht- en ruimtevaart & Defensie
Hoogreflectie films voor optische satelliet telescopen. Anti-ijsvorming en anti-condens optische films voor vliegtuigwindschermen.
Halfgeleiders & Opto-elektronica
Diëlektrische films voor microchips. Dunfilmcoatings voor lichtemitterende diodes.
Neem op elk moment contact met ons op.