Macchina per rivestimento sottovuoto PVD a evaporazione con pistola a elettroni per il rivestimento di lenti ottiche

Imballaggio e consegna

Dettagli dell'imballaggio

Pellicola di plastica di copertura e scatola di legno contenitore di imballaggio standard di esportazione ad alto cubo per la macchina di rivestimento sottovuoto PVD a ioni multi-arco a barriera in acciaio inossidabile CICEL

Porto di spedizione

Guangdong

Unità di vendita

Singolo articolo

Dimensione del pacchetto singolo

80X25X25 cm

Peso lordo singolo

10.000 KG

Esempi di imballaggio

Lion KingMacchina per il rivestimento ottico a fascio di elettroni

Panoramica della tecnologia

La macchina per il rivestimento ottico a fascio di elettroni è un'apparecchiatura fondamentale nel campo della produzione ottica di precisione. Utilizza fasci di elettroni ad alta energia per fondere, evaporare e ionizzare materiali ottici ad alto punto di fusione, quindi deposita i materiali vaporizzati sulla superficie dei substrati per formare film ottici ultrasottili, uniformi e ad alte prestazioni. Questi film sono ampiamente utilizzati in componenti ottici come film antiriflesso, film ad alta riflessione, film filtranti e film di polarizzazione, che sono essenziali per i dispositivi in settori come l'ottica, l'elettronica, l'aerospaziale e i semiconduttori.

Principio di funzionamento

Creazione di un ambiente sottovuoto

L'intero processo di rivestimento viene eseguito in una camera ad alto vuoto. Questo ambiente ha due scopi fondamentali:

Impedisce al materiale vaporizzato di reagire con l'aria o di essere disperso dalle molecole di gas, garantendo la purezza del film.

Riduce la collisione tra atomi/molecole vaporizzati e molecole di gas, consentendo al vapore di raggiungere il substrato senza problemi e formare un film denso.

Generazione e accelerazione del fascio di elettroni

Una pistola a elettroni genera elettroni attraverso l'emissione termoionica. Gli elettroni vengono quindi accelerati da un campo elettrico ad alta tensione per ottenere un'elevata energia cinetica.

Riscaldamento ed evaporazione del materiale bersaglio

Il fascio di elettroni ad alta energia viene focalizzato da una lente magnetica e diretto sulla superficie del materiale bersaglio. L'energia cinetica degli elettroni viene convertita in energia termica all'impatto con il bersaglio, riscaldando rapidamente il materiale fino alla sua temperatura di evaporazione (anche per materiali con punti di fusione superiori a 2000°C, come l'allumina). Il materiale quindi si vaporizza in un vapore ad alta densità composto da atomi, molecole o ioni.

Deposizione del vapore e formazione del film

Le particelle di materiale vaporizzato si muovono in linea retta nella camera a vuoto e vengono depositate sulla superficie del substrato rotante. Man mano che le particelle si accumulano, formano un film sottile con una struttura e proprietà ottiche specifiche.

Monitoraggio e controllo in situ

Durante il processo di rivestimento, viene utilizzato un microbilanciamento a cristallo di quarzo o un sistema di monitoraggio ottico per tracciare in tempo reale lo spessore del film e l'indice di rifrazione. Il sistema fornisce dati all'unità di controllo, che regola parametri come la potenza del fascio di elettroni, la temperatura del substrato e la velocità di deposizione per garantire che il film soddisfi i requisiti di progettazione.

Vantaggi chiave

Elevata efficienza di evaporazione per materiali ad alto punto di fusione

I fasci di elettroni riscaldano direttamente il bersaglio, consentendo l'evaporazione di materiali con punti di fusione > 3000°C.

Elevata purezza del film

L'ambiente sottovuoto e il riscaldamento senza contatto riducono al minimo le impurità nel film.

Controllo preciso dello spessore

I sistemi di monitoraggio in situ e la potenza regolabile del fascio di elettroni consentono una precisione di controllo dello spessore del film fino a ±0,1 nm, soddisfacendo i requisiti dei film ottici multistrato.

Ampia compatibilità dei materiali

Compatibile con ossidi, fluoruri, metalli e persino ceramiche, ampliando le gamme di applicazione.

Elevata velocità di deposizione

Le velocità di deposizione possono raggiungere 1–10 nm/s, migliorando l'efficienza di produzione per componenti ottici in grandi lotti.

Settori applicati

Comunicazioni ottiche

Rivestimento di film sottili per fibre ottiche e accoppiatori ottici, garantendo una bassa perdita di segnale durante la trasmissione della luce.

Elettronica di consumo

Film antiriflesso (AR) per schermi di smartphone/laptop. Filtri a infrarossi (IR) per moduli fotocamera.

Aerospaziale e difesa

Film ad alta riflessione per telescopi ottici satellitari. Film ottici antigelo e antiappannamento per parabrezza di aeromobili.

Semiconduttori e optoelettronica

Film dielettrici per microchip. Rivestimenti a film sottile per diodi emettitori di luce.