Magnetic Control Winding Coating Equipment / Magnetron Roll To Roll Coating Machine

Peralatan ini menyelesaikan lapisan melalui mekanisme kolaboratif "magnetron sputtering + continuous winding", yang terutama terdiri dari dua langkah:

1. Proses penyemprotan magnetron: Dalam ruang vakum, medan magnet membatasi pergerakan elektron, mengionkan gas inert seperti argon untuk menghasilkan plasma.Bom plasma menargetkan bahan (seperti logam, paduan, atau senyawa), memuntahkan atom/ion dari bahan target untuk membentuk partikel pelapis.
2. Proses penggulung terus menerus: Substrat (misalnya, film PET, foil tembaga) terus diangkut melalui area penyemprotan dengan kecepatan stabil melalui sistem transmisi rol penggulung dan panduan.Partikel-partikel yang disemprotkan disimpan di permukaan substrat, dan akhirnya, produk jadi dikumpulkan melalui sistem penggulung, mewujudkan produksi "one-roll-through" yang terus menerus.

1. Kualitas pelapis yang sangat baik: Teknologi penyemprotan magnetron dapat mengontrol dengan tepat ketebalan pelapis (dengan toleransi biasanya ≤ ± 5%).Lapisan memiliki kepadatan tinggi dan perekat yang kuat (mampu melewati tes cross-cut) serta komposisi seragam, yang dapat memenuhi persyaratan fungsional yang tinggi (seperti sifat penghalang yang tinggi dan konduktivitas tinggi).
2. Efisiensi produksi yang tinggi: Mengadopsi desain lilitan terus menerus, tidak memerlukan operasi start-stop yang sering.dan kecepatan produksi diatur (umumnya 0.5-5 m/min), sehingga cocok untuk produksi massal skala besar.
3. Kompatibilitas material luas:
   • Kompatibilitas substrat: Ini dapat memproses bahan fleksibel seperti film plastik (PET, PP), foil logam (foil aluminium, foil tembaga), dan kain.
   • Kompatibilitas bahan target: Mendukung berbagai bahan target termasuk logam (aluminium, tembaga, perak), paduan (baja tahan karat, paduan titanium), dan senyawa (ITO, SiO2),dan dapat menyiapkan film konduktif, film penghalang, film dekoratif, dan pelapis fungsional lainnya.

Peralatan ini banyak digunakan di industri yang membutuhkan fungsi permukaan untuk substrat, dengan skenario inti termasuk:

• Industri kemasan: Lapisan aluminium atau SiO2 pada permukaan film plastik untuk mempersiapkan film penghalang tinggi,yang digunakan untuk kemasan makanan dan farmasi (untuk memblokir oksigen dan kelembaban dan memperpanjang umur simpan).
• Industri elektronik: Lapisan tembaga, perak, atau ITO pada permukaan substrat fleksibel untuk mempersiapkan film konduktif fleksibel yang digunakan dalam sirkuit cetak fleksibel (FPC), layar sentuh,dan tag elektronik.
• Industri energi baru: Lapisan permukaan tab baterai dan separator untuk meningkatkan konduktivitas elektroda atau ketahanan suhu tinggi separator,yang digunakan dalam baterai lithium dan sel bahan bakar.
• Industri dekorasi: Lapisan film logam (seperti kromium dan nikel) pada permukaan film atau kain untuk mempersiapkan bahan dekoratif yang mirip logam,yang digunakan dalam furnitur dan interior mobil.

Sebuah set lengkap peralatan biasanya mencakup lima sistem untuk memastikan operasi yang stabil:

1. Sistem vakum: Terdiri dari set pompa vakum (pompa molekuler, pompa akar) dan ruang vakum, ia mempertahankan lingkungan vakum tinggi yang diperlukan untuk penyemprotan.
2. Sistem Magnetron Sputtering: Termasuk target magnetron (target planar, target silinder) dan catu daya sputtering (DC, RF), yang bertanggung jawab untuk menghasilkan partikel pelapis.
3. Sistem penggulung dan transmisi: Terdiri dari penggulung, penggulung, rol panduan, dan sistem kontrol tegangan, memastikan transmisi substrat yang stabil dan terus menerus.
4. Sistem Kontrol Suhu: Dilengkapi dengan perangkat pemanas/pendingin ruang dan modul kontrol suhu substrat untuk mencegah deformasi substrat akibat suhu tinggi.
5. Sistem Kontrol: Mengadopsi PLC + layar sentuh untuk mewujudkan kontrol otomatis dan pemantauan parameter seperti derajat vakum, kekuatan sputtering, dan kecepatan transmisi.