Introducción del equipo
Utilizando una fuente de alimentación de frecuencia media (típicamente 10-150 KHZ) como fuente de energía, el movimiento de los electrones se restringe mediante un campo magnético para mejorar la eficiencia de ionización del gas, lo que provoca que los átomos o moléculas del material objetivo se pulvericen y se depositen en la superficie del sustrato para formar una película.
Características principales
1. Se alimenta con una fuente de alimentación de frecuencia media, suprimiendo eficazmente el fenómeno de descarga de arco durante el proceso de pulverización reactiva y garantizando la estabilidad del proceso de recubrimiento.
2. Admite operaciones de alta potencia, con una rápida velocidad de pulverización del objetivo, lo que puede mejorar la eficiencia de producción y satisfacer las demandas de la producción en masa.
3. Tiene una gran compatibilidad y puede utilizar varios materiales objetivo, como objetivos metálicos y objetivos cerámicos, para preparar múltiples tipos de películas funcionales.
4. La uniformidad del recubrimiento es buena, la adherencia de la película es fuerte, la calidad de la capa de película es estable y el grosor de la película se puede controlar con precisión.
Ventajas principales1. Se ha resuelto el problema de la acumulación de carga durante los materiales objetivo aislantes o la pulverización reactiva, lo que reduce los defectos de la capa de película.
2. Alta velocidad de pulverización, menor consumo de energía, alta eficiencia y ahorro de energía.
3. La capa de película tiene alta densidad y pureza, y se desempeña de manera sobresaliente en indicadores clave como las propiedades ópticas y mecánicas.
4. Funciona de manera estable y confiable con costos de mantenimiento relativamente bajos.
Aplicación
El campo de la óptica
1. Se utiliza para preparar películas ópticas, como películas antirreflectantes y películas antirreflejos para lentes de gafas.
2. Produce películas de filtro óptico y películas conductoras para dispositivos de visualización como LCD y OLED.
3. Fabricación de películas antirreflectantes y películas conductoras transparentes para células solares.
El campo de la electrónica y los semiconductores
1. Preparar películas metalizadas para chips semiconductores (como películas de aluminio y películas de cobre).
2. Películas funcionales para la producción de componentes electrónicos como condensadores y sensores.
3. Fabricar películas de óxido conductor transparente (TCO) para pantallas táctiles.
Campo de la decoración y la apariencia
1. Aplicar películas decorativas (como películas de titanio dorado y películas de circonio) a hardware y materiales de construcción (como puertas y ventanas, accesorios de baño).
2. Se aplica al recubrimiento de piezas de automóviles (como ruedas y piezas interiores).
3. Aplicar películas de color y películas anti-huellas dactilares a las carcasas de teléfonos móviles y electrodomésticos.
El campo de las herramientas y moldes
1. Se recubren películas duras (como películas de TiN y TiAlN) para herramientas de corte y moldes.
2. Se utiliza para recubrir componentes de instrumentos de precisión.
Otros campos especiales
1. Preparar películas anticorrosión y aplicarlas a componentes de ingeniería marina y equipos químicos.
2. Producir películas de superficie modificada para materiales biomédicos (como películas antibacterianas para implantes de aleación de titanio).
3. El recubrimiento de películas de barrera en materiales de embalaje puede mejorar su resistencia al oxígeno y la humedad, extendiendo así la vida útil de los productos.
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