>
>
2025-12-05
1.Evaporación del rayo eléctrico
Utiliza rayos de electrones de alta energía para bombardear los materiales objetivo, convirtiendo la energía cinética en energía térmica para derretir o sublimar el objetivo.Los átomos gaseosos se condensan en la superficie del sustrato para formar películas delgadasUn proceso de "deposición por evaporación térmica", que utiliza objetivos a granel como metales y óxidos puros.
2.Dispersión por pulverización magnética
Utiliza campos eléctricos de RF/DC para ionizar gases inertes (por ejemplo, Ar) en plasma.Las películas compuestas se obtienen mediante "esputado reactivo" (introducción de O2, N2), utilizando objetivos de aleación/compuesto a granel o de chapa.
|
Dimensión de comparación |
Evaporación del rayo eléctrico |
Dispersión por pulverización magnética |
|
Tasa de depósito |
Alto (0,1 ∼10 nm/s), ideal para la deposición rápida de películas gruesas |
Mediano bajo (0,01 ‰ 1 nm/s), preciso para películas finas |
|
Uniformidad de la película |
Moderado (± 5·10%), dependiendo del diseño de rotación del sustrato |
Excelente (± 1 ‰ 3%), excepcional para el recubrimiento de grandes superficies |
|
Densidad de película |
Bajo (porosidad 5 ∼15%), propenso a la absorción de humedad |
Ultra alto (porosidad < 2%), denso y resistente al desgaste |
|
Adhesión |
Moderado (fuerzas de van der Waals dominantes), se requiere un pretratamiento del sustrato |
Fuerte (mezcla de interfaces mediante bombardeo iónico), durabilidad superior |
|
Control óptico del rendimiento |
Indice de refracción estable (evaporación del material puro); alta transmitancia para las películas transparentes (por ejemplo, SiO2, TiO2); baja pérdida de dispersión |
Indice de refracción ajustable (mediante la relación potencia/gas de pulverización); fácil fabricación de películas compuestas (por ejemplo, TiN, AlN) mediante pulverización reactiva; pérdida de dispersión ultrabaja con películas lisas |
|
Compatibilidad material |
Adecuado para materiales de alto punto de fusión (por ejemplo, Ta2O5, ZrO2); difícil para materiales de baja fusión/volátiles |
Amplia gama (metales, aleaciones, compuestos); permite películas multicomponentes (por ejemplo, ITO, MgF2-Al2O3) |
|
Impacto de la temperatura del sustrato |
Alto (150-300°C), riesgo de deformación del sustrato |
La deposición a baja temperatura (0°C) protege los sustratos |
|
Costo del equipo y mantenimiento |
Bajo coste inicial, mantenimiento sencillo (sustitución fácil del objetivo) |
Costo inicial elevado (objetivos de magnetrones caros/sistemas de potencia); tasa de utilización del objetivo 3050% |
• las condiciones de trabajoProducción de lotes pequeños y medianos: I+D de laboratorio, componentes ópticos personalizados (recubrimientos antirreflectores de lentes, filtros de banda estrecha).
• las condiciones de trabajoPelículas puras de alto punto de fusión: películas TiO2/ZrO2 de alto índice de refracción, películas SiO2 de bajo índice de refracción.
• las condiciones de trabajoRequisitos para el espesor de las películas: películas reflectoras infrarrojas (> 1 μm), capas reflectoras metálicas (películas de Al, Ag).
• las condiciones de trabajoSubstratos insensibles a la temperatura: vidrio, cerámica resistente a las altas temperaturas.
• las condiciones de trabajoProducción industrial en masa: paneles de visualización (filmes conductores transparentes ITO), recubrimientos AR para lentes de teléfonos móviles.
• las condiciones de trabajoRevestimiento de gran superficie: vidrio fotovoltaico, vidrio arquitectónico (> 1 m2).
• las condiciones de trabajoNecesidades de alta durabilidad: componentes ópticos para automóviles, instrumentos ópticos para exteriores (resistencia al desgaste/corrosión).
• las condiciones de trabajoPelículas compuestas/multicapa: Películas con índice de refracción gradiente, filtros multicapa (control preciso de interfaz).
• las condiciones de trabajoDeposición a baja temperatura: sustratos de plástico (PC, PMMA), materiales ópticos flexibles.
✅ Ventajas:
• las condiciones de trabajoAlta eficiencia de deposición, ciclo de producción corto;
• las condiciones de trabajoPerformance óptica estable de las películas puras, excelente transmitancia;
• las condiciones de trabajoBaja inversión en equipo, fácil operación.
¢ Desventajas:
• las condiciones de trabajoPobre densidad de película, insuficiente estabilidad a largo plazo;
• las condiciones de trabajoDifícil control de la uniformidad en grandes superficies;
• las condiciones de trabajoTipos de películas limitados (materiales volátiles de baja fusión).
✅ Ventajas:
• las condiciones de trabajoFuerte adhesión, películas densas/resistentes al desgaste, buena estabilidad ambiental;
• las condiciones de trabajoUniformidad superior en grandes superficies, adecuada para la producción en serie;
• las condiciones de trabajoAmplia compatibilidad de los materiales, fabricación de películas complejas;
• las condiciones de trabajoLa deposición a baja temperatura protege los sustratos.
¢ Desventajas:
• las condiciones de trabajoLa velocidad de deposición es lenta, la eficiencia de película gruesa es baja.
• las condiciones de trabajoAlto coste del equipo, mantenimiento complejo (consumo objetivo rápido);
• las condiciones de trabajoSe requiere un control preciso de la proporción de gas para el pulverización reactiva, alta dificultad de ajuste del proceso.
Contacta con nosotros en cualquier momento