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Evaporação de feixe de elétrons versus pulverização por magneto para revestimentos ópticos: uma análise comparativa

2025-12-05

Últimas notícias da empresa sobre Evaporação de feixe de elétrons versus pulverização por magneto para revestimentos ópticos: uma análise comparativa

I. Visão geral dos princípios fundamentais

1.Evaporação do feixe eléctrico

Utiliza feixes de elétrons de alta energia para bombardear materiais alvo, convertendo energia cinética em energia térmica para derreter ou sublimar o alvo.Os átomos gasosos condensam na superfície do substrato para formar filmes finosÉ um processo de "deposição por evaporação térmica", que utiliza alvos a granel, tais como metais puros e óxidos.

2.Pulverização por Magnetron

Emprega campos elétricos de RF/DC para ionizar gases inertes (por exemplo, Ar) em plasma.Os filmes compostos podem ser obtidos através de "sputtering reativo" (introduzindo O2, N2), utilizando alvos de liga/composto a granel ou de chapa.

II. Comparação dos principais desempenhos (para revestimentos ópticos)

 

Dimensão de comparação

Evaporação do feixe eléctrico

Pulverização por Magnetron

Taxa de depósito

Alto (0,1 ∼10 nm/s), ideal para deposição rápida de película espessa

Mediano-baixo (0,01 ‰ 1 nm/s), preciso para películas finas

Uniformidade do filme

Moderado (± 5·10%), dependente do desenho da rotação do substrato

Excelente (± 1 ‰ 3%), excelente para revestimento de grandes superfícies

Densidade do filme

Baixo (porosidade 5 ∼15%), propenso à absorção de umidade

Ultra-alto (porosidade < 2%), denso e resistente ao desgaste

Adesão

Moderado (forças de van der Waals dominantes), requer pré-tratamento do substrato

Forte (mistura de interface através de bombardeio iônico), durabilidade superior

Controle óptico do desempenho

Índice de refração estável (evaporação de material puro); elevada transmissão para películas transparentes (por exemplo, SiO2, TiO2); baixa perda de dispersão

Índice de refração ajustável (através da relação potência/gás de pulverização); fácil fabricação de películas compostas (por exemplo, TiN, AlN) através de pulverização reativa; perda de dispersão ultra-baixa com filmes lisos

Compatibilidade material

Adequado para materiais com alto ponto de fusão (por exemplo, Ta2O5, ZrO2); desafiador para materiais de baixo ponto de fusão/voláteis

Ampla gama (metais, ligas, compostos); permite filmes multicomponentes (por exemplo, ITO, MgF2-Al2O3)

Impacto da temperatura do substrato

Alto (150°C a 300°C), risco de deformação do substrato

A deposição a baixa temperatura (0°C) protege os substratos

Custo do equipamento e manutenção

Baixo custo inicial, manutenção simples (substituição fácil do alvo)

Alto custo inicial (alvos/sistemas de potência de magnetrão caros); taxa de utilização alvo 30­50%

III. Cenários de aplicação

Evaporação do feixe eléctrico

Produção em lotes de pequeno a médio porte: P&D de laboratório, componentes ópticos personalizados (revestimentos antirreflectores de lentes, filtros de banda estreita).

Filmes puros de alto ponto de fusão: filmes TiO2/ZrO2 de alto índice de refração, filmes SiO2 de baixo índice de refração.

Requisitos de espessura de película: películas reflectoras de infravermelho (> 1 μm), camadas reflectoras de metal (filmes de Al, Ag).

Substratos insensíveis à temperatura: Vidro, cerâmica resistente a altas temperaturas.

Pulverização por Magnetron

Produção industrial em massa: painéis de exibição (filmes condutivos transparentes ITO), revestimentos AR para lentes de telemóvel.

Revestimento de grande área: vidro fotovoltaico, vidro arquitectónico (> 1m2).

Requisitos de elevada durabilidade: componentes ópticos automotivos, instrumentos ópticos para o exterior (resistência ao desgaste/corrosição).

Filmes compostos/multi-camadas: filmes com índice de refração gradiente, filtros multi-camadas (controle de interface preciso).

Deposição a baixa temperatura: substratos de plástico (PC, PMMA), materiais ópticos flexíveis.

IV. Resumo dos prós e contras

Evaporação do feixe eléctrico

✅ Vantagens:

Alta eficiência de deposição, ciclo de produção curto;

Desempenho óptico estável de películas puras, excelente transmissão;

Baixo investimento de equipamento, fácil operação.

Desvantagens:

Densidade de filme fraca, estabilidade a longo prazo insuficiente;

Difícil controlo da uniformidade em grandes áreas;

Tipos de filme limitados (materiais voláteis de baixa fusão).

Pulverização por Magnetron

✅ Vantagens:

Forte adesão, películas densas/resistentes ao desgaste, boa estabilidade ambiental;

Uniformidade superior de grande área, adequada para produção em massa;

Ampla compatibilidade dos materiais, fabricação de filmes complexos;

A deposição a baixa temperatura protege os substratos.

Desvantagens:

Taxa de deposição lenta, baixa eficiência de película espessa;

O custo elevado do equipamento, a manutenção complexa (consumo alvo rápido);

Controle preciso da proporção de gás exigido para pulverização reativa, alta dificuldade de ajuste do processo.

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