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2025-12-05
1.Evaporation du faisceau électrique
Utilise des faisceaux électroniques à haute énergie pour bombarder les matériaux cibles, en convertissant l'énergie cinétique en énergie thermique pour fondre ou sublimer la cible.Les atomes gazeux se condensent sur la surface du substrat pour former des films mincesUn procédé de "dépôt par évaporation thermique" qui utilise des cibles en vrac telles que des métaux purs et des oxydes.
2.Sputtering par magnétron
Utilise des champs électriques RF/DC pour ioniser des gaz inertes (par exemple, Ar) en plasma.Les films composés sont obtenus par "poudre réactive" (introduction d'O2, N2), en utilisant des cibles en alliage/composé en vrac ou en tôle.
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Dimension de comparaison |
Evaporation du faisceau électrique |
Sputtering par magnétron |
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Taux de dépôt |
Haute (0,1 ∼10 nm/s), idéale pour le dépôt rapide de film épais |
Faible moyenne (0,01 ‰ 1 nm/s), précise pour les films minces |
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Uniformité du film |
Modérée (± 5·10%), dépendant de la conception de la rotation du substrat |
Excellent (± 1 ‰ 3%), exceptionnel pour le revêtement de grande surface |
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Densité du film |
Faible (porosité 5·15%), sujette à l'absorption de l'humidité |
Ultra-haut (porosité < 2%), dense et résistant à l'usure |
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Adhésion |
Modérée (forces de van der Waals dominantes), prétraitement du substrat requis |
Forte (mélange d'interface par bombardement ionique), durabilité supérieure |
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Contrôle optique des performances |
Indice de réfraction stable (évaporation des matières pures); haute transmittance pour les films transparents (par exemple, SiO2, TiO2); faible perte de dispersion |
Indice de réfraction réglable (via le rapport puissance/gaz de pulvérisation); fabrication facile de films composites (par exemple, TiN, AlN) par pulvérisation réactive; perte de dispersion ultra-faible avec des films lisses |
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Compatibilité matérielle |
Convient pour les matériaux à point de fusion élevé (par exemple, Ta2O5, ZrO2); difficile pour les matériaux à bas point de fusion/volatiles |
Large gamme (métaux, alliages, composés); permet des films à plusieurs composants (par exemple, ITO, MgF2-Al2O3) |
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Effets de la température du substrat |
Haute température (150 à 300 °C), risque de déformation du substrat |
Les dépôts à basse température protègent les substrats |
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Coût de l'équipement et entretien |
Faible coût initial, entretien simple (remplacement facile de la cible) |
Coût initial élevé (cibles/systèmes de puissance magnétroniques coûteux); taux d'utilisation cible de 30 à 50% |
• les personnes âgéesProduction en lots de petite à moyenne taille: R&D en laboratoire, composants optiques personnalisés (couches antireflet des lentilles, filtres à bande étroite).
• les personnes âgéesFilms purs à point de fusion élevé: films TiO2/ZrO2 à indice de réfraction élevé, films SiO2 à indice de réfraction faible.
• les personnes âgéesExigences en matière d'épaisseur de film: films réfléchissants IR (> 1 μm), couches réfléchissantes métalliques (films Al, Ag).
• les personnes âgéesSubstrats insensibles à la température: verre, céramique résistante aux températures élevées.
• les personnes âgéesProduction industrielle de masse: panneaux d'affichage (films conducteurs transparents ITO), revêtements AR pour lentilles de téléphones portables.
• les personnes âgéesCouche de grande surface: verre photovoltaïque, verre architectural (> 1 m2).
• les personnes âgéesBesoins de durabilité élevés: composants optiques automobiles, instruments optiques extérieurs (résistance à l'usure et à la corrosion).
• les personnes âgéesFiltres composites/multi-couches: films à indice de réfraction de gradient, filtres à plusieurs couches (contrôle précis de l'interface).
• les personnes âgéesDépôt à basse température: Substrats en plastique (PC, PMMA), matériaux optiques flexibles.
✅ Les avantages:
• les personnes âgéesEfficacité de dépôt élevée, cycle de production court;
• les personnes âgéesDes performances optiques stables des films purs, une excellente transmission;
• les personnes âgéesFaible investissement dans l'équipement, fonctionnement facile.
Les inconvénients:
• les personnes âgéesFaible densité du film, stabilité à long terme insuffisante;
• les personnes âgéesContrôle difficile de l'uniformité sur une grande surface;
• les personnes âgéesDes types de film limités (matériaux volatils à faible fusion).
✅ Les avantages:
• les personnes âgéesUne forte adhérence, des films denses/résistants à l'usure, une bonne stabilité environnementale;
• les personnes âgéesUniformité supérieure sur de grandes surfaces, adaptée à la production en série;
• les personnes âgéesLarge compatibilité des matériaux, fabrication de films complexes;
• les personnes âgéesLe dépôt à basse température protège les substrats.
Les inconvénients:
• les personnes âgéesTaux de dépôt lent, faible efficacité de film épais;
• les personnes âgéesCoût élevé de l'équipement, entretien complexe (consommation cible rapide);
• les personnes âgéesContrôle précis du rapport de gaz requis pour la pulvérisation réactive, difficulté élevée de réglage du processus.
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