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Evaporation par faisceau électronique par rapport au pulvérisation par magnétron pour revêtements optiques: analyse comparative

2025-12-05

Dernières nouvelles de l'entreprise Evaporation par faisceau électronique par rapport au pulvérisation par magnétron pour revêtements optiques: analyse comparative

I. Vue d'ensemble des principes fondamentaux

1.Evaporation du faisceau électrique

Utilise des faisceaux électroniques à haute énergie pour bombarder les matériaux cibles, en convertissant l'énergie cinétique en énergie thermique pour fondre ou sublimer la cible.Les atomes gazeux se condensent sur la surface du substrat pour former des films mincesUn procédé de "dépôt par évaporation thermique" qui utilise des cibles en vrac telles que des métaux purs et des oxydes.

2.Sputtering par magnétron

Utilise des champs électriques RF/DC pour ioniser des gaz inertes (par exemple, Ar) en plasma.Les films composés sont obtenus par "poudre réactive" (introduction d'O2, N2), en utilisant des cibles en alliage/composé en vrac ou en tôle.

II. Comparaison des performances clés (pour les revêtements optiques)

 

Dimension de comparaison

Evaporation du faisceau électrique

Sputtering par magnétron

Taux de dépôt

Haute (0,1 ∼10 nm/s), idéale pour le dépôt rapide de film épais

Faible moyenne (0,01 ‰ 1 nm/s), précise pour les films minces

Uniformité du film

Modérée (± 5·10%), dépendant de la conception de la rotation du substrat

Excellent (± 1 ‰ 3%), exceptionnel pour le revêtement de grande surface

Densité du film

Faible (porosité 5·15%), sujette à l'absorption de l'humidité

Ultra-haut (porosité < 2%), dense et résistant à l'usure

Adhésion

Modérée (forces de van der Waals dominantes), prétraitement du substrat requis

Forte (mélange d'interface par bombardement ionique), durabilité supérieure

Contrôle optique des performances

Indice de réfraction stable (évaporation des matières pures); haute transmittance pour les films transparents (par exemple, SiO2, TiO2); faible perte de dispersion

Indice de réfraction réglable (via le rapport puissance/gaz de pulvérisation); fabrication facile de films composites (par exemple, TiN, AlN) par pulvérisation réactive; perte de dispersion ultra-faible avec des films lisses

Compatibilité matérielle

Convient pour les matériaux à point de fusion élevé (par exemple, Ta2O5, ZrO2); difficile pour les matériaux à bas point de fusion/volatiles

Large gamme (métaux, alliages, composés); permet des films à plusieurs composants (par exemple, ITO, MgF2-Al2O3)

Effets de la température du substrat

Haute température (150 à 300 °C), risque de déformation du substrat

Les dépôts à basse température protègent les substrats

Coût de l'équipement et entretien

Faible coût initial, entretien simple (remplacement facile de la cible)

Coût initial élevé (cibles/systèmes de puissance magnétroniques coûteux); taux d'utilisation cible de 30 à 50%

III. Scénarios d'application

Evaporation du faisceau électrique

• les personnes âgéesProduction en lots de petite à moyenne taille: R&D en laboratoire, composants optiques personnalisés (couches antireflet des lentilles, filtres à bande étroite).

• les personnes âgéesFilms purs à point de fusion élevé: films TiO2/ZrO2 à indice de réfraction élevé, films SiO2 à indice de réfraction faible.

• les personnes âgéesExigences en matière d'épaisseur de film: films réfléchissants IR (> 1 μm), couches réfléchissantes métalliques (films Al, Ag).

• les personnes âgéesSubstrats insensibles à la température: verre, céramique résistante aux températures élevées.

Sputtering par magnétron

• les personnes âgéesProduction industrielle de masse: panneaux d'affichage (films conducteurs transparents ITO), revêtements AR pour lentilles de téléphones portables.

• les personnes âgéesCouche de grande surface: verre photovoltaïque, verre architectural (> 1 m2).

• les personnes âgéesBesoins de durabilité élevés: composants optiques automobiles, instruments optiques extérieurs (résistance à l'usure et à la corrosion).

• les personnes âgéesFiltres composites/multi-couches: films à indice de réfraction de gradient, filtres à plusieurs couches (contrôle précis de l'interface).

• les personnes âgéesDépôt à basse température: Substrats en plastique (PC, PMMA), matériaux optiques flexibles.

Résumé des avantages et des inconvénients

Evaporation du faisceau électrique

✅ Les avantages:

• les personnes âgéesEfficacité de dépôt élevée, cycle de production court;

• les personnes âgéesDes performances optiques stables des films purs, une excellente transmission;

• les personnes âgéesFaible investissement dans l'équipement, fonctionnement facile.

Les inconvénients:

• les personnes âgéesFaible densité du film, stabilité à long terme insuffisante;

• les personnes âgéesContrôle difficile de l'uniformité sur une grande surface;

• les personnes âgéesDes types de film limités (matériaux volatils à faible fusion).

Sputtering par magnétron

✅ Les avantages:

• les personnes âgéesUne forte adhérence, des films denses/résistants à l'usure, une bonne stabilité environnementale;

• les personnes âgéesUniformité supérieure sur de grandes surfaces, adaptée à la production en série;

• les personnes âgéesLarge compatibilité des matériaux, fabrication de films complexes;

• les personnes âgéesLe dépôt à basse température protège les substrats.

Les inconvénients:

• les personnes âgéesTaux de dépôt lent, faible efficacité de film épais;

• les personnes âgéesCoût élevé de l'équipement, entretien complexe (consommation cible rapide);

• les personnes âgéesContrôle précis du rapport de gaz requis pour la pulvérisation réactive, difficulté élevée de réglage du processus.

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