Hubei Lion King Vacuum Technology Co., Ltd.
Email: sales@lionpvd.com TELEFOON: 86--18207198662
Thuis
Thuis
>
Nieuws
>
Bedrijfsnieuws Over E-beam verdamping versus magnetron sputtering voor optische coatings: een vergelijkende analyse
Evenementen
LAAT EEN BERICHT ACHTER

E-beam verdamping versus magnetron sputtering voor optische coatings: een vergelijkende analyse

2025-12-05

Het laatste nieuws van het bedrijf over E-beam verdamping versus magnetron sputtering voor optische coatings: een vergelijkende analyse

I. Overzicht van de kernbeginselen

1.E-beam verdamping

Gebruikt elektronenstralen van hoge energie om doelmateriaal te bombarderen, waardoor kinetische energie wordt omgezet in thermische energie om het doel te smelten of te sublimeren.Gasvormige atomen condenseren op het oppervlak van het substraat tot dunne filmsEen "thermische verdamping afzetting" proces, het gebruikt bulk doelen zoals zuivere metalen en oxiden.

2.Magnetronsputtelen

Gebruikt RF/DC elektrische velden om inerte gassen (bijv. Ar) te ioniseren in plasma. Versnelde ionen bombarderen het doeloppervlak, waardoor momentum wordt overgedragen aan sputterdoelatomen, die zich op het substraat afzetten.Samengestelde films kunnen worden verkregen door middel van "reactief sputteren" (het introduceren van O2, N2), met behulp van bulk- of plaatlegeringen/verbindingsdoelen.

II. Belangrijkste prestatievergelijking (voor optische coatings)

 

Vergelijkingsdimensie

E-beam verdamping

Magnetronsputtelen

Depositocijfer

Hoog (0,1 ∼10 nm/s), ideaal voor snelle dikke film afzetting

Gemiddeld laag (0,01 ∼1 nm/s), nauwkeurig voor dunne folies

Uniformiteit van de film

Gematigd (± 5·10%), afhankelijk van het ontwerp van de rotatie van het substraat

Uitstekend (± 1 ‰ 3%), uitstekend voor het coachen van grote oppervlakken

Filmdichtheid

Lage (porositeit 5·15%), gevoelig voor vochtopname

Ultrahoge (porositeit < 2%), dicht en slijtvast

Aanhangsel

Matig (van der Waals krachten dominant), substraat voorbehandeling vereist

Sterk (interface-menging via ionenbombardement), superieure duurzaamheid

Optische prestatiecontrole

Stabiele brekingsindex (zuivere materiële verdamping); hoge doorlaatbaarheid voor transparante films (bv. SiO2, TiO2); laag verspreidingsverlies

Afstembare brekingsindex (via sputtervermogen/gasverhouding); gemakkelijke fabricage van composietfolie (bv. TiN, AlN) via reactief sputteren; ultralage verstrooiing met gladde folie

Materiële verenigbaarheid

Geschikt voor materialen met een hoog smeltpunt (bv. Ta2O5, ZrO2); uitdagend voor materialen met een lage smelt/vluchtige stoffen

Een breed scala (metalen, legeringen, verbindingen); maakt multicomponentfilms mogelijk (bijv. ITO, MgF2-Al2O3)

Invloed op de temperatuur van het substraat

Hoog (150°C-300°C), risico op substraatvervorming

Laag (0°C), laagtemperatuur afzetting beschermt de substraten

Kosten voor apparatuur en onderhoud

Lage initiële kosten, eenvoudig onderhoud (gemakkelijke vervanging van het doel)

Hoge aanvankelijke kosten (dure magnetrondoelen/krachtsystemen); doelgebruik van 30­50%

III. Toepassingsscenarios

E-beam verdamping

Productie van kleine tot middelgrote batches: laboratoriumonderzoek en ontwikkeling, op maat gemaakte optische componenten (lensanti-reflectiecoatings, smalbandfilters).

Pure films met een hoog smeltpunt: TiO2/ZrO2-films met een hoge brekingsindex, SiO2-films met een lage brekingsindex.

Voor een dikke film: IR-reflecterende films (> 1 μm), metalen reflecterende lagen (Al, Ag-films).

Temperatuurgevoelige substraten: glas, hoogtemperatuurbestendige keramiek.

Magnetronsputtelen

Massaproductie in de industrie: displaypanelen (ITO-transparante geleidende folies), AR-coatings voor mobiele telefoonglazen.

Grote oppervlaktecoating: PV-glas, architectuurglas (>1m2).

Hoge duurzaamheidsvereisten: optische onderdelen voor de automobielindustrie, buitenoptische instrumenten ( slijtvastheid/corrosiebestendigheid).

Composite/meerlaagse films: gradiënt-brekingsindexfilms, meerlaagse filters (precise interface control).

Laagtemperatuurafzetting: kunststofsubstraten (PC, PMMA), flexibele optische materialen.

IV. Voordelen en nadelen samenvatting

E-beam verdamping

Voordelen:

Hoog afzettingsefficiëntie, korte productiecyclus;

Stabiele optische prestaties van zuivere films, uitstekende doorlaatbaarheid;

Een lage investering in apparatuur, gemakkelijke bediening.

De nadelen:

Slechte filmdichtheid, onvoldoende langdurige stabiliteit;

Moeilijke controle van de uniformiteit op grote oppervlakken;

Beperkte filmsoorten (vluchtige laagsmeltbare materialen).

Magnetronsputtelen

Voordelen:

Sterke hechting, dichte/ slijtagebestendige folies, goede milieustabiliteit;

Een superieure uniformiteit op grote oppervlaktes, geschikt voor massaproductie;

Grote materiaalcompatibiliteit, complexe filmvervaardiging;

De laagtemperatuur afzetting beschermt de substraten.

De nadelen:

Langzame afzetting, lage dikke film efficiëntie;

Hoge apparatuurkosten, complex onderhoud (snel streefverbruik);

Precieze controle van de gasverhouding vereist voor reactief sputteren, hoge moeilijkheid bij het afstemmen van het proces

Neem op elk moment contact met ons op.

86--18207198662
Nr. 3, 17e verdieping, Eenheid 1, Gebouw 03, Fase II, Jinmao Mansion, Shoukai OCT, Hexie Road, Hongshan District, Wuhan City, Provincie Hubei, China
Stuur uw aanvraag rechtstreeks naar ons