Hubei Lion King Vacuum Technology Co., Ltd.
E-Mail: sales@lionpvd.com TEL.: 86--18207198662
Zu Hause
Zu Hause
>
Neuigkeiten
>
Firmennachrichten über E-Beam Verdunstung vs. Magnetron-Sputtering für optische Beschichtungen: Eine vergleichende Analyse
HINTERLASSEN SIE EINE NACHRICHT

E-Beam Verdunstung vs. Magnetron-Sputtering für optische Beschichtungen: Eine vergleichende Analyse

2025-12-05

Neueste Unternehmensnachrichten über E-Beam Verdunstung vs. Magnetron-Sputtering für optische Beschichtungen: Eine vergleichende Analyse

I. Überblick über die Grundprinzipien

1.E-Beam Verdunstung

Verwendet hochenergetische Elektronenstrahlen, um Zielmaterialien zu bombardieren, und wandelt kinetische Energie in thermische Energie um, um das Ziel zu schmelzen oder zu sublimieren.Gasförmige Atome kondensieren sich auf der Substratoberfläche und bilden dünne FolienEs handelt sich dabei um eine "thermische Verdunstungsablagerung", bei der Massenobjekte wie reine Metalle und Oxide verwendet werden.

2.Magnetron-Sputtering

Verwendet RF/DC-Elektrische Felder, um inerte Gase (z. B. Ar) in Plasma zu ionisieren. Beschleunigte Ionen bombardieren die Zieloberfläche und übertragen Impuls auf Sputter-Zielatome, die sich auf dem Substrat ablagern.Zusammengesetzte Folien sind durch "reaktives Sputtern" (Einführung von O2, N2), wobei Schütt- oder Blechlegierungs-/Verbundziele verwendet werden.

II. Vergleich der wichtigsten Leistungsmerkmale (für optische Beschichtungen)

 

Vergleichsdimension

E-Beam Verdunstung

Magnetron-Sputtering

Depositionsquote

Hohe Geschwindigkeit (0,1 ∼10 nm/s), ideal für die schnelle Ablagerung von Dickpelzen

Mittelschwache (0,01 ‰ 1 nm/s), präzise für dünne Folien

Filmmaniformität

Moderat (± 5·10%), abhängig von der Konstruktion der Rotation des Substrats

Ausgezeichnet (± 1 ‰ 3%), hervorragend für die Beschichtung großer Flächen

Filmdichte

Niedrig (Porosität 5·15%), anfällig für Feuchtigkeitsabsorption

Ultra-hohe (Porosität < 2%), dicht und verschleißfest

Zusammenschluß

Moderat (van der Waals-Kräfte dominieren), Vorbehandlung des Substrats erforderlich

Stärke (Schnittstellenmischung durch Ionenbombardierung), höhere Haltbarkeit

Optische Leistungskontrolle

Stabiler Brechungsindex (Reinstoffverdampfung); hohe Durchlässigkeit für transparente Folien (z. B. SiO2, TiO2); geringer Streuungsverlust

Abstimmungsfähiger Brechungsindex (durch Sputterleistung/Gasverhältnis); einfache Herstellung von Verbundfolien (z. B. TiN, AlN) durch Reaktionssputter; extrem geringer Streuungsverlust bei glatten Folien

Materielle Vereinbarkeit

Geeignet für Materialien mit hohem Schmelzpunkt (z. B. Ta2O5, ZrO2); schwierig für Materialien mit geringer Schmelzfähigkeit/flüchtige Materialien

Breite Palette (Metalle, Legierungen, Verbindungen); ermöglicht Mehrkomponentenfolien (z. B. ITO, MgF2-Al2O3)

Auswirkungen auf die Substrattemperatur

Hohe Temperatur (150°C bis 300°C), Gefahr einer Verformung des Substrats

Niedrige (0°C), niedrige Temperaturablagerung schützt Substrate

Ausrüstungskosten und Wartung

Niedrige Anfangskosten, einfache Wartung (einfacher Ersatz des Ziels)

Hohe Anfangskosten (teure Magnetronziele/Leistungssysteme); Zielnutzungsrate 30~50%

III. Anwendungsszenarien

E-Beam Verdunstung

Produktion in kleinen bis mittleren Chargen: Forschungs- und Entwicklungslabor, maßgeschneiderte optische Komponenten (Linsen-Anti-Reflexionsbeschichtungen, Schmalbandfilter).

Reine Filme mit hohem Schmelzpunkt: Filme mit hohem Brechungsindex TiO2/ZrO2, Filme mit niedrigem Brechungsindex SiO2.

Anforderungen an die Dicke der Folie: IR-reflektierende Folie (> 1 μm), reflektierende Metallschichten (Al- und Ag-Folie).

Temperaturunempfindliche Substrate: Glas, hochtemperaturbeständige Keramik.

Magnetron-Sputtering

Massenindustrie: Display-Panels (ITO-transparente leitfähige Filme), AR-Beschichtungen für Mobiltelefonobjektive.

Großflächenbeschichtung: PV-Glas, Architekturglas (> 1 m2).

Hohe Haltbarkeitsanforderungen: Optische Komponenten für Automobile, optische Außeneinrichtungen (Ausnutzungs-/Korrosionsbeständigkeit).

Verbundene/mehrschichtige Filme: Filme mit Schrägungsindex, mehrschichtige Filter (genaue Schnittstellensteuerung).

Niedertemperaturablagerung: Kunststoffsubstrate (PC, PMMA), flexible optische Materialien.

IV. Zusammenfassung der Vor- und Nachteile

E-Beam Verdunstung

✅ Vorteile:

Hohe Ablagerungswirksamkeit, kurzer Produktionszyklus;

Stabile optische Leistung von reinen Filmen, hervorragende Durchlässigkeit;

Niedrige Ausrüstungsinvestitionen, einfacher Betrieb.

 Nachteile:

Schlechte Filmdichte, unzureichende Langzeitstabilität;

Schwierige Einheitlichkeitskontrolle in großen Flächen;

Begrenzte Filmtypen (flüchtige, schwach schmelzende Materialien).

Magnetron-Sputtering

✅ Vorteile:

starke Haftung, dichte/verschleppungsbeständige Folien, gute Umweltstabilität;

Überlegene Großflächen-Einheitlichkeit, geeignet für die Massenproduktion;

Breite Materialkompatibilität, komplexe Filmfertigung;

Die Niedertemperaturablagerung schützt die Substrate.

 Nachteile:

Langsamer Ablagerungsgrad, geringer Dickpelzeffizienz;

Hohe Ausrüstungskosten, komplexe Wartung (schneller Zielverbrauch);

Genaue Steuerung des Gasverhältnisses für das Reaktionssputtern erforderlich, hohe Prozessschwierigkeiten.

Kontaktieren Sie uns jederzeit

86--18207198662
Nr. 3, 17. Etage, Einheit 1, Gebäude 03, Phase II, Jinmao Mansion, Shoukai OCT, Hexie Road, Bezirk Hongshan, Stadt Wuhan, Provinz Hubei, China
Senden Sie Ihre Anfrage direkt an uns