<
>
Maszyna do powłoki PVD lampy samochodowej z oczyszczaniem plazmowym, powłoką ochronną i technologią wielołukowych jonów
Maszyna do powłoki PVD lampy samochodowej z oczyszczaniem plazmowym, powłoką ochronną i technologią wielołukowych jonów
Miejsce pochodzenia:Zhaoqing, Guangdong
Nazwa marki:Zhongda
Orzecznictwo:CE
Minimalna ilość zamówienia:1
Czas dostawy:20
Szczegóły produktu
Podkreślić:
Maszyna do metalizowania powłok PVD HMDSO
,Maszyna do metalizowania powłok PVD o mocy 50 kW
,Powłoka PVD dla odblasków świateł samochodowych
Coating Power Supply:
DC/RF/AC
Coating Process:
Odparowanie próżniowe
Coating Density:
≥99,9%
Coating Thickness:
0,1-10 mikronów
Coating Technology:
Multi Arc Ion
Coating Application:
Dekoracyjne, funkcjonalne, ochronne
Coating Color:
Srebro, złoto, różowe złoto, czerń itp.
Coating Uniformity:
≤±5%
Coating Adhesion:
≥ Ugraj 1
Coating Substrate:
Metal, szkło, ceramika, plastik
Coating Chamber Size:
dostosowane
Coating Control System:
PLC/Ekran dotykowy
Coating Temperature:
≤200 ℃
Coating Size:
dostosowane
Coating Speed:
1-4 m/min
Coating Source:
Parowanie łukowe
Coating Material:
Metal
Opis produktu
Szczegółowe specyfikacje i cechy
Maszyna do powlekania próżniowego PVD do lamp samochodowych
Kompletny zautomatyzowany system do powlekania metali na tworzywach sztucznych, szkle i innych podłożach ze zintegrowanym czyszczeniem plazmowym i powlekaniem ochronną warstwą tlenkową.
Przegląd sprzętu
To w pełni automatyczne urządzenie do powlekania metodą odparowania z drutu grzejnego wykonuje powlekanie metali na powierzchniach z tworzyw sztucznych i szkła, jednocześnie nakładając bezpośrednio ochronną warstwę tlenkową (SiOx) na powlekaną warstwę metalu. Proces odbywa się w całości w komorze próżniowej poprzez zautomatyzowane etapy, w tym wydech próżni nisko-ciśnieniowej, wstępne przygotowanie powierzchni metodą bombardowania łukiem elektrycznym w celu aktywacji powierzchni, wydech próżni wysoko-ciśnieniowej (10-5 Pa), powlekanie odparowaniem aluminium i powlekanie warstwą antyoksydacyjną w celu zapobiegania utlenianiu i odrywaniu się warstwy aluminium.
Zastosowania
Nadaje się do stali nierdzewnej, szkła, tworzyw sztucznych, lamp samochodowych, akcesoriów samochodowych, logo samochodowych, felg i różnych komponentów przemysłowych.
Specyfikacje techniczne
| Model | VPD 1616 S | VPD 1618 S | VPD 1420 S |
|---|---|---|---|
| Wymiary | 1600×700×1600 mm | 1600×700×1800 mm | 1400×620×2000 mm |
| Materiał | Stal nierdzewna SUS304 lub stal węglowa | ||
| System próżniowy | Pompa dyfuzyjna + pompa Roots + pompa mechaniczna (3.0×10-4 Pa) | ||
| Cykl pracy | Sterowanie częstotliwością obrotów publicznych: 0-20 obrotów na minutę | ||
| Moc procesu | Importowany zasilacz MF | ||
| System chłodzenia | Jednostka chłodząca POLY (osiągająca poniżej 130°C) | ||
| System sterowania | Sterownik PLC i jeden ekran dotykowy | ||
| Uwagi | Wszystko można zaprojektować zgodnie z życzeniem klienta | ||
Kluczowe zalety
- Bardzo wysoka wydajność: Szybki czas cyklu produkcyjnego – 10 minut na komorę, 30 m²/godzinę
- Brak konieczności czyszczenia po powleczeniu: Eliminuje proces czyszczenia, produkty mogą być dostarczane bezpośrednio
- Doskonała odporność na ścieranie: Kąt hydrauliczny większy niż 100 stopni po 10 000 testach ścierania
- Szybkie tworzenie warstwy SiOx: Opatentowana metoda chemicznego osadzania z fazy gazowej pozwala uzyskać wymaganą grubość warstwy w 3-5 minut
- Zoptymalizowana struktura sprzętu: Opatentowana konstrukcja zapewnia stabilną jakość produktu, wygodną obsługę i prostą konserwację
Technologia fizycznego osadzania z fazy gazowej (PVD)
Maszyny do powlekania metodą odparowania pracują w środowisku próżniowym, podgrzewając materiały powlekające do odparowania i tworzenia atomów/cząsteczek gazowych, które osadzają się na powierzchniach podłoża, tworząc cienkie warstwy. Jako klasyczna technologia fizycznego osadzania z fazy gazowej (PVD), powlekanie metodą odparowania znacząco różni się od napylania i plazmowo-jonowego osadzania łukowego pod względem wydajności, kosztów i zastosowań.
Korzyści techniczne
Bezpośrednie ogrzewanie materiału umożliwia szybsze tempo osadzania materiałów o niskiej i średniej temperaturze topnienia, co czyni odparowanie idealnym rozwiązaniem do produkcji na dużą skalę powłok dekoracyjnych i funkcjonalnych. Systemy te charakteryzują się prostszymi komponentami, niższymi kosztami zakupu i zmniejszonymi wymaganiami konserwacyjnymi. Środowisko wysokiej próżni zapewnia minimalne zderzenia cząsteczek pary, co skutkuje powłokami o mniejszej ilości zanieczyszczeń. Dodatkowo, odparowanie może być przeprowadzane w niższych temperaturach podłoża, co czyni je odpowiednim do powlekania materiałów wrażliwych na ciepło.
Wiadomość do szybkiej odpowiedzi
Powiązane produkty
Podwójna maszyna do powlekania próżniowego z parowaniem termicznym z jednolitością powlekania ≥ 95% i dostosowalną wielkością komory
Thermal Evaporation PVD Vacuum Coating Machine Double doors plastic metallized thermal evaporation PVD vacuum plating coating machine for coating aluminum film, compatible with UV spray lines. Thermal Evaporation Technology Thermal evaporation is a physical vapor deposition (PVD) technique for ...
Maszyna do pokrycia próżniowego z odładowaniem pary fizycznej 380V Duża pojemność
warranty 1 Year type Coating Production Line voltage 380Vb or customizable coating Vacuum Coating core components PLC, motor, Gear, Pump, vacuum machine chamber video outgoing-inspection Provided machinery test report Provided key selling points Free training/easy to operate substrate stainless ...
1. Core Definition and Function Through the "vacuum evaporation" technology in Physical Vapor Deposition (PVD), this equipment heats aluminum material to evaporate it into an atomic/molecular state. In a vacuum environment, these aluminum particles are uniformly deposited on the surface of plastic ...
Maszyna do powlekania wiązki elektronowej z systemem PLC
I. Core Structure Vacuum system Core components: Vacuum chamber, molecular pump, mechanical pump, vacuum gauge (ionization type/resistance type). Function: It provides a high vacuum environment of 10⁻³ to 10⁻⁶ Pa, reducing electron beam scattering, target material oxidation and film contamination, ...
