เครื่องเคลือบระบายน้ําแบบ PVD วัคิวัม

ภาพรวมเทคโนโลยี

โรลทูโรล (R2R) PVD วัคิวัมโค้ตเป็นเทคโนโลยีการฝากควายทางกายภาพที่ก้าวหน้าที่ออกแบบมาเพื่อการเคลือบสับสราตที่ยืดหยุ่นอย่างต่อเนื่องในสภาพแวดล้อมวาคิวัม (ความดัน < 10-3 Torr)กระบวนการที่นวัตกรรมนี้ใช้เทคนิคการพ่นแม็กเนตรอนหรือการระเหย เพื่อฝากแผ่นโลหะบาง, อ๊อกไซด์, ไนทรีด, หรือคาร์บิดบนวัสดุยืดหยุ่น, ให้คุณสมบัติการทํางานและตกแต่งที่ดีกว่าวิธีการ R2R PVD ดีเยี่ยมในการผลิตวัสดุยืดหยุ่นเคลือบในปริมาณสูงสําหรับอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์, การบรรจุภัณฑ์ และการใช้งานในอุตสาหกรรม

หลักการทํางาน

เครื่องเคลือบระบายน้ํา PVD Roll to Roll ทําการฝากหนังบางต่อเนื่องบนพื้นฐานยืดหยุ่นผ่านการควบคุมลําดับของกระบวนการอย่างแม่นยําระบบรักษาสภาวะความตึงเครียดและความว่างของพื้นฐาน ตลอดวงจรการผลิตทั้งหมด เพื่อให้มีคุณภาพการเคลือบที่เหมือนกัน.

หลักการการทํางานอย่างละขั้นตอน:

1.การตั้งระบบปลด:

รอลล์สับสราทยืดหยุ่น (เช่น ฟิล์มพลาสติก, โฟลยโลหะ) ถูกบรรจุลงบนสถานีปลด. ระบบควบคุมความตึงเครียดถูกใช้ในการรักษาความแน่นของสับสราทที่เหมาะสมระหว่างการแปรรูป.

1.การอพยพห้องว่าง:

ห้องว่างหลายโซนถูกระบายถึงความดันกระบวนการที่ต้องการโดยใช้การผสมผสานของปั๊มกลไก Roots และปั๊มกระจาย เพื่อบรรลุระดับความว่างสูงสุด ≤5 × 10−4 Pa

1.กระบวนการรักษาก่อน:

สารสับสราทได้รับการทําความสะอาดจากพลาสมาหรือการเปิดผิวเพื่อกําจัดสารปนเปื้อนและปรับปรุงการติดตามเคลือบ. ขั้นตอนนี้ใช้พลาสมาอาร์กอนในการถักผิวของสับสราท

1.การเข้าเขตฝาก:

สับสราทที่ได้รับการรักษาก่อนจะเข้าไปในโซนฝังที่วัสดุถูกระเหยจากเป้าหมายที่แข็งแรงโดยใช้แหล่งกระจายแม็กเนตรอนหรือการระเหย

1.การฝากฟิล์ม:

วัสดุที่ระเหยลงจะบดลงบนพื้นผิวพื้นฐานที่เคลื่อนไหว สร้างฟิล์มบาง ก๊าซที่มีปฏิกิริยา (N2, O2) สามารถนําเข้าเพื่อสร้างเคลือบส่วนผสม (ไนไตรได, โอไซด์)

1.การเย็นและการแข็ง:

พื้นที่เคลือบผ่านบริเวณเย็นเพื่อทําให้โครงสร้างหนังที่ฝากไว้มั่นคง ก่อนออกจากห้องว่าง

1.กระบวนการลวด:

สารสับสราทที่เคลือบด้วยเคลือบถูกม้วนลงบนม้วนรับในระดับความดันที่ควบคุมได้ เพื่อให้แน่ใจว่าการจัดการของวัสดุที่เสร็จสิ้นถูกต้อง

1.การควบคุมกระบวนการ:

ระบบ PLC ที่ทันสมัยติดตามและปรับปริมาตรการฝากในเวลาจริง รวมถึงความเร็วของสาย, พลังงานเป้าหมาย, อัตราการไหลของก๊าซ และระดับความว่างเพื่อรักษาคุณภาพการเคลือบที่คงที่

ข้อดีสําคัญ

ประสิทธิภาพการผลิตสูงการแปรรูปแบบต่อเนื่องทําให้ความเร็วการผลิตได้ถึง 10~300 เมตรต่อนาที เหมาะสําหรับการผลิตขนาดใหญ่

ความเหมือนกันของเคลือบชั้นสูง:ทําให้ความหนาเป็นแบบเดียวกันภายใน ± 3% ตลอดความกว้างและความยาวของสับสราท, รับประกันผลประกอบการที่คงที่

วัสดุที่มีความหลากหลาย:สามารถฝากวัสดุต่าง ๆ รวมถึงโลหะ (Al, Ag, Cu), โอกไซด์ (SiO2, Al2O3), ไนไตรด (SiNx) และคาร์ไบด์บนพื้นฐานยืดหยุ่นที่หลากหลาย

คุณสมบัติป้องกันที่ดีเยี่ยม:การเคลือบให้ความชื้นที่ดีและผลงานอุปสรรคออกซิเจน (ต่ําเพียง 0.1 cc / m2/ วันสําหรับอัตราการส่งออกซิเจน)

การผลิตที่ประหยัดอัตราการใช้งานวัสดุสูง (> 85%) และลดขยะเมื่อเทียบกับวิธีการแปรรูปชุด

ปลอดภัยต่อสิ่งแวดล้อมกระบวนการที่ไม่มีสารละลาย โดยไม่เกิดขยะอันตราย ซึ่งตรงกับมาตรฐาน RoHS และ ISO 14001 ของสหภาพยุโรป

สาขาอุตสาหกรรมที่ใช้

อิเล็กทรอนิกส์ยืดหยุ่น:แผนที่สัมผัส, จอแสดงภาพยืดหยุ่น, OLEDs, และบอร์ดวงจรพิมพ์

การบรรจุ:การบรรจุอาหารและยา ผนังป้องกัน และวัสดุบรรจุโลหะ

พลังงาน:ส่วนประกอบของเซลล์พลังแสงอาทิตย์ อิเล็กทรอดแบตเตอรี่ และอุปกรณ์เก็บพลังงาน

หนังอุตสาหกรรม:ฟิล์มประดับ, ฟิล์มป้องกัน, และผิวหนังที่ใช้งานได้

ประเภทรถยนต์:ฟิล์มตกแต่งภายใน พื้นผิวแผ่นควบคุม และส่วนประกอบของเซ็นเซอร์

สินค้าผู้บริโภค:แพ็คเกจยืดหยุ่น แผงของขวัญ และส่วนประกอบของอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์

ผลการเคลือบและคุณสมบัติการทํางาน

ระบบ Roll to Roll PVD สามารถผลิตเคลือบประสิทธิภาพที่หลากหลายที่มีลักษณะการทํางานเฉพาะเจาะจง:

การเคลือบแสง:ฟิล์มประสานแสงโปร่ง โครงการเคลือบกันการสะท้อนแสง และฟิล์มกรองแสง

ผิวเคลือบป้องกัน:ป้องกันความชื้นและออกซิเจนที่มีประสิทธิภาพสูง สําหรับการใช้งานบรรจุภัณฑ์

ผิวเคลือบแบบนําไฟ:ฟิล์มนําไฟแรงต่ําสําหรับการใช้งานด้านอิเล็กทรอนิกส์ (ความต้านทานบนผิว < 10 Ω/sq)

การเคลือบตกแต่ง:การทําปลายงานโลหะ (ทอง, เงิน, โครม) ด้วยความทนทานต่อการบด

การเคลือบป้องกันฟิล์มกันรอยขีดข่วนและกันการกัดกร่อน เพื่อความทนทานสูงขึ้น

ประเภทโครงสร้าง

การออกแบบห้องเดียวการตั้งค่าที่คอมแพคต์สําหรับการใช้งานเคลือบแบบง่าย ๆ ที่มีความต้องการความกว้างของสับสราทที่จํากัด

การออกแบบหลายห้อง:ระบบโมดูลที่มีโซนแยกสําหรับการรักษาก่อน, การฝาก, และการเย็น, ยอมให้เคลือบหลายชั้นที่ซับซ้อน

การตั้งค่าความกว้าง:การออกแบบเฉพาะเจาะจงสําหรับพื้นฐานความกว้างถึง 2000 มิลลิเมตร เหมาะสําหรับการบรรจุและการใช้งานขนาดใหญ่

การตั้งค่าความเร็วสูง:ปรับปรุงให้ได้ผลิตสูงสุด ด้วยการควบคุมความเครียดที่พัฒนามากสําหรับพื้นฐานบางและอ่อนโยน

วัสดุพื้นฐาน

พลาสติกยืดหยุ่น (PET, PP, PE, PI), โฟลยโลหะ (Al, Cu), กระดาษ, เนื้อผ้า และวัสดุประกอบ

วัสดุเคลือบ

โลหะ: อลูมิเนียม (Al), ทองแดง (Cu), เงิน (Ag), โครเมียม (Cr)

โอกไซด์: ซิลิคอนไดออกไซด์ (SiO2), อลูมิเนียมออกไซด์ (Al2O3), ไทเทเนียมออกไซด์ (TiO2)

ไนไตรด: ไนไตรดซิลิคอน (SiNx) ไนไตรดไทเทเนียม (TiN)

สารสกัด: เป้าหมายสกัดต่าง ๆ สําหรับการเคลือบที่ใช้งานเฉพาะเจาะจง

การสนับสนุนสายการผลิต

ผสมผสานกับระบบทําความสะอาดก่อนการเคลือบ โมดูลการบําบัดพลาสมา และระบบตรวจสอบหลังการเคลือบ (การวัดความหนาทางออนไลน์ การตรวจหาความบกพร่อง)

สินค้าใช้

วัสดุเป้าหมาย (Al, Cu, Ag, SiO2 ฯลฯ) ก๊าซกระบวนการ (Ar, N2, O2) และน้ํามันปั๊มสูบว่าง

การใช้งาน

อิเล็กทรอนิกส์:จอแสดงภาพแบบยืดหยุ่น, จอสัมผัส, และอิเล็กทรอนิกส์ที่พิมพ์ที่ต้องการเคลือบแบบนําและป้องกัน

การบรรจุ:ฟิล์มขัดขวางสูงสําหรับการรักษาอาหารและบรรจุยา

พลังงาน:ฟิล์มไฟฟ้า และส่วนประกอบแบตเตอรี่ที่มีเคลือบหน้าที่พิเศษ

ประเภทรถยนต์:หนังประดับและป้องกันสําหรับการใช้งานภายในและภายนอก

การปรับแต่ง

ระบบ R2R PVD ของเรามีบริเวณฝังที่ปรับได้ การปรับแต่งหลายเป้าหมาย และระบบควบคุมความเครียดที่พัฒนาและโมดูลกระบวนการเฉพาะสําหรับความต้องการการใช้งานเฉพาะเจาะจง.