| Вакуумная система | Ультимативный вакуум ≤ 5*10−4 Pa |
| Тип источника испарения | Нагрев сопротивлением (неограниченные волфрамовые лодки) + дополнительное нагрев электронным пучком |
| Уровень покрытия | Испарение сопротивления: 50-200 нм/мин; испарение электронного луча: 30-150 нм/мин |
| Максимальный размер заготовки | Максимальный диаметр ≤ 1200 мм (настраиваемый) |
| Однородность толщины пленки | ± 3-5% для плоских подложков; ± 8% - 10% для сложных изогнутых поверхностей (оптимизируется путем вращения заготовки) |
| Метод контроля | Автоматическое управление ПЛК, поддержка хранения рецептов и дистанционного мониторинга |
| Экологическая эффективность | Никаких выбросов сточных вод или выхлопных газов, соответствующие стандартам RoHS и REACH |
СОТРАНИВАЙСЯ С НАМИ в любое время