| वैक्यूम प्रणाली | अंतिम निर्वात ≤ 5*10−4 Pa |
| वाष्पीकरण स्रोत का प्रकार | प्रतिरोध हीटिंग (मल्टीपल वोल्फ्रेम बोट्स) + वैकल्पिक इलेक्ट्रॉन बीम हीटिंग |
| कोटिंग दर | प्रतिरोध वाष्पीकरणः 50-200 एनएम/मिनट; इलेक्ट्रॉन बीम वाष्पीकरणः 30-150 एनएम/मिनट |
| अधिकतम वर्कपीस आकार | अधिकतम व्यास ≤ 1200 मिमी (अनुकूलन योग्य) |
| फिल्म मोटाई एकरूपता | फ्लैट सब्सट्रेट के लिए ± 3%-5%; जटिल घुमावदार सतहों के लिए ± 8%-10% (वर्कपीस रोटेशन के माध्यम से अनुकूलित) |
| नियंत्रण विधि | पीएलसी स्वचालित नियंत्रण, समर्थन नुस्खा भंडारण और दूरस्थ निगरानी |
| पर्यावरणीय प्रदर्शन | कोई अपशिष्ट जल या निकास उत्सर्जन नहीं, RoHS और REACH मानकों के अनुरूप |
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