PVD Multi-arc Magnetron Sputtering Composite Coating Machine อุปกรณ์ทําโลหะแบบว่าง

หลักเทคนิคของอุปกรณ์เคลือบไอออนหลายคลื่นไมโครเวฟอยู่ที่ "การปล่อยพลาสมาหลายคลื่นไมโครเวฟร่วมมือกัน" ซึ่งมีลักษณะพิเศษดังต่อไปนี้:

• ซีเนอร์จีจากแหล่งพลาสมาแบบคู่ การเพิ่มอัตราการไอโอไนส์และกิจกรรมแบบคู่อุปกรณ์ประกอบด้วย "เป้าหมายคาโทดหลายวงจร" และ "แหล่งพลาสมาไมโครเวฟ" (โดยทั่วไปคือแหล่งไมโครเวฟ 2.45GHz).), และไมโครเวฟกระตุ้นก๊าซทํางาน (เช่น N2, Ar, CH4, ฯลฯ) เพื่อผลิตพลาสมาผู้ช่วย. หลังจากการวางกันของสอง, อัตราการยอนของพลาสมาสามารถกว้างกว่า 90% นอกจากนี้,ความเข้มข้นของอนุภาคที่ทํางาน (อะตอม, อิออน, แรดิกอลอิสระ) เพิ่มขึ้นอย่างมาก, สร้างพื้นฐานสําหรับการเติบโตหนาของชั้นหนัง.
•  
• สภาพแวดล้อมการเติบโตของชั้นหนังสามารถควบคุมได้ และโครงสร้างและผลงานถูกกําหนดอย่างแม่นยําโดย ปรับ ปริมาตร เช่น พลังงานไมโครเวฟ, กระแสหลายวงโค้ง, ระดับความว่าง, และความกระชับกระแส bias, ความหนาแน่นของพลาสมา, พลังงานของไอออน, และสัดส่วนของอนุภาคที่ทํางานสามารถควบคุมได้อย่างแม่นยํา.นี้ทําให้การปรับปรุงเป้าหมายของโครงสร้างชั้นหนัง (เช่นโครงสร้าง nanocrystalline, amorphous, และโครงสร้างประกอบหลายชั้น) และผลงาน (ความแข็งแรง, ความแข็งแรง,และสัดส่วนการขัด), ตอบสนองความต้องการที่กําหนดเองของฉากที่แตกต่างกัน
• อุณหภูมิต่ําและประสิทธิภาพสูงในสมดุล เหมาะสําหรับพื้นฐานที่มีความรู้สึกต่อความร้อนพลาสมาไมโครเวฟมีลักษณะ "กิจกรรมสูงในอุณหภูมิต่ํา"ทําให้การเคลือบที่มีประสิทธิภาพในช่วงอุณหภูมิต่ํา 100-400 °C (อุณหภูมิสําหรับการเคลือบหลายเส้นโค้งแบบดั้งเดิมเป็นส่วนใหญ่ 150-500 °C)นอกจากนี้มันสามารถลดพลังงานที่จําเป็นสําหรับวัสดุเป้าหมายการระเหยโดยการช่วยเหลือไมโครไมโครเวฟป้องกันการปรับปรุงการลดความแข็งแรงหรือการเสื่อมเสื่อมของโครงสร้างจุลินทรีย์เนื่องจากอุณหภูมิสูงมันเข้ากันได้กับชิ้นงานที่มีความรู้สึกต่อความร้อน เช่น เหล็กความเร็วสูง สายสลัดความแม่นยํา และวัสดุพอลิเมอร์
• ชั้นหนังมีอาการบกพร่องน้อยและคุณภาพพื้นผิวที่ดีอิทธิพล "ทําความสะอาดและเปิดตัว" ของพลาสมาไมโครเวฟ สามารถกําจัดชั้นไมโครออกไซด์และสารพิษที่อยู่บนพื้นผิวของชิ้นงานได้อย่างมีประสิทธิภาพ while suppressing the "Macroparticle" defects that are prone to occur during multi-arc discharge (reducing the deposition of macroparticles through the confinement and bombardment effects of microwave plasma)ผิวหนังที่สร้างขึ้นในที่สุดมีความหนาแน่นและไม่มีขุมขัด โดยมีพื้นผิวที่เรียบร้อยสูง (Ra≤0.05μm) และไม่จําเป็นต้องมีการบํารุงรักษา
• ความสามารถปรับปรุงได้อย่างกว้างขวาง ซึ่งเข้ากันได้กับชิ้นงานที่ซับซ้อนและระบบหนังหลายชั้นเป็นมรดกการออกแบบวัสดุหลายเป้าหมายของการเคลือบไอออนหลายเส้นโค้ง (เป้าหมายคาโทด 2-8) สามารถจับคู่กับเป้าหมายโลหะเดียว, เป้าหมายเหล็กสับสนธิหรือเป้าหมายประกอบและรวมกับฟังก์ชันการแยกก๊าซที่ได้รับการสนับสนุนจากไมโครเวฟ มันสามารถเตรียมระบบหนังหลายชั้น เช่นหนังชั้นเดียว (TiN), CrN), ฟิล์มหลายชั้น (TiN / TiAlN), ฟิล์มประกอบ (TiAlN / DLC), และฟิล์ม gradient (Ti→TiN→TiAlN) ในเวลาเดียวกันโดยการปรับปรุงการวางแผนตําแหน่งเป้าหมายและการกระจายสนามไมโครเวฟการเคลือบแบบเรียบร้อยของชิ้นงานที่มีรูปร่างซับซ้อน เช่นระนาบ, พื้นที่โค้ง, หลุมลึก, และส่วนเล็กสามารถได้รับ.

เมื่อเปรียบเทียบกับอุปกรณ์เคลือบไอออนหลายเส้นโค้งแบบดั้งเดิม อุปกรณ์กระจายแม็กเนตรอน ฯลฯอุปกรณ์เคลือบไอออนหลายคลื่นไมโครเวฟ มีการปรับปรุงผลงานและข้อดีในการใช้งานที่สําคัญ:

• การทํางานครบวงจรของชั้นหนังได้บรรลุการปรับปรุงกระโดดกระโดด
  • ความแข็งแรงและความแข็งแรงที่สมดุลมากขึ้น:ความแข็งของชั้นหนังสามารถถึง HV2500-4500 (เช่น ความแข็งของหนัง TiAlN ที่ได้รับการสนับสนุนจากไมโครไมโครเวฟประมาณ 3500-4000HV)ซึ่งสูงกว่าชั้นหนังหลายเส้นโค้งแบบดั้งเดิม 20% - 30%และความแข็งแรงดีกว่า (ความแข็งแรงต่อการแตก KIC≥4.5MPa · m1/2) หลีกเลี่ยงปัญหาของการแข็งและแตกง่าย
  • แรงผูกที่แข็งแรงกว่าอิออนที่ทํางานด้วยไมโครเวฟสร้าง "พันธะผสมโลหะ-เคมี" ที่มั่นคงมากขึ้นกับพื้นผิวของชิ้นงาน ความแน่นของชั้นหนังสามารถบรรลุ 40-80N (วิธีการทดสอบรอยขีดข่วน)ซึ่งสูงกว่า 30%-50% ของชั้นหนังหลายเส้นโค้งแบบดั้งเดิมและมีโอกาสน้อยกว่าที่จะมีปรากฏการณ์การเปลือกและฉีก
  • ความทนทานต่อสิ่งแวดล้อมสูงกว่าThe dense film layer structure and the uniform oxide layer formed with microwave assistance (such as the Al₂O₃ transition layer) significantly enhance its corrosion resistance (neutral salt spray test ≥1000 hours) and high-temperature resistance (TiAlN film can stably operate at 800-1000℃, 200 ° C มากกว่าชั้นหนังหลายเส้นโค้งแบบดั้งเดิม)
• การเคลือบอุณหภูมิต่ํา เพิ่มขอบเขตการใช้งานของสับสราต:อุณหภูมิการเคลือบขั้นต่ําสามารถลดลงต่ํากว่า 100 °C โดยแก้ไข "ปัญหาการปรับปรุง" ของเทคโนโลยี PVD แบบดั้งเดิมสําหรับพื้นฐานที่มีความรู้สึกต่อความร้อน เช่น วัสดุพอลิมเลอร์ส่วนประกอบอิเล็กทรอนิกส์ความแม่นยํา, และชิ้นส่วนผนังบาง. ตัวอย่างเช่น, มันสามารถเคลือบตรงกับเกียร์พลาสติก, กล่องชิปครึ่งตัวนํา, และหม้อผนังบางโดยไม่ส่งผลกระทบต่อผลงานเดิมของพื้นฐาน.
• อัตราความบกพร่องต่ํา และอัตราการรับรองผลิตภัณฑ์สูงผลการยับยั้งของพลาสมาไมโครเวฟบนอนุภาคขนาดใหญ่ลดอัตราความบกพร่องของชั้นหนังให้ต่ํากว่า 0.1% (อัตราความบกพร่องของชั้นหนังหลายเส้นโค้งแบบดั้งเดิมอยู่ที่ประมาณ 1% - 3%),ซึ่งเหมาะสําหรับผลิตภัณฑ์ระดับสูงที่มีความต้องการด้านคุณภาพผิวที่เข้มงวด (เช่น เครื่องมือตัดแม่นยํา), อะไหล่เครื่องบิน, ส่วนประกอบอิเล็กทรอนิกส์) ปรับปรุงอัตราการรับรองการผลิตให้ดีขึ้นอย่างมาก
• ประสิทธิภาพการสมดุลและประสิทธิภาพด้านราคารักษาอัตราการฝังที่สูงของ multi-arc ion plating (0.1-1.2μm/min) ซึ่งเร็วกว่า magnetron sputtering 3-5 เท่า และไม่จําเป็นต้องเสียสละประสิทธิภาพในการผลิตจํานวนมากในขณะเดียวกัน, ผลประกอบชั้นผนังที่เยี่ยมยอดขยายอายุการใช้งานของชิ้นงาน 3 ถึง 15 เท่า (ตัวอย่างเช่นอายุการใช้งานของหม้อแม่นยําเพิ่มขึ้น 5 ถึง 8 เท่า)ลดค่าใช้จ่ายในการเปลี่ยนและบํารุงรักษา, และมีข้อดีที่สําคัญในเรื่องค่าใช้จ่ายและประสิทธิภาพในการใช้งานในระยะยาว
• สีเขียวและเป็นมิตรต่อสิ่งแวดล้อม ตอบสนองมาตรฐานการผลิตระดับสูงกระบวนการทั้งหมดถูกดําเนินการในสภาพแวดล้อมความว่างสูง โดยไม่จําเป็นต้องใช้เอเลคโทรลิตกรดและแอลคาลี หรือสารเคมีไม่มีการปล่อยน้ําเสีย, ก๊าซเสียหรือซากเสีย นอกจากนี้ การทําความร้อนด้วยไมโครเวฟมีประสิทธิภาพสูง (มีอัตราการใช้พลังงานไฟฟ้า ≥ 60%) ช่วยประหยัดพลังงาน 15% ถึง 25% เมื่อเทียบกับอุปกรณ์มัลติบาร์คแบบดั้งเดิมซึ่งตอบสนองความต้องการการผลิตสีเขียวของอุตสาหกรรม เช่น พลังงานใหม่และการผลิตระดับสูง.

อุปกรณ์เคลือบไอออนหลายคลื่นไมโครเวฟที่มีข้อดีหลักของ "ประสิทธิภาพสูง อุณหภูมิต่ํา และความบกพร่องต่ํา" กลายเป็นอุปกรณ์เคลือบที่สําคัญในสาขาอุตสาหกรรมระดับสูงการใช้งานทั่วไปรวมถึง: