PVD 멀티 아크 마그네트론 스퍼터링 복합 코팅기 진공 금속 증착 장비

마이크로파 멀티 아크 이온 접착 장비의 기술적 핵심은 다음과 같은 독특한 특징을 형성 한 "마이크로파 플라즈마 협동 멀티 아크 방출"에 있습니다.

• 이중 플라즈마 소스 시너지, 이온화 속도와 활동의 이중 강화이 장비는 "다중 활 카토드 대상"과 "마이크로 웨이브 플라즈마 소스" (일반적으로 2.45GHz 마이크로 웨이브 소스) 를 통합합니다. 다중 활 방출은 목표 물질 이온 (Ti, Cr, Al 등) 을 제공합니다..미생물은 가스를 자극하여 보조 플라즈마를 생성한다. 이 둘의 중첩 후 플라즈마의 이온화율은 90%를 넘을 수 있다.활성 입자의 농도 (원자), 이온, 자유 라디칼) 가 크게 증가하여 필름 층의 밀도 성장의 기초를 제공합니다.
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• 필름 층의 성장 환경은 제어 가능하며 구조와 성능은 정확하게 조절됩니다.마이크로 웨브 전력, 멀티 아크 전류, 진공 정도, 편향 전압 등의 매개 변수를 조정함으로써 플라즈마 밀도, 이온 에너지, 그리고 활성 입자의 비율을 정확하게 제어 할 수 있다.이것은 필름 레이어 구조 (나노 크리스탈린, 무형 및 다층 복합 구조) 및 성능 (강도, 견고성,그리고 마찰 계수), 다양한 시나리오의 맞춤 요구 사항을 충족합니다.
• 낮은 온도와 높은 효율성, 열에 민감한 기판에 적합합니다.마이크로파 플라즈마는 "저온에서 높은 활동"을 특징으로 합니다.100~400°C의 낮은 온도 범위 내에서 효율적인 코팅을 가능하게 합니다. (전통 멀티 아크 코팅의 온도는 대부분 150~500°C입니다.)또한 미세파 지원을 통해 목표물 증발에 필요한 에너지를 줄일 수 있으며 변형을 방지합니다.고온으로 인한 기판의 경화 또는 미세 구조의 악화그것은 고속 철강, 정밀 합금 및 폴리머 재료와 같은 열에 민감한 작업 조각과 호환됩니다.
• 필름 레이어는 결함이 거의 없으며 표면 품질이 우수합니다.마이크로 웨브 플라즈마의 "깨끗하고 활성화" 효과는 작업 조각 표면의 마이크로 옥시드 층과 오염 물질을 효과적으로 제거 할 수 있습니다. while suppressing the "Macroparticle" defects that are prone to occur during multi-arc discharge (reducing the deposition of macroparticles through the confinement and bombardment effects of microwave plasma)최종 형성 된 필름 층은 밀도가 높고 pore-free이며 높은 표면 마감 (Ra≤0.05μm) 이 있으며 후속 닦는 처리가 필요하지 않습니다.
• 복합 작업 부품 및 다층 필름 시스템과 호환 가능한 광범위한 적응력멀티 아크 이온 접착 (2-8 개의 카토드 타겟) 의 멀티 타겟 재료 디자인을 계승하여 단일 금속 타겟, 합금 타겟 또는 복합 타겟과 일치 할 수 있습니다.그리고 마이크로파가 보조되는 가스 분리 기능과 결합하여 단일층 필름 (TiN) 과 같은 다층 필름 시스템을 준비 할 수 있습니다., CrN), 다층 필름 (TiN/TiAlN), 복합 필름 (TiAlN/DLC) 및 경사 필름 (Ti→TiN→TiAlN). 동시에 목표 위치 레이아웃 및 마이크로파 필드 분포를 최적화함으로써평면과 같은 복잡한 모양의 작업 조각의 균일한 코팅, 구부러진 표면, 깊은 구멍, 작은 부분을 얻을 수 있습니다.

전통적인 다중 활 이온 접착 장비, 마그네트론 스프터링 장비 등과 비교하면마이크로파 멀티 아크 이온 접착 장비는 상당한 성능 업그레이드 및 응용 장점이 있습니다.:

• 필름 층의 종합 성능은 점프 개구리 개선에 도달했습니다
  • 더 균형 잡힌 단단성과 강도:필름 층의 경도는 HV2500-4500에 도달 할 수 있습니다 (예를 들어, 마이크로 마이크로 웨이브 지원 TiAlN 필름의 경도는 약 3500-4000HV입니다.)기존의 멀티 아크 필름 레이어보다 20%~30% 높습니다., 강도는 더 낫습니다 (파열 강도 KIC≥4.5MPa · m1/2), 단단하고 부서지기 쉬운 문제를 피합니다.
  • 더 강한 결합 힘:마이크로 웨이브로 활성화 된 이온은 작업 조각 표면과 더 안정적인 "금속 화학 복합 결합"을 형성합니다. 필름 층의 접착력은 40-80N까지 도달 할 수 있습니다.기존의 멀티 아크 필름 레이어보다 30%~50% 높습니다.그리고 껍질 벗기거나 쪼개지는 현상이 거의 없습니다.
  • 우수한 환경 저항성:The dense film layer structure and the uniform oxide layer formed with microwave assistance (such as the Al₂O₃ transition layer) significantly enhance its corrosion resistance (neutral salt spray test ≥1000 hours) and high-temperature resistance (TiAlN film can stably operate at 800-1000℃, 200 ° C가 전통적인 멀티 아크 필름 층보다 높습니다).
• 낮은 온도 코팅, 기판의 응용 범위를 확장:최소 코팅 온도는 100 °C 이하로 낮출 수 있으며, 폴리머 재료와 같은 열에 민감한 기판에 대한 전통적인 PVD 기술의 "응용 문제"를 해결합니다.정밀 전자 부품예를 들어, 그것은 원시 기판의 원본 성능에 영향을 미치지 않고 플라스틱 기어, 반도체 칩 껍질 및 얇은 벽 모양에 직접 코팅 될 수 있습니다.
• 결함 비율이 낮고 제품 자격률이 높습니다.마이크로파 플라즈마의 막효로 인해 큰 입자는 필름 층의 결함 비율을 0.1% 이하로 줄인다 (전통 다중 활 필름 층의 결함 비율은 약 1%~3%이다).특히 엄격한 표면 품질 요구 사항 (정밀 절단 도구와 같이) 을 가진 고급 제품에 적합합니다., 항공 부품, 전자 부품), 생산 자격률을 크게 향상시킵니다.
• 균형 효율성과 비용 효율성:멀티-아크 이온 플래팅의 높은 퇴적 속도 (0.1-1.2μm/min) 를 유지하며, 이는 마그네트론 스프터링보다 3-5배 더 빠르며 대량 생산에서 효율성을 희생할 필요가 없습니다.그 동안, 우수한 필름 레이어 성능은 작업 조각의 사용 수명을 3 ~ 15 배로 연장합니다 (예를 들어 정밀 폼의 사용 수명은 5 ~ 8 배로 증가합니다),교체 및 유지보수 비용을 줄입니다., 그리고 장기적인 사용에서 상당한 비용 성능 이점을 가지고 있습니다.
• 친환경적이고 환경 친화적이며, 고급 제조 표준을 충족합니다.전체 과정은 고 진공 환경에서 이루어지며 산과 알칼리 전해질이나 화학 물질이 필요하지 않습니다.폐수 배출 없이또한, 마이크로 웨브 난방은 높은 효율을 가지고 있습니다 (전력 사용률 ≥60%), 전통적인 멀티 아크 장비에 비해 15%에서 25%의 에너지 절감,새로운 에너지 및 고급 제조업과 같은 산업의 친환경 생산 요구 사항을 충족시키는.

마이크로파 멀티 아크 이온 코팅 장비는 "고 성능, 낮은 온도 및 낮은 결함"의 핵심 장점으로 고급 산업 분야에서 핵심 코팅 장비가되었습니다.대표적인 응용 분야는: