PVDマルチアークマグネトロンスパッタ複合コーティング機 真空蒸着装置

マイクロ波多弧イオン塗装装置の技術的核心は"マイクロ波プラズマ協働多弧放電"にあります.

• 双重プラズマ源の相乗効果,イオン化速度と活性性の双重強化装置は"多弧カソード標的"と"マイクロ波プラズマ源" (通常2.45GHzマイクロ波源) を統合している.多弧放電は標的材料のイオン (Ti, Cr, Alなど) を供給する..微波は,作業ガス (N2,Ar,CH4など) を興奮させ,補助プラズマを生成する.両者の叠加後,プラズマの電離化率は90%を超えることができます.活性粒子 (原子) の濃度薄膜層の密度が増加する基礎となる.
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• フィルム層の成長環境は制御可能で,構造と性能は正確に制御されています.マイクロ波 電源,多弧 電流,真空 度,偏差 電圧 の よう な パラメータ を 調整 する こと に よっ て,プラズマ 密度,イオン エネルギー,活性 粒子 の 割合 を 正確 に 制御 できる.フィルム層構造 (ナノ結晶型,無形型,多層複合構造など) と性能 (硬さ,強度,摩擦係数)異なるシナリオのカスタマイズされた要件を満たします.
• 低温で高効率のバランスで,熱感受性のある基板に適していますマイクロ波プラズマは"低温で高活性"低温100~400°Cの範囲内で効率的なコーティングを可能にする (伝統的な多弧コーティングの温度は主に150~500°C)さらに,それは,微波支援によって,変形防止,標的材料の蒸発に必要なエネルギーを減らすことができます.高温による硬度低下または基板の微細構造の劣化高速鋼,精密合金,ポリマー材料などの高温感受性のある作業部件と互換性があります.
• 薄膜層は欠陥が少なく,表面質も優れている.マイクロ波プラズマの"清掃と活性化"効果は,作業部品の表面のマイクロオキシド層と汚染物質を効果的に除去することができます. while suppressing the "Macroparticle" defects that are prone to occur during multi-arc discharge (reducing the deposition of macroparticles through the confinement and bombardment effects of microwave plasma)最終的に形成されたフィルム層は密集し,毛孔のないもので,表面の仕上げが高く (Ra≤0.05μm),その後の磨き処理は必要ありません.
• 複合な作業部品と多層フィルムシステムと互換性のある幅広い適応性多弧イオン塗装 (2-8 カソード標的) の多ターゲットの材料設計を受け継いで,単一の金属標的,合金標的または複合標的とマッチすることができます.単層フィルム (TiN) のような多層フィルムシステムを準備することができます., CrN),多層フィルム (TiN/TiAlN),複合フィルム (TiAlN/DLC),グラデントフィルム (Ti→TiN→TiAlN).同時に,ターゲット位置レイアウトとマイクロ波フィールド分布を最適化することによって,平面などの複雑な形状の作業部品の均質なコーティング曲げた表面,深い穴,小さな部品が作れます.

伝統的な多弧イオン塗装装置,磁気スプッター装置などと比較するとマイクロ波多弧イオン塗装装置は,性能の大幅なアップグレードとアプリケーションの利点があります.:

• フィルム層の包括的な性能は飛躍的な改善を達成しました
  • よりバランスのとれた硬さと硬さ:フィルム層の硬さはHV2500-4500に達する (例えば,マイクロ波補助TiAlNフィルムの硬さは約3500-4000HVである).伝統的な多弧膜層よりも20%~30%高い硬さと脆さの問題を回避する. 骨折性KIC≥4.5MPa · m1/2)
  • より強い結合力:マイクロ波で活性化されるイオンは,加工品の表面とより安定した"金属化学複合結合"を形成する.フィルム層の粘着は40〜80Nに達する.伝統的な多弧フィルム層より30%~50%高い皮を剥がしたり 裂けたりする 可能性が低いのです
  • 優れた環境耐性:The dense film layer structure and the uniform oxide layer formed with microwave assistance (such as the Al₂O₃ transition layer) significantly enhance its corrosion resistance (neutral salt spray test ≥1000 hours) and high-temperature resistance (TiAlN film can stably operate at 800-1000℃伝統的な多弧フィルム層よりも200°C高い).
• 低温コーティング,基板の適用範囲を拡大する:最低の塗装温度を100°C以下まで低下させ,ポリマー材料などの熱感受性のある基板に対する従来のPVD技術の"適応問題"を解決できます.精密電子部品例えば,プラスチックギア,半導体チップハウス,薄壁型模具に直接塗装され,原材料の性能に影響を与えません.
• 低欠陥率と高い製品資格率マイクロ波プラズマが大粒子に及ぼす抑制作用により,フィルム層の欠陥率は0.1%以下に低下します (伝統的な多弧フィルム層の欠陥率は約1%~3%です)厳格な表面品質要求のある高級製品 (精密切削ツールなど) に特に適しています航空部品,電子部品),生産資格率を大幅に改善しました.
• バランス効率とコスト効率:多弧イオン塗装の高い堆積速度を保持する (0.1-1.2μm/min),それは磁石スプッターよりも3~5倍速く,大量生産での効率を犠牲にする必要はない.その間, 優れたフィルム層性能により,作業部品の使用寿命は3~15倍に延長されます (例えば,精密型模具の使用寿命は5~8倍に延長されます)交換と保守のコストを削減する長期使用でコスト性能に大きな利点があります
• 緑で環境に優しい 高級製造基準を満たすプロセス全体が高真空環境で行われ,酸やアルカリの電解質や化学剤を必要としません.排泄水がないさらに,マイクロ波加熱は高効率で (電力利用率 ≥60%),従来の多弧装置と比較して15~25%のエネルギー節約を図っています.新しいエネルギーや高級製造業などの産業のグリーン生産要件を満たす.

マイクロ波多弧イオンコーティング機器は",高性能,低温,低欠陥"という主な利点で,高級産業分野における重要なコーティング機器となっています.典型的な用途は: