El equipo de recubrimiento al vacío y deposición iónica de apertura lateral vertical adopta un diseño de cavidad vertical con compartimentos laterales de apertura rápida. Es adecuado para la sujeción y extracción de piezas de trabajo en lotes. La estructura principal consta de cinco módulos: sistema de vacío, sistema central de deposición iónica, sistema de sujeción de piezas de trabajo, sistema de control y sistema auxiliar.
El equipo de deposición iónica de apertura lateral vertical se basa en la tecnología de deposición física de vapor (PVD) por deposición iónica. El núcleo es ionizar los átomos del material objetivo en un entorno de vacío y depositarlos sobre la superficie de la pieza de trabajo a través de un campo eléctrico para formar una película.
Sistema de control PLC integrado, que admite la operación automática con un solo clic, reduciendo la intervención manual; los parámetros del proceso se pueden almacenar y recuperar para garantizar la consistencia de la calidad del recubrimiento para diferentes lotes.
El proceso de recubrimiento al vacío no tiene emisiones de líquidos residuales ni gases de escape, lo que lo hace más respetuoso con el medio ambiente en comparación con la galvanoplastia; adopta sistemas eficientes de calentamiento y enfriamiento, con un menor consumo de energía que los equipos de recubrimiento horizontal de la misma capacidad de producción.
El equipo de recubrimiento al vacío y deposición iónica de apertura lateral vertical, con su alta capacidad de producción y excelente rendimiento de la capa de película, se utiliza ampliamente en industrias como herramientas y moldes, decoración de hardware, piezas automotrices, dispositivos médicos y aeroespacial:
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