Die vertikale, seitlich zu öffnende Ionenplattierungs- und Vakuumbeschichtungsanlage verwendet ein vertikales Kammerdesign mit seitlichen, schnell zu öffnenden Fächern. Sie eignet sich zum Einspannen und Entfernen von Werkstücken in Chargengröße. Die Kernstruktur besteht aus fünf Modulen: Vakuumsystem, Ionenplattierungs-Kernsystem, Werkstück-Einspannsystem, Steuerungssystem und Hilfssystem.
Die vertikale, seitlich zu öffnende Ionenplattierungsanlage basiert auf der Physical Vapor Deposition (PVD)-Ionenplattierungstechnologie. Der Kern besteht darin, die Atome des Zielmaterials in einer Vakuumumgebung zu ionisieren und sie durch ein elektrisches Feld auf der Werkstückoberfläche abzuscheiden, um einen Film zu bilden.
Integriertes SPS-Steuerungssystem, unterstützt den automatischen Betrieb mit einem Klick, wodurch manuelle Eingriffe reduziert werden; Prozessparameter können gespeichert und abgerufen werden, um die Konsistenz der Beschichtungsqualität für verschiedene Chargen zu gewährleisten.
Das Vakuumbeschichtungsverfahren hat keine Abfallflüssigkeits- oder Abgasausstoß, wodurch es umweltfreundlicher ist als die Galvanisierung; es verwendet effiziente Heiz- und Kühlsysteme mit geringerem Energieverbrauch als horizontale Beschichtungsanlagen gleicher Produktionskapazität.
Die vertikale, seitlich zu öffnende Ionenplattierungs- und Vakuumbeschichtungsanlage wird mit ihrer hohen Produktionskapazität und hervorragenden Filmschichtleistung in Branchen wie Werkzeuge und Formen, Hardware-Dekoration, Automobilteile, medizinische Geräte und Luft- und Raumfahrt weit verbreitet:
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