| Paramètre | Plage | Description |
|---|---|---|
| Largeur du substrat | 300-2000mm | Largeur personnalisable selon les exigences |
| Épaisseur du substrat | 10µm-500µm | Adaptable à différentes épaisseurs de substrats flexibles |
| Matériau de revêtement | Métaux, alliages, oxydes | Correspondance des matériaux cibles requis |
| Épaisseur du revêtement | 5nm-5µm | Réglable via la puissance de pulvérisation et la vitesse |
| Degré de vide | 1×10⁻³ - 5×10⁻⁵ Pa | Assure la qualité de pulvérisation et la pureté du revêtement |
| Vitesse de production | 0,5-5 m/min | Réglée en fonction de l'épaisseur du revêtement et des caractéristiques du substrat |
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