| Parametro | Intervallo | Descrizione |
|---|---|---|
| Larghezza del substrato | 300-2000mm | Larghezza personalizzabile in base ai requisiti |
| Spessore del substrato | 10μm-500μm | Adattabile a diversi spessori di substrato flessibile |
| Materiale di rivestimento | Metalli, leghe, ossidi | Corrispondenza dei materiali bersaglio corrispondenti richiesti |
| Spessore del rivestimento | 5nm-5μm | Regolabile tramite potenza di sputtering e velocità |
| Grado di vuoto | 1×10⁻³ - 5×10⁻⁵ Pa | Garantisce la qualità dello sputtering e la purezza del rivestimento |
| Velocità di produzione | 0,5-5 m/min | Regolata in base allo spessore del rivestimento e alle caratteristiche del substrato |
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