| Parameter | Rentang | Deskripsi |
|---|---|---|
| Lebar Substrat | 300-2000mm | Lebar yang dapat disesuaikan sesuai kebutuhan |
| Ketebalan Substrat | 10μm-500μm | Dapat beradaptasi dengan ketebalan substrat fleksibel yang berbeda |
| Bahan Pelapisan | Logam, paduan, oksida | Membutuhkan pencocokan bahan target yang sesuai |
| Ketebalan Pelapisan | 5nm-5μm | Dapat disesuaikan melalui daya sputtering dan kecepatan |
| Tingkat Vakum | 1×10⁻³ - 5×10⁻⁵ Pa | Memastikan kualitas sputtering dan kemurnian pelapisan |
| Kecepatan Produksi | 0,5-5 m/menit | Disesuaikan berdasarkan ketebalan pelapisan dan karakteristik substrat |
Hubungi kami kapan saja