PVD真空コーティングマシン AR/AF ガラスマグネットロンスプッターリングレンズコーティング光学 PLCとポンプコアコンポーネント

マグネトロンスパッタリング

光学コーターの応用

マグネトロンスパッタリングは、さまざまな基板に高品質の薄膜を堆積させるために広く使用されている、用途の広い

プラズマ生成

• : 高電圧電界がアルゴンガスをイオン化し、Ar⁺イオンと電子を生成します。磁気閉じ込め
• : 磁場（電界に対して直交）がターゲット表面付近の電子を閉じ込め、イオン化効率とプラズマ密度を高めます。スパッタリングプロセス
• : 加速されたAr⁺イオンがターゲットに衝突し、原子をはじき出し、それが基板に移動して薄膜を形成します。磁場は、基板への電子の爆撃を最小限に抑え、熱による損傷を軽減します。主な利点

均一性と密着性

1. : 高エネルギーイオン爆撃により、優れた膜厚均一性（±5％）と強力な基板密着性を実現します。材料の多様性
2. : 金属（例：Ti、Cu）、セラミックス（例：SiO₂、Al₂O₃）、半導体に対応しています。低温堆積
3. : プラスチックやポリマーなどの熱に弱い材料に適しています。プロセス制御
4. : プラズマパラメータを介して、膜特性（例：導電率、硬度）の正確な調整を可能にします。多成分コーティング
5. : 合金またはグラデーション層の製造のために、複数のターゲットの共スパッタリングをサポートします。適用産業

エレクトロニクス

• : タッチスクリーン用の透明導電性酸化物（ITO）。光学
• : 高反射ミラーと防眩コーティング。工具
• : 切削工具や金型の耐摩耗性コーティング。自動車
• : トリムやコンポーネントの装飾および耐食性仕上げ。医療
• : インプラントや器具の生体適合性コーティング。コーティング効果と色

表面仕上げ

• : 金属光沢、マットテクスチャ、またはテクスチャパターン。色の範囲
• : 銀、金、黒、青、および反応性スパッタリングによるカスタム色合い（例：金のような仕上がりのTiN）。構造タイプ

平面マグネトロン

• : 大面積堆積に最適（例：ガラスまたはパネル）。回転マグネトロン
• : 円筒形または湾曲した基板のターゲット利用率と堆積速度を向上させます。アンバランスマグネトロン
• : 高イオン密度のプラズマを生成し、高密度で付着性の高い膜を実現します。基板材料

プラスチック（ABS、PET、PC）、ガラス、セラミックス、金属、複合材料。

• コーティング材料

金属：Ti、Cr、Ag、Al、Cu、Au。

• セラミックス：SiO₂、Al₂O₃、TiO₂、Si₃N₄。
• 合金：NiCr、TiAl、および超合金。
• サポートする生産ライン

UV硬化やプラズマ処理などの

• 後処理プロセスと統合して、機能性を向上させます。消耗品

ターゲット材料（金属/セラミック）、アルゴンガス、およびスパッタリング電源。

• アプリケーション

光学

• : 高反射ミラーと防眩コーティング。エレクトロニクス
• : タッチスクリーン用の透明導電性酸化物（ITO）。航空宇宙
• : タービンブレードの熱障壁コーティング。建築用ガラス
• : 省エネルギーのための低放射率（Low-E）コーティング。カスタマイズ

当社のシステムは、特定の堆積要件を満たすために、構成可能なマグネトロンアレイ、真空ポンプシステム、およびプロセス制御ソフトウェアを備えたモジュール設計を提供しています。