ऑप्टिकल कोटिंग के लिए उच्च वैक्यूम इलेक्ट्रॉन बीम वाष्पीकरण कोटिंग उपकरण

पैकेजिंग और वितरण

पैकेजिंग विवरण

CICEL स्टेनलेस स्टील बैरियर मल्टी-आर्क आयन पीवीडी वैक्यूम कोटिंग मशीन के लिए प्लास्टिक फिल्म कवर और लकड़ी के बॉक्स उच्च घन निर्यात मानक पैकिंग कंटेनर

प्रेषण का बंदरगाह

गुआंग्डोंग

विक्रय इकाई

एकल वस्तु

एकल पैकेज आकार

80X25X25 सेमी

एकल सकल भार

10.000 किलो

पैकेजिंग के उदाहरण

शेर राजाइलेक्ट्रॉन बीम ऑप्टिकल कोटिंग मशीन

प्रौद्योगिकी का अवलोकन

इलेक्ट्रॉन बीम ऑप्टिकल कोटिंग मशीन परिशुद्धता ऑप्टिकल विनिर्माण के क्षेत्र में एक मुख्य उपकरण है।और उच्च पिघलने बिंदु ऑप्टिकल सामग्री आयनित, फिर अति पतली, समान और उच्च प्रदर्शन वाली ऑप्टिकल फिल्म बनाने के लिए सब्सट्रेट की सतह पर वाष्पित सामग्री जमा करता है।इन फिल्मों का व्यापक रूप से विरोधी प्रतिबिंब फिल्मों जैसे ऑप्टिकल घटकों में उपयोग किया जाता है, उच्च प्रतिबिंब फिल्म, फिल्टर फिल्म और ध्रुवीकरण फिल्म, जो ऑप्टिक्स, इलेक्ट्रॉनिक्स, एयरोस्पेस और अर्धचालकों जैसे उद्योगों में उपकरणों के लिए आवश्यक हैं।

कार्य सिद्धांत

वैक्यूम वातावरण सृजन

पूरी कोटिंग प्रक्रिया एक उच्च-शून्य कक्ष में की जाती है। यह वातावरण दो महत्वपूर्ण उद्देश्यों को पूरा करता हैः

वाष्पित सामग्री को हवा के साथ प्रतिक्रिया करने या गैस अणुओं द्वारा बिखरे होने से रोकता है, जिससे फिल्म शुद्धता सुनिश्चित होती है।

वाष्पीकृत परमाणुओं/अणुओं और गैस अणुओं के बीच टकराव को कम करता है, जिससे वाष्प सुचारू रूप से सब्सट्रेट तक पहुंचता है और एक घनी फिल्म बनाता है।

इलेक्ट्रॉन बीम जनरेशन और त्वरण

एक इलेक्ट्रॉन बंदूक थर्मोनिक उत्सर्जन के माध्यम से इलेक्ट्रॉन उत्पन्न करती है। फिर इलेक्ट्रॉनों को उच्च गतिज ऊर्जा प्राप्त करने के लिए उच्च-वोल्टेज विद्युत क्षेत्र द्वारा तेज किया जाता है।

लक्ष्य सामग्री ताप और वाष्पीकरण

उच्च ऊर्जा वाले इलेक्ट्रॉन बीम को चुंबकीय लेंस द्वारा केंद्रित किया जाता है और लक्ष्य सामग्री की सतह पर निर्देशित किया जाता है।इलेक्ट्रॉनों की गतिज ऊर्जा को लक्ष्य के साथ टकराव पर ताप ऊर्जा में परिवर्तित किया जाता है, सामग्री को उसके वाष्पीकरण तापमान तक तेजी से गर्म करना (यहां तक कि 2000 डिग्री सेल्सियस से अधिक के पिघलने के बिंदु वाले सामग्रियों के लिए, जैसे एल्यूमिना।फिर यह पदार्थ परमाणुओं से बने उच्च घनत्व वाले वाष्प में वाष्पित हो जाता है, अणुओं, या आयनों.

वाष्प अवशोषण और फिल्म गठन

वाष्पीकृत पदार्थ के कण निर्वात कक्ष में एक सीधी रेखा में चलते हैं और घूर्णन वाले सब्सट्रेट की सतह पर जमा हो जाते हैं।वे एक विशिष्ट संरचना और ऑप्टिकल गुणों के साथ एक पतली फिल्म बनाते हैं.

स्थान पर निगरानी एवं नियंत्रण

कोटिंग प्रक्रिया के दौरान क्वार्ट्ज क्रिस्टल माइक्रो बैलेंस या ऑप्टिकल मॉनिटरिंग सिस्टम का प्रयोग फिल्म की मोटाई और अपवर्तन सूचकांक को वास्तविक समय में ट्रैक करने के लिए किया जाता है।प्रणाली नियंत्रण इकाई को डेटा वापस फ़ीड करता है, जो इलेक्ट्रॉन बीम शक्ति, सब्सट्रेट तापमान और जमाव दर जैसे मापदंडों को समायोजित करता है ताकि यह सुनिश्चित हो सके कि फिल्म डिजाइन आवश्यकताओं को पूरा करती है।

मुख्य लाभ

उच्च पिघलने बिंदु वाली सामग्री के लिए उच्च वाष्पीकरण दक्षता

इलेक्ट्रॉन बीम सीधे लक्ष्य को गर्म करते हैं, जिससे 3000 डिग्री सेल्सियस से अधिक के पिघलने वाले पदार्थों का वाष्पीकरण संभव होता है।

उच्च फिल्म शुद्धता

वैक्यूम वातावरण और गैर-संपर्क हीटिंग फिल्म में अशुद्धियों को कम करती है।

सटीक मोटाई नियंत्रण

इन-सिटो निगरानी प्रणाली और समायोज्य इलेक्ट्रॉन बीम शक्ति बहु-परत ऑप्टिकल फिल्मों की आवश्यकताओं को पूरा करने के लिए ± 0.1 एनएम तक फिल्म मोटाई नियंत्रण सटीकता की अनुमति देती है।

व्यापक सामग्री संगतता

ऑक्साइड, फ्लोराइड धातुओं, और यहां तक कि सिरेमिक के साथ संगत, आवेदन रेंज का विस्तार।

उच्च जमा दर

जमाव दरें 1~10 एनएम/सेकंड तक पहुंच सकती हैं, जिससे बड़े बैचों के ऑप्टिकल घटकों के लिए उत्पादन दक्षता में सुधार होता है।

लागू उद्योग

ऑप्टिकल संचार

ऑप्टिकल फाइबर और ऑप्टिकल कपलर के लिए पतली फिल्मों का कोटिंग, प्रकाश संचरण के दौरान कम संकेत हानि सुनिश्चित करना।

उपभोक्ता इलेक्ट्रॉनिक्स

स्मार्टफोन/लैपटॉप स्क्रीन के लिए प्रतिबिंब विरोधी (एआर) फिल्में.कैमरा मॉड्यूल के लिए इन्फ्रारेड (आईआर) कट-ऑफ फिल्टर.

एयरोस्पेस और रक्षा

उपग्रह ऑप्टिकल दूरबीनों के लिए उच्च परावर्तन वाली फिल्में.विमानों के विंडशील्ड के लिए एंटी-आइसिंग और एंटी-मेग ऑप्टिकल फिल्में।

अर्धचालक और ऑप्टोइलेक्ट्रॉनिक्स

माइक्रोचिप्स के लिए डाइलेक्ट्रिक फिल्में. प्रकाश उत्सर्जक डायोड के लिए पतली फिल्म कोटिंग.