Geräteinführung
Die Widerstandsverdampfungsbeschichtungsanlage ist eine Kernart der physikalischen Gasphasenabscheidungsanlage (PVD), die hauptsächlich aus einer Vakuumkammer, einer Widerstandsverdampfungsquelle, einem Vakuumsystem, einem Substratträger, einem Temperaturkontrollsystem usw. besteht.
Funktionsweise
Im Betrieb wird zunächst die Vakuumkammer auf den eingestellten Vakuumgrad evakuiert, dann wird das Widerstandsheizelement durch elektrischen Strom erhitzt, wodurch das Verdampfungsmaterial (Metall, Legierung, Verbindung usw.), das auf dem Heizelement platziert ist, schmilzt und verdampft. Die gasförmigen Atome oder Moleküle bewegen sich geradlinig und lagern sich auf der Oberfläche des zu beschichtenden Substrats ab, wodurch letztendlich ein gleichmäßiger Film entsteht.
Kernmerkmale
Die Struktur ist einfach und leicht zu bedienen, mit wenigen Kernkomponenten und geringen Wartungskosten.
Es zeichnet sich durch einen hohen Heizwirkungsgrad, schnellen Temperaturanstieg aus und kann das Material schnell verdampfen, was zu einem relativ kurzen Beschichtungszyklus führt.
Der Geräteanschaffungspreis ist niedriger als der von Elektronenstrahlverdampfung, Magnetronsputtern und anderen Geräten, und der Betriebsenergieverbrauch ist relativ gering.
Hauptanwendungen
Im Bereich der Optik: Herstellung von Antireflexionsfilmen und Reflexionsfilmen für optische Linsen, wie z. B. ein- oder mehrschichtige optische Filme für Brillengläser und Kameralinsen.
Im Bereich der Elektronik: Herstellung von Elektrodenfilmen und leitfähigen Filmen für Halbleiterbauelemente und elektronische Bauteile, wie z. B. Metallfilme für Leiterbahnen in integrierten Schaltungen und Kondensatorelektroden.
Dekorationsbereich:Beschichtung von Dekorationsfilmen für Kunststoffprodukte, Hardwareteile, Schmuck usw., wie z. B. Gold- und Silberbeschichtungen für Mobiltelefongehäuse und Zubehör.
Andere Bereiche: Forschung zur Aluminiumfilmbeschichtung auf der Oberfläche von Verpackungsmaterialien (wie z. B. Aluminiumfolie für Lebensmittelverpackungen), Herstellung von Funktionsfilmen auf der Oberfläche von Sensoren und Filmbereitung für Laborproben.
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