Máy phủ kính chân không đa chức năng định dạng lớn E thấp Độ dày 5 ~ 15nm
Máy sơn chân không kính E thấp đa chức năng
,Máy sơn chân không kính E thấp lớn
Kính Low-E có nghĩa là Kính Phát xạ Thấp, một loại kính tiết kiệm năng lượng cho các tòa nhà. Nhìn chung, năng lượng của ánh sáng mặt trời, nhiệt hồng ngoại chiếm khoảng 51,2%, ánh sáng nhìn thấy chiếm khoảng 46,8% nhiệt, tia cực tím và các tia khác chiếm khoảng 2%, do đó ánh sáng hồng ngoại về cơ bản là nhiệt. Kính tráng phủ truyền thống và kính màu chủ yếu dựa trên sự phản xạ và hấp thụ ánh sáng nhìn thấy. Nhưng kính Low E có khả năng cho phép ánh sáng nhìn thấy đi qua kính trong khi chặn một lượng nhất định tia UV và tia hồng ngoại. Vì vậy, hiệu suất quang học của nó được cải thiện đáng kể.
Đường phủ kính khí thải thấp ô tô Lớp phủ Magnetron Sputter hiệu quả cao
Low-E Glass Magnetron Sputter Coating Line Advanced Vacuum Magnetron Sputter Coating Production Line Specification: 1. 2540 X 3660 mm, 100" X 144" 2. 2540 X 6000 mm, 100" X 240" 3. Cycle time 60 s/ sheet 4. Single silver, double silver, triple silver Low-E glass Feature: 1. State-of-the-art vacuum ...
Dòng sơn thủy tinh phát thải thấp sản lượng cao liên tục với sơn lâu dài và kích thước tùy chỉnh
Continuous Low Emissivity Glass Coating Production Line Technical Features Identical 795mm vacuum compartment design enables flexible pump, gas separation, and cathode compartment positioning for enhanced process flexibility Advanced gas separation device prevents gas drifting between cathode ...
Hệ thống tráng chân không kính phát xạ thấp siêu trong suốt, điều khiển PLC, dung lượng lớn
Model NO. SP-5000 Type Coating Production Line Coating Vacuum Coating Substrate Steel Certification CE Condition New Equipment Name Inline Magnetron Sputtering Vacuum Coating machine Technology DC or MID-Frequency Magnetron Sputtering Application Functional and Decorative Coating Purposes Coating ...
Đường phủ kính chân không quy mô lớn và thấp kính E kính Magnetron Sputtering
The rotary sputter cathode has many advantages compared with planar sputter cathode, such like: Higher utilization rate of target material Higher applicable sputter power and increasing of sputter rates Stability working in AC power supply (less arcing and poisoning) Flexibility in target materials ...
