Πολυλειτουργία Μεγάλο μορφότυπο Low E Glass Vacuum Coating Machine Πλούτος 5~15nm
Πολυλειτουργική μηχανή κάλυψης κενού γυαλιού χαμηλού E
,Μεγάλη μηχανή βαρύτητας χαμηλού E υαλοπίνακα
Το γυαλί χαμηλής εκπομπής σημαίνει το γυαλί χαμηλής εκπομπής, το οποίο είναι ένας τύπος ενεργειακά αποδοτικού γυαλιού για το κτίριο.8% της θερμότηταςΤο παραδοσιακό επικάλυμμα γυαλιού και το χρωματιστό γυαλί βασίζονται κυρίως στην αντανάκλαση και την απορρόφηση του ορατού φωτός.Αλλά το γυαλί Low E έχει την ικανότητα να επιτρέπει στο ορατό φως να περάσει μέσα από το γυαλί ενώ μπλοκάρει ορισμένες ποσότητες υπεριώδους και υπέρυθρου φωτόςΈτσι η οπτική του απόδοση βελτιώνεται σημαντικά.
Αεροπορική γραμμή επικάλυψης γυαλιού χαμηλής εκπομπής υψηλής απόδοσης
Low-E Glass Magnetron Sputter Coating Line Advanced Vacuum Magnetron Sputter Coating Production Line Specification: 1. 2540 X 3660 mm, 100" X 144" 2. 2540 X 6000 mm, 100" X 240" 3. Cycle time 60 s/ sheet 4. Single silver, double silver, triple silver Low-E glass Feature: 1. State-of-the-art vacuum ...
Συνεχή γραμμή επικάλυψης γυαλιού χαμηλής εκπομπής υψηλής απόδοσης με μακροχρόνια επικάλυψη και προσαρμοσμένο μέγεθος
Continuous Low Emissivity Glass Coating Production Line Technical Features Identical 795mm vacuum compartment design enables flexible pump, gas separation, and cathode compartment positioning for enhanced process flexibility Advanced gas separation device prevents gas drifting between cathode ...
Σύστημα επίστρωσης κενού γυαλιού εξαιρετικά καθαρού χαμηλής εκπομπής με έλεγχο PLC μεγάλης χωρητικότητας
Model NO. SP-5000 Type Coating Production Line Coating Vacuum Coating Substrate Steel Certification CE Condition New Equipment Name Inline Magnetron Sputtering Vacuum Coating machine Technology DC or MID-Frequency Magnetron Sputtering Application Functional and Decorative Coating Purposes Coating ...
Οριζόντια μεγάλης κλίμακας γραμμή κάλυψης κενού χαμηλού E γυαλιού
The rotary sputter cathode has many advantages compared with planar sputter cathode, such like: Higher utilization rate of target material Higher applicable sputter power and increasing of sputter rates Stability working in AC power supply (less arcing and poisoning) Flexibility in target materials ...
