मल्टी फंक्शन लार्ज फॉर्मेट लो ई ग्लास वैक्यूम कोटिंग मशीन 5~15nm मोटाई
मल्टी फंक्शन लो ई ग्लास वैक्यूम कोटिंग मशीन
,बड़ी कम ई ग्लास वैक्यूम कोटिंग मशीन
लो-ई ग्लास का मतलब है लो-एमिसिविटी ग्लास जो इमारतों के लिए एक प्रकार का ऊर्जा-कुशल ग्लास है। सामान्य तौर पर, सूर्य के प्रकाश की ऊर्जा, अवरक्त गर्मी लगभग 51.2% होती है, दृश्य प्रकाश गर्मी का लगभग 46.8% हिस्सा होता है, पराबैंगनी और अन्य किरणें लगभग 2% होती हैं, इसलिए अवरक्त प्रकाश मूल रूप से गर्मी है। पारंपरिक कोटिंग ग्लास और रंगीन ग्लास मुख्य रूप से दृश्य प्रकाश के परावर्तन और अवशोषण पर आधारित होते हैं। लेकिन लो ई ग्लास में दृश्य प्रकाश को ग्लास से गुजरने देने की क्षमता होती है, जबकि यूवी प्रकाश और आईआर प्रकाश की कुछ मात्रा को अवरुद्ध किया जाता है। इसलिए इसका ऑप्टिकल प्रदर्शन बहुत बेहतर होता है
ऑटोमोटिव लो एमिशन ग्लास कोटिंग लाइन हाई एफिशिएंसी मैग्नेट्रॉन स्पटर कोटिंग
Low-E Glass Magnetron Sputter Coating Line Advanced Vacuum Magnetron Sputter Coating Production Line Specification: 1. 2540 X 3660 mm, 100" X 144" 2. 2540 X 6000 mm, 100" X 240" 3. Cycle time 60 s/ sheet 4. Single silver, double silver, triple silver Low-E glass Feature: 1. State-of-the-art vacuum ...
लंबे समय तक चलने वाली कोटिंग और अनुकूलित आकार के साथ निरंतर उच्च आउटपुट कम उत्सर्जन वाले ग्लास कोटिंग लाइन
Continuous Low Emissivity Glass Coating Production Line Technical Features Identical 795mm vacuum compartment design enables flexible pump, gas separation, and cathode compartment positioning for enhanced process flexibility Advanced gas separation device prevents gas drifting between cathode ...
अल्ट्रा क्लियर लो एमिशन ग्लास वैक्यूम कोटिंग सिस्टम पीएलसी नियंत्रण बड़ी क्षमता
Model NO. SP-5000 Type Coating Production Line Coating Vacuum Coating Substrate Steel Certification CE Condition New Equipment Name Inline Magnetron Sputtering Vacuum Coating machine Technology DC or MID-Frequency Magnetron Sputtering Application Functional and Decorative Coating Purposes Coating ...
क्षैतिज बड़े पैमाने पर कम ई ग्लास वैक्यूम कोटिंग लाइन ग्लास मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग कोटिंग
The rotary sputter cathode has many advantages compared with planar sputter cathode, such like: Higher utilization rate of target material Higher applicable sputter power and increasing of sputter rates Stability working in AC power supply (less arcing and poisoning) Flexibility in target materials ...
