Máquina de Revestimento a Vácuo para Vidro Low E de Grande Formato Multifuncional, Espessura de 5~15nm
Máquina de Revestimento a Vácuo para Vidro Low E Multifuncional
,Máquina de Revestimento a Vácuo para Vidro Low E Grande
O vidro de baixa E significa o vidro de baixa emissão, que é um tipo de vidro de eficiência energética para edifícios.8% do calorO vidro tradicional de revestimento e o vidro colorido são baseados principalmente na reflexão e absorção da luz visível.Mas o vidro Low E tem a capacidade de permitir que a luz visível passe através do vidro enquanto bloqueia certas quantidades de luz UV e luz IRO seu desempenho óptico é muito melhorado.
Linha de Revestimento de Vidro Automotivo de Baixa Emissividade por Magnetron Sputter de Alta Eficiência
Low-E Glass Magnetron Sputter Coating Line Advanced Vacuum Magnetron Sputter Coating Production Line Specification: 1. 2540 X 3660 mm, 100" X 144" 2. 2540 X 6000 mm, 100" X 240" 3. Cycle time 60 s/ sheet 4. Single silver, double silver, triple silver Low-E glass Feature: 1. State-of-the-art vacuum ...
Linha contínua de revestimento de vidro de baixa emissão de alta potência com revestimento duradouro e tamanho personalizado
Continuous Low Emissivity Glass Coating Production Line Technical Features Identical 795mm vacuum compartment design enables flexible pump, gas separation, and cathode compartment positioning for enhanced process flexibility Advanced gas separation device prevents gas drifting between cathode ...
Sistema de revestimento a vácuo de vidro de baixa emissividade ultra transparente, controle PLC, grande capacidade
Model NO. SP-5000 Type Coating Production Line Coating Vacuum Coating Substrate Steel Certification CE Condition New Equipment Name Inline Magnetron Sputtering Vacuum Coating machine Technology DC or MID-Frequency Magnetron Sputtering Application Functional and Decorative Coating Purposes Coating ...
Linha de Revestimento a Vácuo Horizontal de Vidro Low E em Larga Escala com Revestimento por Pulverização Catódica Magnetrônica
The rotary sputter cathode has many advantages compared with planar sputter cathode, such like: Higher utilization rate of target material Higher applicable sputter power and increasing of sputter rates Stability working in AC power supply (less arcing and poisoning) Flexibility in target materials ...
