多弧イオン技術とカスタマイズされた部屋サイズを持つダブルドアPVD真空コーティングマシン
人工宝石用PVD真空コーター
,ジュエリー用マルチアークイオン真空コーティング機
| 究極の真空度 | 8×10−4Pa以上 (負荷なし,乾燥した,クリーンルーム) |
| ポンプ 時間 | 大気から5×10−2Pa ≤6分 (負荷なし,乾燥,クリーンルーム) |
- 垂直型ダブルドア設計 内側サイズ Ø1800mm × H2000mm
- Q235B カーボン鋼で内壁を磨いた
- 耐久性のために高品質のステンレス鋼の接続パイプとバロー
- 簡単に取り外したり操作したりするためのステンレス鋼の保護面を含む.
- 監視室の操作のための各ドア上の観測窓
- 主弁とコーティング室を接続するスプリット構造
- コーティング・チャంబర్ドアに設置されたシールリング
- パネム式ドアロックとパネム式ブレーキを備えたゲート
- 各ドアには,自己および公共の回転機能を持つ惑星回転棚があります
- 自動回転 6/8 軸配置
- ギアが水電圧処理を受けます
- 調節可能な速度のための周波数コンバーター制御付きの室底に設置されたエンジン入力
- ステンレス スチール の 蓋 は,アルミ の スクラグ や 破片 が 歯車 に 侵入 する こと を 防ぐ
| 拡散ポンプ | KT-800 凸孔型高真空油拡散ポンプ,ポンプ速度32000L/S,高真空ポンプ速度と低油回帰率を持つ不?? 鋼ポンプコア.独立した反オイル回帰冷却キャプチャ (2セット) |
| 抵抗式ヒーター | 拡散ポンプ用耐電線ヒーター,固定・保守を容易にするために設計された (2セット) |
| 根ポンプ | ZJP-1200 ルーツポンプ 1200L/S のポンプ速度; 電力: 7.5KW; 低振動,高真空度,安定した性能と耐久性ポンプ速度を増加させる周波数変換器で装備されている (1セット) |
| スライドバルブポンプ | H-150 スライドバルブポンプ |
ダブルドア熱蒸着真空コーティング装置（コーティング均一性≥95%、チャンバーサイズカスタマイズ可能）
Thermal Evaporation PVD Vacuum Coating Machine Double doors plastic metallized thermal evaporation PVD vacuum plating coating machine for coating aluminum film, compatible with UV spray lines. Thermal Evaporation Technology Thermal evaporation is a physical vapor deposition (PVD) technique for ...
物理蒸着蒸発真空コーティング機 380V 大容量
warranty 1 Year type Coating Production Line voltage 380Vb or customizable coating Vacuum Coating core components PLC, motor, Gear, Pump, vacuum machine chamber video outgoing-inspection Provided machinery test report Provided key selling points Free training/easy to operate substrate stainless ...
1. Core Definition and Function Through the "vacuum evaporation" technology in Physical Vapor Deposition (PVD), this equipment heats aluminum material to evaporate it into an atomic/molecular state. In a vacuum environment, these aluminum particles are uniformly deposited on the surface of plastic ...
PLCシステム pvdコーティング機器を備えた直接銃電子ビームコーティングマシン
I. Core Structure Vacuum system Core components: Vacuum chamber, molecular pump, mechanical pump, vacuum gauge (ionization type/resistance type). Function: It provides a high vacuum environment of 10⁻³ to 10⁻⁶ Pa, reducing electron beam scattering, target material oxidation and film contamination, ...
