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Macchina PVD a sputtering magnetronico con elevata uniformità di rivestimento e sputtering a bassa temperatura per compatibilità multi-target

Macchina PVD a sputtering magnetronico con elevata uniformità di rivestimento e sputtering a bassa temperatura per compatibilità multi-target
Luogo d'origine:Zhaoqing, Guangdong
Marchio:Zhongda
Certificazione:CE
Quantità minima di ordine:1
Tempi di consegna:45-60 giorni di lavoro
Dettagli del prodotto
Evidenziare:

Magnetron sputtering PVD machine for plastic

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Vacuum deposition coating system

,

PVD vacuum coating machine with warranty

Coating Type: Vuoto
Application: Rivestimento superficiale
Coating Uniformity: Alto
Coating Thickness: Intervallo da nanometro a micrometro
Coating Chamber Size: personalizzato
Warranty: 1 anno
Power Supply: CA 220 V/380 V, 50/60 Hz
Coating Temperature: ≤200℃
Coating Substrates: Materiali Vari
Coating Substrate: Metallo, vetro, ceramica, plastica
Coating Hardness: ≥Hv800
Condition: Nuovo
Coating Color: Argento, oro, oro rosa, nero, ecc.
Vacuum Level: Alto vuoto
Coating Deposition Rate: Regolabile
Descrizione del prodotto
Specifiche e Caratteristiche Dettagliate
Sistema di macchine per deposizione sottovuoto PVD a sputtering magnetronico per plastica
Valore fondamentale: affrontare le principali sfide dei substrati in plastica
Miglioramento delle prestazioni
La durezza superficiale aumenta a 2-6H (a seconda del materiale target), fornendo resistenza ai graffi, resistenza alle impronte digitali, migliore resistenza agli agenti atmosferici (UV, umidità, calore) e resistenza alla corrosione chimica (solventi, sudore).
Aggiornamento dell'aspetto
Ottiene texture metalliche (alluminio, cromo, titanio), effetti colorati (oro, grigio canna di fucile, blu) o strati conduttivi trasparenti per soddisfare i requisiti di aspetto di fascia alta nei settori 3C e automobilistico.
Conformità ambientale
Nessuna emissione di metalli pesanti (cromo esavalente) e VOC estremamente bassi. Conforme agli standard internazionali RoHS e REACH, riducendo i costi di trattamento ambientale rispetto alla galvanica tradizionale.
Tecnologia di base: principio dello sputtering magnetronico per la plastica
  • Costruzione dell'ambiente sottovuoto: Il grado di vuoto finale raggiunge 5×10⁻⁴Pa, eliminando le impurità dell'aria per garantire la purezza e l'adesione del film.
  • Design a bassa temperatura di sputtering: Controlla la temperatura del substrato a 60-120°C regolando la potenza di sputtering e la distanza target-substrato per prevenire deformazioni o invecchiamento della plastica.
  • Compatibilità multi-target: Supporta target metallici (alluminio, cromo, titanio), target di leghe (acciaio inossidabile) e target composti (ITO conduttivo trasparente, TiO₂ resistente all'usura) per rivestimenti compositi monostrato o multistrato.
  • Pretrattamento del substrato: Il modulo integrato di pulizia al plasma rimuove olio e impurità dalle superfici plastiche, migliorando l'adesione del film con una resistenza allo sbucciamento ≥5N/25mm.
Campi di applicazione tipici
Elettronica 3C
Rivestimento con texture metallica per custodie di telefoni cellulari, gusci di auricolari, cinturini di smartwatch e strati conduttivi ITO per pulsanti trasparenti.
Industria automobilistica
Rivestimento decorativo resistente all'usura per parti interne (prese d'aria, finiture del volante) e parti esterne (maniglie delle porte).
Industria dell'imballaggio
Rivestimento a barriera (strato di alluminio) per film PET e PP in imballaggi alimentari/cosmetici per prolungare la durata di conservazione del prodotto.
Dispositivi medici
Rivestimento antibatterico e resistente alla corrosione per dispositivi medici in plastica, inclusi involucri di siringhe.
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