あなたのための PVD マルチアークマグネトロンスパッタリング複合コーティング機真空メタライジング装置

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December 18, 2025

Category Connection: マルチアークイオン真空塗装機

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#マルチアークイオンコーティングマシン #マルチアークイオンプレーティングマシン #PVD多アークイオン真空蒸着装置

Brief: From concept to demonstration, this video highlights the evolution and practical outcomes of the PVD Multi-arc Magnetron Sputtering Composite Coating Machine. You'll see how this advanced vacuum metallizing equipment applies high-performance decorative and functional films to various substrates, including metals and non-metals, for industries like hardware, medical devices, and electronics. Watch as we showcase its core technology, featuring microwave plasma synergy for enhanced ionization and precise film growth control.

Related Product Features:

マルチアーク陰極ターゲットとマイクロ波プラズマ源を統合し、90%を超える高いイオン化率と活性粒子濃度の増加を実現します。
マイクロ波電力、マルチアーク電流、バイアス電圧などの調整可能なパラメータを通じて、膜の構造と性能を正確に制御できます。
低温 (100 ～ 400°C) で動作して基板の損傷を防ぐため、ポリマーや精密合金などの熱に弱い材料に適しています。
緻密で欠陥のない高い表面仕上げ (Ra≤0.05μm) の膜を生成し、コーティング後の研磨の必要性を軽減します。
複雑な形状のワークピース上の単層、多層、複合膜、勾配膜など、幅広い膜システムをサポートします。
最大 HV4500 の硬度、強力な接着力 (40 ～ 80N)、強化された耐食性と高温耐性を備えた優れた皮膜特性を提供します。
マグネトロンスパッタリングの3～5倍の高い成膜速度(0.1～1.2μm/min)を実現し、効率よく量産できます。
廃水、排ガス、廃棄物残留物のない環境に優しいプロセスを提供し、従来の装置と比較して 15 ～ 25% のエネルギー節約を実現します。

FAQ:

この PVD コーティング機はどのような基板を処理できますか?

この装置は、ハードウェア、時計、携帯電話部品、ディスプレイ、医療機器、金型、セラミック、ガラスなどに使用される材料を含む、金属基板と非金属基板の両方をメタライズできます。また、低温で動作するため、ポリマーや精密合金などの熱に弱い基板にも適合します。
マイクロ波プラズマの相乗効果によりコーティングの品質はどのように向上しますか?

マルチアーク放電とマイクロ波プラズマの相乗効果により、イオン化率が 90% 以上に向上し、活性粒子の濃度が増加します。これにより、より緻密な膜が成長し、マクロ粒子などの欠陥が少なくなり、研磨を必要とせずに優れた表面品質が得られます。
従来の PVD 装置と比較したこの装置の主な利点は何ですか?

主な利点としては、硬度と靱性のバランスが取れた膜性能の飛躍的向上、強力な接着力、優れた耐環境性、低温コーティング能力、0.1%未満の低い欠陥率、高い成膜効率、有害な排出物のない環境に優しい省エネ運転が挙げられます。
この真空蒸着装置は通常どの業界で使用されますか?

高性能、低温、低欠陥のコーティング能力により、精密切削工具、金型、航空宇宙、エレクトロニクス、新エネルギー、医療機器、高級装飾、ポリマー複合材料などのハイエンド産業分野で広く使用されています。

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