Machine de revêtement sous vide PVD de type faisceau d'électrons optique d'évaporation pour revêtement de verre

Emballage et livraison

Détails de l'emballage

Film plastique de protection et boîte en bois, emballage d'exportation de conteneur de haute cube standard pour la machine de revêtement sous vide PVD à ions multi-arcs à barrière en acier inoxydable CICEL

Port d'expédition

Guangdong

Unités de vente

Article unique

Taille d'un seul colis

80X25X25 cm

Poids brut unique

10.000 KG

Exemples d'emballage

Lion KingMachine de revêtement optique à faisceau d'électrons

Aperçu de la technologie

La machine de revêtement optique à faisceau d'électrons est un équipement essentiel dans le domaine de la fabrication optique de précision. Elle utilise des faisceaux d'électrons à haute énergie pour faire fondre, évaporer et ioniser des matériaux optiques à point de fusion élevé, puis dépose les matériaux vaporisés sur la surface des substrats pour former des films optiques ultra-minces, uniformes et performants. Ces films sont largement utilisés dans les composants optiques tels que les films antireflet, les films à haute réflectance, les films filtrants et les films de polarisation, qui sont essentiels pour les appareils dans des industries telles que l'optique, l'électronique, l'aérospatiale et les semi-conducteurs.

Principe de fonctionnement

Création d'un environnement sous vide

L'ensemble du processus de revêtement est effectué dans une chambre à vide poussé. Cet environnement sert deux objectifs essentiels :

Empêche le matériau vaporisé de réagir avec l'air ou d'être dispersé par les molécules de gaz, assurant la pureté du film.

Réduit la collision entre les atomes/molécules vaporisés et les molécules de gaz, permettant à la vapeur d'atteindre le substrat en douceur et de former un film dense.

Génération et accélération du faisceau d'électrons

Un canon à électrons génère des électrons par émission thermoionique. Les électrons sont ensuite accélérés par un champ électrique à haute tension pour obtenir une énergie cinétique élevée.

Chauffage et évaporation du matériau cible

Le faisceau d'électrons à haute énergie est focalisé par une lentille magnétique et dirigé vers la surface du matériau cible. L'énergie cinétique des électrons est convertie en énergie thermique lors de la collision avec la cible, chauffant rapidement le matériau jusqu'à sa température d'évaporation (même pour les matériaux avec des points de fusion supérieurs à 2000 °C, comme l'alumine). Le matériau se vaporise ensuite en une vapeur à haute densité composée d'atomes, de molécules ou d'ions.

Dépôt de vapeur et formation du film

Les particules de matériau vaporisé se déplacent en ligne droite dans la chambre à vide et se déposent sur la surface du substrat en rotation. Au fur et à mesure que les particules s'accumulent, elles forment un film mince avec une structure et des propriétés optiques spécifiques.

Surveillance et contrôle in situ

Pendant le processus de revêtement, un microbalance à cristal de quartz ou un système de surveillance optique est utilisé pour suivre en temps réel l'épaisseur du film et l'indice de réfraction. Le système renvoie des données à l'unité de contrôle, qui ajuste des paramètres tels que la puissance du faisceau d'électrons, la température du substrat et le taux de dépôt pour garantir que le film répond aux exigences de conception.

Principaux avantages

Efficacité d'évaporation élevée pour les matériaux à point de fusion élevé

Les faisceaux d'électrons chauffent directement la cible, permettant l'évaporation de matériaux avec des points de fusion > 3000 °C.

Pureté élevée du film

L'environnement sous vide et le chauffage sans contact minimisent les impuretés dans le film.

Contrôle précis de l'épaisseur

Les systèmes de surveillance in situ et la puissance réglable du faisceau d'électrons permettent un contrôle de la précision de l'épaisseur du film jusqu'à ±0,1 nm, répondant aux exigences des films optiques multicouches.

Large compatibilité des matériaux

Compatible avec les oxydes, les fluorures, les métaux et même les céramiques, élargissant les gammes d'applications.

Taux de dépôt élevé

Les taux de dépôt peuvent atteindre 1 à 10 nm/s, améliorant l'efficacité de la production pour les composants optiques en grande série.

Industries d'application

Communication optique

Revêtement de films minces pour fibres optiques et coupleurs optiques, assurant une faible perte de signal pendant la transmission de la lumière.

Électronique grand public

Films antireflet (AR) pour écrans de smartphones/ordinateurs portables. Filtres infrarouges (IR) pour modules de caméra.

Aérospatiale et défense

Films à haute réflectance pour télescopes optiques satellitaires. Films optiques anti-givrage et antibuée pour les pare-brise d'avions.

Semi-conducteurs et optoélectronique

Films diélectriques pour micropuces. Revêtements en couches minces pour diodes électroluminescentes.